JP5574054B1 - 液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
下記式（ｉ）で表される化合物、及び、下記一般式（ｉｉ）（式中、Ｒｉｉ１及びＲｉｉ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシル基又は炭素原子数４〜５のアルケニル基を表し、Ｘｉｉ１及びＸｉｉ２は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子を表す）で表される化合物を含有する液晶組成物、およびこれを用いた液晶表示素子を提供する。
【化１】
【化１】
Description
本発明は液晶表示材料として有用な誘電率異方性（Δε）が正の値を示すネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子に関する。
液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的刺激に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。更に液晶組成物は個々の表示素子にとって誘電率異方性（Δε）や屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値とするために、数種類から数十種類の化合物から構成されている。
垂直配向（ＶＡ）型ディスプレイではΔεが負の液晶組成物が用いられており、ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等の水平配向型ディスプレイではΔεが正の液晶組成物が用いられている。また、Δεが正の液晶組成物を電圧無印加時に垂直に配向させ、横電界を印加する事で表示する駆動方式も報告されており、Δεが正の液晶組成物の必要性は更に高まっている。一方、全ての駆動方式において低電圧駆動、高速応答、広い動作温度範囲が求められている。すなわち、Δεが正で絶対値が大きく、粘度（η）が小さく、高いネマチック相−等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が要求されている。また、Δｎとセルギャップ（ｄ）との積であるΔｎ×ｄを所定値に設定するために、液晶組成物のΔｎをセルギャップに合わせて適当な範囲に調節する必要がある。加えて液晶表示素子をテレビ等へ応用する場合においては高速応答性が重視されるため、回転粘性（γ１）の小さい液晶組成物が要求される。
高速応答性を志向した液晶組成物の構成として、例えば、Δεが正の液晶化合物である式（Ａ−１）や（Ａ−２）で表される化合物、及びΔεが中性の液晶化合物である（Ｂ）を組み合わせて使用した液晶組成物の開示がされている。これらの液晶組成物の特徴として、Δεが正の液晶化合物が−ＣＦ２Ｏ−構造を有することやΔεが中性の液晶化合物がアルケニル基を有することは、液晶組成物の分野では広く知られている（特許文献１〜４）。
一方で、液晶表示素子の用途が拡大するに至り、その使用方法、製造方法にも大きな変化が見られる。これらの変化に対応するためには、従来知られているような基本的な物性値以外の特性を最適化することが求められるようになった。すなわち、液晶組成物を使用する液晶表示素子はＶＡ型やＩＰＳ型等が広く使用されるに至り、その大きさも５０型以上の超大型サイズの表示素子が実用化されるに至り使用されるようになった。基板サイズの大型化に伴い、液晶組成物の基板への注入方法も変化し、従来の真空注入法から滴下注入（ODF：One Drop Fill）法が注入方法の主流となった。しかし、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕が表示品位の低下を招く問題が表面化するに至った。
更に、ODF法による液晶表示素子製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な量を滴下する必要がある。滴下量のずれが最適値から大きくなると、あらかじめ設計された液晶表示素子の屈折率や駆動電界のバランスが崩れ、斑発生やコントラスト不良などの表示不良が生じる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶滴下量が少ないために、最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しい。従って、液晶表示素子の製造歩留まりを高く保持するために、液晶組成物には、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃による影響が少なく、長時間にわたって安定的に滴下を継続できることが求められている。
更に、ODF法による液晶表示素子製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な量を滴下する必要がある。滴下量のずれが最適値から大きくなると、あらかじめ設計された液晶表示素子の屈折率や駆動電界のバランスが崩れ、斑発生やコントラスト不良などの表示不良が生じる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶滴下量が少ないために、最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しい。従って、液晶表示素子の製造歩留まりを高く保持するために、液晶組成物には、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃による影響が少なく、長時間にわたって安定的に滴下を継続できることが求められている。
このように、ＴＦＴ素子等で駆動するアクティブマトリックス駆動液晶表示素子に使用される液晶組成物おいては、液晶表示素子の製造方法を考慮しつつ、液晶表示素子として求められている高速応答性能、高い比抵抗値、高い電圧保持率、あるいは、光や熱等の外部刺激に対する安定性の向上を追求した開発が求められてきている。
本発明が解決しようとする課題は、Δεが正の液晶組成物であって、広い温度範囲の液晶相を有し、粘性が小さく、低温での溶解性が良好で、比抵抗や電圧保持率が高く、熱や光に対して安定な液晶組成物を提供し、更にこれを用いることで、焼き付きや滴下痕等に起因する表示不良が抑制されて優れた表示品位を呈する液晶表示素子を歩留まりよく提供すること、及びこの液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することにある。
本発明は以下の態様を包含するものである。
（１） 正の誘電率異方性を有する液晶組成物であって、式（ｉ）で表される化合物、一般式（ｉｉ）で表される化合物、一般式（ＩＩ−２）で表される化合物、式（２３．１）で表される化合物、及び下記式（２６．２）で表される化合物を含有し、液晶組成物の総質量に対する、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の含有量が６〜３５質量％である。
（１） 正の誘電率異方性を有する液晶組成物であって、式（ｉ）で表される化合物、一般式（ｉｉ）で表される化合物、一般式（ＩＩ−２）で表される化合物、式（２３．１）で表される化合物、及び下記式（２６．２）で表される化合物を含有し、液晶組成物の総質量に対する、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の含有量が６〜３５質量％である。
前記一般式（ｉｉ）中、Ｒｉｉ１及びＲｉｉ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシル基又は炭素原子数４〜５のアルケニル基を表し、Ｘｉｉ１及びＸｉｉ２は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子を表す。
前記一般式（ＩＩ−２）中、Ｒ ２３ は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ ２４ は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＩＩ−２）中、Ｒ ２３ は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ ２４ は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
（２）前記組成物の総量に対して、前記式（ｉ）で表される化合物を１質量％以上３０質量％以下含有し、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を１質量％以上４０質量％以下含有する前記（１）項に記載の組成物。
（３）一般式（Ｌ）で表される少なくとも１種の化合物を更に含有する前記（１）又は（２）項に記載の組成物。
前記式中、
ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＯＬは０、１、２又は３を表し、
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物、及び前記式（２３．１）で表される化合物を除く。
ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＯＬは０、１、２又は３を表し、
