JP5574291B2

JP5574291B2 - 露光装置

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Publication number: JP5574291B2
Application number: JP2010046227A
Authority: JP
Inventors: 宏池淵; 悟戸川
Original assignee: NSK Technology Co Ltd
Current assignee: NSK Technology Co Ltd
Priority date: 2010-03-03
Filing date: 2010-03-03
Publication date: 2014-08-20
Anticipated expiration: 2030-03-03
Also published as: JP2011180480A

Description

本発明は、露光装置に関し、より詳細には、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる露光装置に関する。

露光装置は、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタ等を製造するのに使用される。従来、露光装置として、マスクに対して基板を相対的にステップ移動させながら、マスクと基板を接近させた状態でマスクを介してパターン露光用の光を照射して、基板にマスクパターンを露光転写するようにした、所謂、近接露光装置が知られている。

図６は従来の近接露光装置の要部斜視図である。露光装置１０１は、マスクＭを保持するマスクステージ１０２と、基板Ｗを保持する基板ステージ１０３（図６では、理解を容易にするため基板保持部１０４のみ示す）とを備える。マスクステージ１０２の側面には、一対の基準ミラー１０５Ａ, １０５Ｂが離間して配設され、基板ステージ１０３のＸ方向側部とＹ方向側部には、互いに直交する一対のバーミラー１０６がそれぞれ配設されている。また、露光装置１０１の基台（図示せず）には、不図示のレーザー発振器、このレーザー発振器から発振されたレーザー光を基準ミラー１０５Ａ, １０５Ｂ及びバーミラー１０６に向けて分配して照射する偏光ビームスプリッタ１０７、該レーザー光を基準ミラー１０５Ａ, １０５Ｂ及びバーミラー１０６に向けて反射する反射ミラー１０８、及び基準ミラー１０５Ａ, １０５Ｂ及びバーミラー１０６から反射したレーザー光を検出する光検出器１０９などを備えるレーザー干渉計が配置されている。

レーザー干渉計は、基準ミラー１０５Ａ, １０５Ｂからの反射レーザー光を参照光ＲＢとして、バーミラー１０６からの反射レーザー光との干渉縞を光検出器１０９で計数することによって、マスクステージ１０２と基板ステージ１０３との相対位置を測定している。

また、特許文献１に記載の露光装置では、ステップ移動による振動や重心の移動などによって、マスクと基板との相対位置が微小に変化するのを防止すべく、マスクと基板との相対位置を高精度で検出するため、レーザー光源、レーザー干渉計、バーミラーなどを含んで構成されるレーザー測長系を備えたものが考案されている。例えば、マスクホルダのＹ方向の一側面及び基板のチャックのＹ方向の一側面にはそれぞれバーミラーが取り付けられており、３軸干渉計の測定結果から、マスクホルダのＹ方向の位置と、チャックのＹ方向の位置及び回転と、を検出する。また、特許文献１では、基板を載置するために基板ステージが下降して測定用にレーザー光が届かなくなった場合には、別途設けた他のレーザー変位計によってレーザー測長系の基準点を得るようにしている。

特開２００５−３３１５４２号公報

ところで、図６に示した露光装置では、レーザー干渉計は、基準ミラー１０５Ａ, １０５Ｂからの反射レーザー光を参照光ＲＢとして基板ステージ１０３の位置を測定するので、何らかの理由によって参照光ＲＢが遮断されると、基板ステージ１０３の位置測定が不可能となる。このため、マスクＭを交換してから次のマスクに交換されるまでの、マスクＭがマスクステージ１０２に保持されている間は、参照光ＲＢを遮断せずに、マスクステージ１０２及び基板ステージ１０３の位置、及び水平面内での姿勢を測定し続ける必要がある。特に、マスク交換時においては、数分から数時間を要する恒温状態に達するまでの露光装置の経時熱変位を監視する必要がある。

基板ステージ１０３には、不図示の基板ローダが備えるロボットハンド１１０によって基板Ｗが搬送されて載置されるが、ロボットハンド１１０によって参照光ＲＢが遮断されるのを防止するため、マスクステージ１０２と基板ステージ１０３とを、例えば、３００ｍｍ程度離間して配置している。しかしながら、マスクステージ１０２と基板ステージ１０３とが大きく離間していると、それぞれの環境温度が異なり、マスクＭと基板Ｗの熱膨張量が異なることから微妙な変化が生じて、精度のよい露光が困難となる虞がある。