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物、及び前記式（２３．１）で表される化合物を除く。
（４）一般式（Ｍ）で表される少なくとも１種の化合物を更に含有する前記（１）〜（３）項のいずれか一項に記載の組成物。
前記式中、
ＲＭ１は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｅ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表すが、前記式（ｉ）で表される化合物、及び前記式（２６．２）で表される化合物を除く。
ＲＭ１は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｅ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表すが、前記式（ｉ）で表される化合物、及び前記式（２６．２）で表される化合物を除く。
（５） 前記（１）〜（４）項のいずれか一項に記載の液晶組成物を使用した液晶表示素子。
（６） 表示方式がＩＰＳモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（７） 表示方式がＯＣＢモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（８） 表示方式がＥＣＢモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（９） 表示方式がＶＡモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（１０） 表示方式がＶＡ−ＩＰＳモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（１１） 表示方式がＦＦＳモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（１２） 前記（５）〜（１１）項のいずれか一項に記載の液晶表示素子を使用したことを特徴とする液晶表示ディスプレイ。
（６） 表示方式がＩＰＳモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（７） 表示方式がＯＣＢモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（８） 表示方式がＥＣＢモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（９） 表示方式がＶＡモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（１０） 表示方式がＶＡ−ＩＰＳモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（１１） 表示方式がＦＦＳモードである前記(５)項に記載の液晶表示素子。
（１２） 前記（５）〜（１１）項のいずれか一項に記載の液晶表示素子を使用したことを特徴とする液晶表示ディスプレイ。
本発明の正の誘電率異方性を有する組成物は、低い粘性、高い比抵抗、および高い電圧保持率を保持しつつ、従来よりも低温での溶解性が顕著に向上されたものであり、ＯＤＦ法による液晶表示素子製造工程において長期にわたる安定的な滴下の継続を可能とするものである。このため、本発明の組成物は、製造工程に起因する表示不良が抑制されて優れた表示品位を呈する液晶表示素子を歩留まり高く製造でき、液晶製品への実用性（適用性）が高く、これを用いたＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型やＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）型等の液晶表示素子は高速応答を達成できる。
本発明の液晶組成物は、正の誘電率異方性を有する液晶組成物であって、下記式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有する。以下に当該液晶組成物についての説明を行うが、特に明示されない「％」は「質量％」を意味する。また、各化合物の好ましい含有量としては、当該化合物が液晶組成物に配合される場合の好ましい含有量が例示される（ただし、下限値が０質量％とされる場合を除く）。
一般式（ｉｉ）中、Ｒｉｉ１及びＲｉｉ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシル基又は炭素原子数４〜５のアルケニル基を表し、Ｘｉｉ１及びＸｉｉ２は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子を表す。
前記液晶組成物中における式（ｉ）で表される化合物の含有量は、特に限定されないが、前記液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上であることが好ましく、３質量％以上が好ましく、４質量％以上が好ましく、８質量％以上が好ましい。一方、低温での溶解性、ネマチック相−等方性液体相転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、前記液晶組成物中における式（ｉ）で表される化合物の含有量は、前記液晶組成物の総質量に対して、３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることが好ましく、１７質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることが好ましく、１４質量％以下であることが好ましく、１２質量％以下であることが好ましく、８質量％以下であることが好ましく、６質量％以下であることが好ましく、５質量％以下あることが好ましい。これらの中でも、前記液晶組成物中における式（ｉ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることが好ましく、２〜１４質量％であることが好ましく、２〜１２質量％であることが好ましく、２〜８質量％であることが好ましく、２〜６質量％であることが好ましく、２〜５質量％であることが好ましく、３〜１４質量％であることが好ましく、４〜１４質量％であることが好ましく、８〜１４質量％であることが好ましく、２〜１２質量％であることが好ましく、３〜１２質量％であることが好ましく、４〜１２質量％であることが好ましく、８〜１２質量％であることが好ましく、２〜８質量％であることが好ましく、３〜８質量％であることが好ましく、４〜８質量％であることが好ましい。
前記液晶組成物中における一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、応答速度、電気的、光学的信頼性の観点から、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上含有することが好ましく、３質量％以上含有することが好ましく、５質量％以上が好ましく、８質量％以上が好ましく、１３質量％以上が好ましく、２０質量％以上が好ましく、２１質量％以上が好ましい。一方、前記液晶組成物中における一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、４０質量％以下含有することが好ましく、３５質量％以下含有することが好ましく、３０質量％以下含有することが好ましく、２６質量％以下含有することが好ましく、１８質量％以下含有することが好ましく、１２質量％以下含有することが好ましく、１０質量％以下含有することが好ましい。これらの中でも、前記液晶組成物中における一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１〜４０質量％であることが好ましく、１〜３５質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２６質量％であることが好ましく、１〜１８質量％であることが好ましく、１〜１２質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが好ましく、８〜３０質量％であることが好ましく、１３〜３０質量％であることが好ましく、２０〜３０質量％であることが好ましく、２１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２６質量％であることが好ましく、８〜２６質量％であることが好ましく、１３〜２６質量％であることが好ましく、２０〜２６質量％であることが好ましく、２１〜２６質量％であることが好ましく、５〜１８質量％であることが好ましく、５〜１２質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることが好ましく、８〜１８質量％であることが好ましく、１３〜１８質量％であることが好ましく、８〜１２質量％であることが好ましい。
前記液晶組成物中における、式（ｉ）で表される化合物の含有量と一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、ネマチック相−等方性液体相転移温度、応答速度、電気的、光学的信頼性の観点から、本発明の液晶組成物の総質量に対して、式（ｉ）で表される化合物の含有量が１質量％以上３０質量％以下であり、かつ、一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量が１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、式（ｉ）で表される化合物の含有量が１質量％以上２０質量％以下であり、かつ、一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量が１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、式（ｉ）で表される化合物の含有量が２質量％以上１４質量％以下であり、かつ、一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量が５質量％以上２６質量％以下であることが好ましい。
式（ｉ）で表される化合物と一般式（ｉｉ）で表される化合物の合計の含有量は、前記液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることが好ましく、１２質量％以上が好ましく、２２質量％以上が好ましく、２５質量％以上が好ましく、２６質量％以上が好ましい。一方、式（ｉ）で表される化合物と一般式（ｉｉ）で表される化合物の合計の含有量は、前記液晶組成物の総質量に対して、５０質量％以下であることが好ましく、４５質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以下であることが好ましく、３２質量％以下であることが好ましく、２９質量％以下であることが好ましく、２８質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることが好ましく、１８質量％以下であることが好ましく、１７質量％以下であることが好ましい。これらの中でも、式（ｉ）で表される化合物と一般式（ｉｉ）で表される化合物の合計の含有量は、前記液晶組成物の総質量に対して、２〜５０質量％であることが好ましく、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％であることが好ましく、１２〜５０質量％であることが好ましく、２２〜５０質量％であることが好ましく、２５〜５０質量％であることが好ましく、２６〜５０質量％であることが好ましく、５〜４５質量％が好ましく、５〜３５質量％が好ましく、５〜３２質量％が好ましく、５〜２９質量％であることが好ましく、５〜２８質量％であることが好ましく、５〜２５質量％であることが好ましく、５〜１８質量％であることが好ましく、５〜１７質量％であることが好ましく、１０〜３２質量％であることが好ましく、１０〜２９質量％であることが好ましく、１０〜２８質量％であることが好ましく、１０〜２５量％であることが好ましく、１０〜１８量％であることが好ましく、１０〜１７量％であることが好ましく、１２〜３２量％であることが好ましく、２２〜３２量％であることが好ましく、２５〜３２量％であることが好ましく、２５〜３２量％であることが好ましく、１２〜１７量％であることが好ましく、２２〜２９量％であることが好ましく、２５〜２８量％であることが好ましい。
前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は、本発明の液晶組成物において少なくとも１種含有される。前記一般式（ｉｉ）で表される化合物が少なくも２種配合される場合は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わされる。
前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は、下記一般式（ｉｉ−１）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ｉｉ−１）中、Ｒｉｉ１ａとＲｉｉ２ａは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。
前記一般式（ｉｉ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ｉｉ−１）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１４質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜１１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１４質量％である。
さらに、一般式（ｉｉ−１）で表される化合物は、例えば式（ｉｉ．１．１）から式（ｉｉ．１．９）で表される化合物群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜３種類含有することが好ましく、１種〜４種類含有することがさらに好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（ｉｉ．１．１）または式（ｉｉ．１．２）で表される化合物から１種類、式（ｉｉ．１．４）または式（ｉｉ．１．５）で表される化合物から１種類、式（ｉｉ．１．６）または式（ｉｉ．１．７）で表される化合物から１種類、式（ｉｉ．１．８）または式（ｉｉ．１．９）で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。その中でも、式（ｉｉ．１．１）、式（ｉｉ．１．３）、式（ｉｉ．１．４）、式（ｉｉ．１．６）および式（ｉｉ．１．９）で表される化合物を含むことが好ましい。
また、１種のみを含有する場合には、式（ｉｉ．１．４）で表される化合物を選択することが好ましく、２種を含有する場合には式（ｉｉ．１．１）及び（ｉｉ．１．６）で表される化合物を選択することが好ましく、３種を含有する場合には、式（ｉｉ．１．１）、（ｉｉ．１．４）及び（ｉｉ．１．６）で表される化合物を選択することが好ましい。
また、１種のみを含有する場合には、式（ｉｉ．１．４）で表される化合物を選択することが好ましく、２種を含有する場合には式（ｉｉ．１．１）及び（ｉｉ．１．６）で表される化合物を選択することが好ましく、３種を含有する場合には、式（ｉｉ．１．１）、（ｉｉ．１．４）及び（ｉｉ．１．６）で表される化合物を選択することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は、例えば一般式（ｉｉ−２）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ｉｉ−２）中、Ｒｉｉ１ｂ及びＲｉｉ２ｂは、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表すが、少なくとも１つは炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｘｉｉ１ｂ及びＸｉｉ２ｂは、それぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わされる。
前記一般式（ｉｉ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ｉｉ−２）で表される化合物の含有量は１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることが好ましく、１〜１３質量％であることが好ましい。これらの中で、例えば、１〜１２質量％、１〜１１質量％、１〜８質量％、１〜５質量％、４〜１２質量％、５〜１２質量％、８〜１２質量％、１１〜１２質量％、４〜８質量％、或いは、８〜１２質量％が好ましい。
さらに、一般式（ｉｉ−２）で表される化合物は、例えば式（ｉｉ．２．１）から式（ｉｉ．２．８）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、その中でも、式（ｉｉ．２．２）で表される化合物であることが好ましい。
液晶組成物の成分として選ばれる化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、液晶組成物の溶解性向上の観点からは、例えば、式（ｉｉ．２．１）又は（ｉｉ．２．２）で表される化合物から１種類、式（ｉｉ．２．３）又は（ｉｉ．２．４）で表される化合物から１種類、式（ｉｉ．２．５）又は式（ｉｉ．２．６）で表される化合物から１種類、式（ｉｉ．２．７）又は（ｉｉ．２．８）で表される化合物から１種類の化合物をそれぞれ選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（ｉｉ．２．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２０質量％以下が好ましく、５質量％以上１５質量％以下が好ましく、７質量％以上１５質量％以下が好ましく、１０質量％以上１２質量％以下が好ましい。
本発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｌ）で表される化合物を少なくとも１種類含有することができる。