また、特許文献１に記載の露光装置では、マスクステージと基板ステージとの相対位置は制御しているものの、経時熱変位による回転方向の変化は監視しておらず、改善の余地があった。

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）マスクを保持するマスクステージと、
それぞれ被露光材としての基板を保持し、前記マスクに対向配置される露光位置と前記基板を載置するローディング位置との間で移動可能な第１及び第２基板ステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記第１及び第２基板ステージの移動方向と直交する方向の前記マスクステージの両側面に配置されるマスクステージ測長ミラーを備え、前記直交方向に離間した２箇所で、前記マスクステージの絶対位置を測定する一対のマスクステージ位置測定装置と、
前記直交方向の前記第１及び第２基板ステージの側面に沿うように配置された基板ステージ測長ミラーを備え、前記直交方向に離間した２箇所で、前記第１及び第２基板ステージの絶対位置を測定する一対の基板ステージ位置測定装置と、
前記移動方向の前記第１及び第２基板ステージの側面に沿うように配置された他の基板ステージ側長ミラーを備え、前記第１及び第２基板ステージの位置を測定する他の基板ステージ位置測定装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
（２）前記マスクステージ位置測定装置及び前記基板ステージ位置測定装置はそれぞれ、前記マスクが前記マスクステージに保持されている間、前記マスクステージの絶対位置及び前記基板ステージの絶対位置を常時測定していることを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（３）前記マスクステージは、該マスクステージのフレームに対して位置調整可能に支持され、且つ前記マスクを保持するマスク保持部を有し、
前記マスク保持部の微動は、レーザーホロゲージによって位置が制御されることを特徴とする（１）又は（２）に記載の露光装置。

本発明の露光装置によれば、基板ステージの移動方向と直交する方向に離間した２箇所でマスクステージの絶対位置を測定するマスクステージ位置測定装置と、基板ステージの移動方向と直交する方向に離間した２箇所で基板ステージの絶対位置を測定する基板ステージ位置測定装置と、を備えるので、マスクステージ、及び基板ステージの位置と共に、水平面内での姿勢を監視することができる。また、マスクステージ位置測定装置及び基板ステージ位置測定装置は、それぞれマスクステージ及び基板ステージの絶対位置を測定するので、測定途中でレーザー光が遮られることがあっても、レーザー光が復帰したとき、これに影響されることなく、マスクステージ、及び基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を連続して監視することができる。これにより、マスクステージと基板ステージとを接近して配置することができ、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現することができる。

また、マスクステージ位置測定装置及び基板ステージ位置測定装置はそれぞれ、マスクがマスクステージに保持されている間、マスクステージの絶対位置及び基板ステージの絶対位置を常時測定しているので、ステップ移動の際の相対位置のずれだけでなく、マスク交換時において、数分から数時間を要する恒温状態に達するまでの露光装置の経時熱変位による相対位置のずれに対しても補正することができる。

本発明に係る露光装置の全体構成を示す概略平面図である。図１に示す露光装置の正面図である。図２に示す基板ステージの側面図である。本発明に係るマスクステージ位置測定装置及び基板ステージ位置測定装置を備える露光装置の要部斜視図である。本発明に係るマスクステージ位置測定装置からのレーザー光が基板によって遮られた状態を示す露光装置の要部斜視図である。従来のレーザー干渉計を備える露光装置の要部斜視図である。

以下、本発明に係る露光装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の露光装置の全体構成を示す概略平面図、図２は露光装置の要部正面図、図３は基板ステージの側面図である。

図１〜図３に示すように、露光装置ＰＥは、マスクステージ１０、第１基板ステージ１１、第２基板ステージ１２、照射装置１３、プリアライメントユニット１４、第１基板ローダ１５、第２基板ローダ１６、マスクローダ１７、及びマスクアライナ１８を備え、それぞれ基台２１上に載置されている。

マスクステージ１０は、基台２１上に配置された長方形のステージベース２３に設けられた複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１中左右方向）に移動してマスクステージ１０の下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを形成している。

マスクステージ１０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ１０のフレームに対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備える。マスク保持部２５には、下面に複数の吸引孔２５ｂが開設されており、露光すべきパターンを有するマスクＭは、開口２５ａに臨むようにして、真空吸着によって吸引孔２５ｂを介してマスク保持部２５に保持される。また、マスクステージ１０には、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。