前記一般式（Ｌ）中、ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよい。
ＯＬは０、１、２又は３を表す。
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）１，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表す。上記の基（ａ）、基（ｂ）中の少なくとも１個の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良い。
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。
ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。
ただし、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は除く。
ＯＬは０、１、２又は３を表す。
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）１，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表す。上記の基（ａ）、基（ｂ）中の少なくとも１個の水素原子は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良い。
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。
ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。
ただし、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は除く。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率（屈折率異方性）などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。更に、本発明の別の実施形態では４種類である。更に、本発明の別の実施形態では５種類である。更に、本発明の別の実施形態では６種類である。更に、本発明の別の実施形態では７種類である。更に、本発明の別の実施形態では８種類である。更に、本発明の別の実施形態では９種類である。更に、本発明の別の実施形態では１０種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２０〜９５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４４〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５７〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６７〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８９〜９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜９２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜９０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜５７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０〜４６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜９２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４４〜９２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５７〜９２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６７〜９２質量％であるさらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８９〜９２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜９０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜５７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜４９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜４６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４４〜４６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４９〜５７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５７〜６７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５７〜９０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６７〜９０質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。
ＲＬ１及びＲＬ２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（又はそれ以上）のアルコキシ基、又は炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン、又はジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４（又はそれ以上）のアルコキシ基、又は直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
一般式（Ｌ）で表される化合物は液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。
一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物群から選ばれる化合物が好ましい。
一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物群から選ばれる化合物が好ましい。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ａ１１及びＡ１２は、それぞれ独立して、１,４-シクロヘキシレン基、１,４-フェニレン基、２−フルオロ−１,４-フェニレン基又は３−フルオロ−１,４-フェニレン基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。更に、本発明の別の実施形態では４種類である。更に、本発明の別の実施形態では５種類である。更に、本発明の別の実施形態では６種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１０〜６０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜５５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜１７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜３７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜４８質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。
Ｒ１１及びＲ１２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、又は炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン又はジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基、又は直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−１）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。更に、本発明の別の実施形態では４種類である。更に、本発明の別の実施形態では５種類以上である。
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−１）で表される化合物が配合される場合、当該化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−１）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１０〜６０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜５５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜１７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜３７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３〜４８質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。
あるいは／さらに、一般式（Ｉ−１）で表される化合物は一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−１−１）中、Ｒ１２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、又は炭素原子数１〜５のアルコキシ基を表す。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１２質量％である。
さらに、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物は、式（１．１）から式（１．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（１．２）または式（１．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１．３）で表される化合物であることが好ましい。
式（１．２）または式（１．３）で表される化合物がそれぞれ単独で使われる場合は、式（１．２）で表される化合物の含有量は高めであることが応答速度の改善に効果があり、式（１．３）で表される化合物の含有量は下記に示す範囲が応答速度の速く電気的、光学的に信頼性が高い液晶組成物ができるので好ましい。
式（１．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜２５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜１２質量％である。
あるいは／さらに、一般式（Ｉ−１）で表される化合物は一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ１２は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、又は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜５０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜４１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜４１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜４１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１４〜４１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７〜４１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜３９質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜２６質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜１７質量％である。
さらに、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物は、式（２．１）から式（２．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（２．２）から式（２．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（２．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（２．３）または式（２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（２．３）および式（２．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために３０質量％以上にすることは好ましくない。
本発明の液晶組成物において、式（２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、５質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上４５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上４５質量％以下であることが好ましくい。これらの中で、１２質量％４１質量％以下、１２質量％以上３９質量％以下、１２質量％以上２６質量％以下、１２質量％以上１７質量％以下、１４質量％以上４１質量％以下、１４質量％以上３９質量％以下、１４質量％以上２６質量％以下、２７質量％以上４１質量％以下、が好ましい。
本発明の液晶組成物において、式（２．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、５質量％２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。
本発明の液晶組成物において、式（２．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１質量％２０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上７質量％以下であることが好ましい。
本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物と類似した構造を有する式（２．５）で表される化合物を含有することもできる。
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて前記式（２．５）で表される化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜４０質量％含有することが好ましく、１〜３５質量％含有することが好ましく、１〜３０質量％含有することが好ましく、５〜２８質量％含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−２）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｉ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−２）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜３０質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、一般式（Ｉ−２）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２３質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。
さらに、前記一般式（Ｉ−２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）および／または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（３．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（３．３）および／または式（３．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（３．３）および式（３．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０質量％以上にすることは好ましくない。
本発明の液晶組成物において、前記式（３．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。より好ましい含有量としては、例えば、３質量％以上４０質量％以下、４質量％以上４０質量％以下、１０質量％以上４０質量％以下、１２質量％以上４０質量％以下、１４質量％以上４０質量％以下、１６質量％以上４０質量％以下、２０質量％以上４０質量％以下、２３質量％以上４０質量％以下、２６質量％以上４０質量％以下、３０質量％以上４０質量％以下、３４質量％以上４０質量％以下、３７質量％以上４０質量％以下、或いは、３質量％以上４質量％以下、３質量％以上１０質量％以下、３質量％以上１２質量％以下、３質量％以上１４質量％以下、３質量％以上１６質量％以下、３質量％以上２０質量％以下、３質量％以上２３質量％以下、３質量％以上２６質量％以下、３質量％以上３０質量％以下、３質量％以上３４質量％以下、３質量％以上３７質量％以下が挙げられる。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−３）中、Ｒ１３は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ１５は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｉ−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−３）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜５質量％である。