図２及び図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１ａ，３１ｂを上部にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える基板ステージ移動機構３２，３２がそれぞれ設けられる。各基板ステージ移動機構３２，３２は、ステージベース２３に対して第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。

具体的に、Ｙ軸送り機構３４は、ステージベース２３とＹ軸テーブル３３との間に、リニアガイド３８とＹ軸送り駆動機構３９とを備える。ステージベース２３上には２本の案内レール４０がＹ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４１が転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、２台のＹ軸テーブル３３，３３が、２本の案内レール４０に沿ってＹ軸方向に沿って移動可能に支持される。

また、ステージベース２３上には、モータ４２によって回転駆動されるボールねじ軸４３が、第１及び第２基板ステージ１１，１２に対応してそれぞれ設けられており、ボールねじ軸４３には、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたボールねじナット４４が螺合されている。

また、Ｘ軸送り機構３６も、図３に示すように、Ｙ軸テーブル３３とＸ軸テーブル３５間に、リニアガイド４５とＸ軸送り駆動機構４６とが設けられている。Ｙ軸テーブル３３上には２本の案内レール４７がＸ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたスライダ４８が転動体（図示せず）を介して跨架される。さらに、Ｙ軸テーブル３３上には、モータ４９によって回転駆動されるボールねじ軸５０が設けられており、ボールねじ軸５０には、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたボールねじナット５１が螺合されている。

一方、Ｚ−チルト調整機構３７は、モータと、ボールねじと、くさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、Ｘ軸テーブル３５の上面に設置したモータ５２によってボールねじ軸５３を回転駆動するとともに、ボールねじナット５４をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を基板ステージ１１，１２の下面に突設したくさび５５の斜面と係合させている。

そして、このボールねじ軸５３を回転駆動させると、ボールねじナット５４がＸ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。この可動くさび機構は、Ｘ軸方向の一端側に２台、他端側に１台（図示せず）合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。

これにより、Ｙ軸送り機構３４は、各基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗを個別にマスクステージ１０の下方位置に配置された露光位置ＥＰに配置すべく、第１基板ステージ１１を第１待機位置（ローディング位置）ＷＰ１と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させ、第２基板ステージ１２を第２待機位置ＷＰ２と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させる。また、Ｘ軸送り機構３６及びＹ軸送り機構３４は、露光位置ＥＰにある基板保持部３１ａ，３１ｂをマスクＭに対してＸ、Ｙ方向にステップ移動させるように第１及び第２基板ステージ１１，１２を移動させる。

第１及び第２基板ステージ１１，１２には、各基板保持部３１ａ，３１ｂのＸ方向側部とＹ方向側部にそれぞれ基板ステージ測長ミラー６１，６２が取り付けられている。ステージベース２３のＹ軸方向の両側と、ステージベース２３のＸ軸方向の一側には、基板ステージ１１，１２の位置を測定する基板ステージ位置測定装置６３，６４，６５が設けられている。また、マスクステージ１０のＸ方向両側部には、Ｙ方向に離間する２ヶ所にマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂが取り付けられている。ステージベース２３のＹ軸方向の両側には、マスクステージ１０の位置を測定するマスクステージ位置測定装置６６が設けられている。

基板ステージ位置測定装置６３，６４，６５及び、マスクステージ位置測定装置６６は、同一構造を有するレーザー測長計であり、基板ステージ測長ミラー６１，６２及びマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂにレーザー光を照射し、基板ステージ測長ミラー６１，６２及びマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂからの反射光を受光して各基板ステージ１１，１２、及びマスクステージ１０の位置を検出する。なお、マスクＭを保持するマスク保持部２５の微動は、マスクステージ１０のフレームに保持された図示しないレーザーホロゲージによって位置を制御されている。

図２に示すように、照射装置１３はマスク保持部２５の開口２５ａ上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照射装置１３は、露光位置に移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンＰが露光転写される。

プリアライメントユニット１４は、基台２１の外側に設置された基板カセット７０Ａ，７０Ｂから搬送された基板Ｗが、第１基板ステージ１１または第２基板ステージ１２に供給されるのに先立って、マスクＭに対する基板Ｗの位置をプリアライメントするものであり、図中、マスクステージ１０の手前側に配置されている。

第１基板ローダ１５は、図１中プリアライメントユニット１４の右側方に配置され、第１基板ステージ１１に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送し、さらに、第１待機位置ＷＰ１に位置する第１基板ステージ１１上の露光転写後の基板Ｗを基板カセット７０Ａへ搬送する。第２基板ローダ１６は、図１中プリアライメントユニット１４の左側に配置され、第２基板ステージ１２に対して、第１基板ローダ１５と同様の操作を行う。

また、マスクローダ１７及びマスクアライナ１８は、第１基板ステージ１１に対して第１基板ローダ１５と対向配置されている。ローダロボットであるマスクローダ１７は、基台２１の外側に設けられたマスクカセット９１からマスクＭを搬入し、マスクアライナ１８でプリアライメントされたマスクＭを第１基板ステージ１１へ搬送し、搬送されたマスクＭは、第１基板ステージ１１によってマスクステージ１０へ供給される。

次に、図４を参照して、第１の基板ステージ１１及びマスクステージ１０の位置を検出する基板ステージ位置測定装置６３、及びマスクステージ位置測定装置６６について説明する。

本実施形態の基板ステージ位置測定装置６３及びマスクステージ位置測定装置６６は、不図示の１台のレーザー発振器から照射されるレーザー光ＬＢを、偏光ビームスプリッタ８０によって、基板ステージ位置測定用レーザー光ＷＬＢと、マスクステージ位置測定用レーザー光ＭＬＢとに分配し、これらのレーザー光ＷＬＢ及びＭＬＢをそれぞれ基板ステージ１１及びマスクステージ１０に向けて照射する。

基板ステージ位置測定用レーザー光ＷＬＢは、偏光ビームスプリッタ８１で分離され、一方のレーザー光ＷＬＢが偏光ビームスプリッタ８２を通過して基板ステージ測長ミラー６１の第１測定点７２Ａに照射され、また、他方のレーザー光ＷＬＢが反射ミラー８３で方向が変更され、偏光ビームスプリッタ８４を通過して基板ステージ測長ミラー６１の第２測定点７２Ｂに照射される。偏光ビームスプリッタ８３，８４に取り付けられた光検出器７３Ａ,７３Ｂは、レーザー発振器からの各レーザー光ＷＬＢと、基板ステージ測長ミラー６１の第１、第２測定点７２Ａ, ７２Ｂからの各反射光との干渉を測定し、基板ステージ測長ミラー６１、即ち、第１基板ステージ１１の絶対位置及び水平面内での姿勢（回転）を検出する。

また、マスクステージ位置測定用レーザー光ＭＬＢは、同様に、反射ミラー８５で方向を変更した後、偏光ビームスプリッタ８６で分離され、一方のレーザー光ＭＬＢが偏光ビームスプリッタ８７を通過してマスクステージ測長ミラー７１Ａに照射され、他方のレーザー光ＭＬＢは反射ミラー８８で方向が変更され、偏光ビームスプリッタ８９を通過してマスクステージ測長ミラー７１Ｂに照射される。偏光ビームスプリッタ８７，８９に取り付けられた光検出器７４Ａ,７４Ｂは、レーザー発振器からの各レーザー光ＭＬＢと、マスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂからの各反射光との干渉を測定し、マスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂ、即ち、マスクステージ１０の絶対位置及び水平面内での姿勢（回転）を検出する。

基板ステージ位置測定装置６３及びマスクステージ位置測定装置６６は、マスクＭを交換してから次のマスクに交換されるまでの、マスクＭがマスクステージ１０２に保持されている間、それぞれ基板ステージ１１及びマスクステージ１０の絶対位置及び水平面内での姿勢を常時検出している。

例えば、基板Ｗのステップ移動の際、それぞれ基板ステージ１１及びマスクステージ１０の絶対位置及び水平面内での姿勢を検出することで、マスクＭと基板Ｗとの相対位置を高精度に測定する。そして、該相対位置に基づいて、図示しない制御部は、該相対位置を一定に保つように第１基板ステージ１１の制御を補正する。

また、マスク交換時においては、数分から数時間を要する恒温状態に達するまでに、露光装置に経時熱変位が生じる場合があるため、マスクステージ１０及び基板ステージ１１の位置、及び水平面内での姿勢を測定して、制御部は、相対位置を補正する必要がある。なお、マスク交換が行われた際には、基板ステージ１１及びマスクステージ１０の位置がリセットされる。