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−３）で表される化合物は、式（４．１）から式（４．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（４．３）で表される化合物であることが好ましい。
前記式（４．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、８質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることが好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが特に好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−４）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｉ−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−４）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、２〜１０質量％である。
高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いＴｎｉを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
さらに、一般式（Ｉ−４）で表される化合物は、式（５．１）から式（５．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（５．２）から式（５．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記式（５．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。これらの中でも、例えば、４質量％以上３０質量％以下、６質量％以上３０質量％以下、８質量％以上３０質量％以下、１０質量％以上３０質量％以下、１２質量％以上３０質量％以下、１４質量％以上３０質量％以下、１６質量％以上３０質量％以下、１８質量％以上３０質量％以下、２０質量％以上３０質量％以下、２２質量％以上３０質量％以下、２３質量％以上３０質量％以下、２４質量％以上３０質量％以下、２５質量％以上３０質量％以下、或いは、４質量％以上６質量％以下、４質量％以上８質量％以下、４質量％以上１０質量％以下、４質量％以上１２質量％以下、４質量％以上１４質量％以下、４質量％以上１６質量％以下、４質量％以上１８質量％以下、４質量％以上２０質量％以下、４質量％以上２２質量％以下、４質量％以上２３質量％以下、４質量％以上２４質量％以下、４質量％以上２５質量％以下、が好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−５）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−５）中、Ｒ１１は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｉ−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｉ−５）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜３０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は８〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜５質量％である。
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−５）で表される化合物は、式（６．１）から式（６．６）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（６．３）、式（６．４）、および／または、式（６．６）で表される化合物であることが好ましい。
例えば、前記式（６．６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、９質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることが好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが好ましい。
本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｉ−５）で表される化合物として式（６．７）、および／または、式（６．８）で表される化合物を含有することもできる。
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて前記式（６．７）であらわされる化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上２７質量％以下含有することが好ましく、５質量％以上２５質量％以下含有することが好ましく、７質量％以上２３質量％以下含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−６）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記式（Ｉ−６）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ１１及びＸ１２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｘ１１又はＸ１２のどちらか一方はフッ素原子である。
前記一般式（Ｉ−６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、９質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることが好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが好ましい。
さらに、一般式（Ｉ−６）で表される化合物は、式（７．１）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−７）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ１２はフッ素原子又は塩素原子を表す。
前記一般式（Ｉ−７）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
さらに、一般式（Ｉ−７）で表される化合物は、式（８．１）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ−８）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−８）中、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、炭素原子数２〜５のアルケニル基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、１種類から３種類を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｉ−８）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて、本発明の液晶組成物の総質量に対して１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１８質量％であることが好ましく、３〜１８質量％であることが好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−８）で表される化合物は、式（９．１）から式（９．１０）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（９．２）、式（９．４）、および／または、式（９．７）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ２は１，４−シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基を表し、Ｑ２は単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−又はＣＦ２Ｏ−を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の更に別の実施形態では３種類である。更に、本発明の別の実施形態では４種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３〜３５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６〜２１質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜１８質量％である。