本実施形態では、基板ステージ位置測定装置６３及びマスクステージ位置測定装置６６が独立して、それぞれ基板ステージ１１及びマスクステージ１０の位置及び水平面内での姿勢を検出しているので、図５に示すように、第１基板ローダ１５のロボットハンド９１によって測定途中にマスクステージ位置測定用レーザー光ＭＬＢが短時間遮断されるようなことがあっても、レーザー光ＭＬＢの回復後は、従来通り、基板ステージ１１及びマスクステージ１０の位置を測定することができる。これにより、レーザー光ＬＢの遮断を考慮することなく、マスクステージ１０と基板ステージ１１，１２とを接近して配置することができ、環境温度を略同じにしてマスクＭと基板Ｗの熱膨張の差を抑制することができる。
なお、第２基板ステージ１２側に設けられた、基板ステージ位置測定装置６４及びマスクステージ位置測定装置６６も、同様の構成を有する。

以上説明したように、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間した２箇所のマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂでマスクステージ１０の位置を測定するマスクステージ位置測定装置６６と、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間した２箇所の測定点７２Ａ,７２Ｂで基板ステージ１１,１２の位置を測定する基板ステージ位置測定装置６３,６４と、を備えるので、マスクステージ１０、及び基板ステージ１１,１２の位置と共に、水平面内での姿勢を監視することができる。

また、マスクステージ位置測定装置６６及び基板ステージ位置測定装置６３,６４は、それぞれマスクステージ１０及び基板ステージ１１,１２の絶対位置を測定するので、測定途中でレーザー光ＭＬＢが遮られることがあっても、レーザー光ＭＬＢが復帰したとき、これに影響されることなく、マスクステージ１０、及び基板ステージ１１,１２の位置及び水平面内での姿勢を監視することができる。さらに、マスクステージ１０と基板ステージ１１,１２とを接近して配置することができ、環境温度を略同じにしてマスクＭと基板Ｗの熱膨張の差を抑制し、高精度な露光を実現することができる。

また、マスクステージ位置測定装置６６及び基板ステージ位置測定装置６３，６４はそれぞれ、マスクＭがマスクステージ１０に保持されている間、マスクステージ１０の絶対位置及び基板ステージ１１，１２の絶対位置を常時測定しているので、ステップ移動の際の相対位置のずれだけでなく、マスク交換時において、数分から数時間を要する恒温状態に達するまでの露光装置の経時熱変位による相対位置のずれに対しても補正することができる。

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。

１０マスクステージ
１１，１２基板ステージ
１３照射装置
６１，６２基板ステージ測長ミラー
６３，６４，６５基板ステージ位置測定装置
６６マスクステージ位置測定装置
７１Ａ，７１Ｂマスクステージ測長ミラー
ＥＰ露光位置
Ｍマスク
ＰＥ露光装置
Ｗ基板
ＷＰ１，ＷＰ２待機位置（ローディング位置）

Claims

マスクを保持するマスクステージと、
それぞれ被露光材としての基板を保持し、前記マスクに対向配置される露光位置と前記基板を載置するローディング位置との間で移動可能な第１及び第２基板ステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記第１及び第２基板ステージの移動方向と直交する方向の前記マスクステージの両側面に配置されるマスクステージ測長ミラーを備え、前記直交方向に離間した２箇所で、前記マスクステージの絶対位置を測定する一対のマスクステージ位置測定装置と、
前記直交方向の前記第１及び第２基板ステージの側面に沿うように配置された基板ステージ測長ミラーを備え、前記直交方向に離間した２箇所で、前記第１及び第２基板ステージの絶対位置を測定する一対の基板ステージ位置測定装置と、
前記移動方向の前記第１及び第２基板ステージの側面に沿うように配置された他の基板ステージ側長ミラーを備え、前記第１及び第２基板ステージの位置を測定する他の基板ステージ位置測定装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
前記マスクステージ位置測定装置及び前記基板ステージ位置測定装置はそれぞれ、前記マスクが前記マスクステージに保持されている間、前記マスクステージの絶対位置及び前記基板ステージの絶対位置を常時測定していることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
前記マスクステージは、該マスクステージのフレームに対して位置調整可能に支持され、且つ前記マスクを保持するマスク保持部を有し、
前記マスク保持部の微動は、レーザーホロゲージによって位置が制御されることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。