さらに、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−１）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−１）中、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＩＩ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４質量％以上２４質量％以下が好ましく、８質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上１４質量％以下であることが更に好ましい。
さらに、一般式（ＩＩ−１）で表される化合物は、例えば式（１０．１）、及び／又は、式（１０．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−２）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−２）中、Ｒ２３は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ２４は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３〜３５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜３０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１８質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１２質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３〜１１質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜２０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜１２質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は６〜１１質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３〜１５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５〜１８質量％である。
さらに、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物は、例えば式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１１．１）で表される化合物を含有していても、式（１１．２）で表される化合物を含有していても、式（１１．１）で表される化合物と式（１１．２）で表される化合物との両方を含有していても良いし、式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物を全て含んでいても良い。
前記式（１１．１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１〜３０質量％であることが好ましく、２〜２５質量％であることが好ましく、２〜２０質量％であることが好ましく、２〜１５質量％であることが好ましい。これらの中でも、例えば、４〜１５質量％、４〜１３質量％、４〜１２質量％、４〜１１質量％、５〜１５質量％、６〜１５質量％、７〜１５質量％、８〜１５質量％、６〜１１質量％、７〜１３質量％が好ましい。
また、前記式（１１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることが好ましい。これらの中でも、例えば、一つの実施形態では１〜１０質量％であることが好ましく、２〜１０質量％であることが好ましく、４〜１０質量％であることが更に好ましく、５〜１０質量％であることが更に好ましく、１〜９質量％であることが更に好ましく、４〜８質量％であることが好ましい。
前記式（１１．１）で表される化合物と前記式（１１．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計質量が本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１２質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１１質量％以下であることが好ましく、４質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１２質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１１質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上１８質量％以下であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−３）中、Ｒ２５は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ２４は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１〜３種類を含有することが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
前記一般式（ＩＩ−３）で表される化合物の好ましい含有量は、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して２〜４５質量％が挙げられる。これらの中でも、例えば、５〜４５質量％、８〜４５質量％、１１〜４５質量％、１４〜４５質量％、１７〜４５質量％、２０〜４５質量％、２３〜４５質量％、２６〜４５質量％、２９〜４５質量％、或いは２〜４５質量％、２〜４０質量％、２〜３５質量％、２〜３０質量％、２〜２５質量％、２〜２０質量％、２〜１５質量％、２〜１０質量％が好ましい。
前記一般式（ＩＩ−３）で表される化合物の好ましい含有量は、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して２〜４５質量％が挙げられる。これらの中でも、例えば、５〜４５質量％、８〜４５質量％、１１〜４５質量％、１４〜４５質量％、１７〜４５質量％、２０〜４５質量％、２３〜４５質量％、２６〜４５質量％、２９〜４５質量％、或いは２〜４５質量％、２〜４０質量％、２〜３５質量％、２〜３０質量％、２〜２５質量％、２〜２０質量％、２〜１５質量％、２〜１０質量％が好ましい。
さらに、前記一般式（ＩＩ−３）で表される化合物は、例えば式（１２．１）から式（１２．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１２．１）で表される化合物を含有していても、式（１２．２）で表される化合物を含有していても、式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有していても良い。
式（１２．１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、９質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、２１質量%以上２５質量％以下であることが好ましい。
また、式（１２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、８質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１７質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１９質量％以上２５質量％以下であることが好ましい。
式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計質量が本発明の液晶組成物の総質量に対して１５質量％以上４５質量％以下であることが好ましく、１９質量％以上４５質量％以下であることが好ましく、２４質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、３０質量%以上３５質量％以下であることが好ましい。
また、式（１２．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して０．０５質量％以上２質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上１質量％以下であることが好ましく、０．２質量％以上０．５質量％以下であることが好ましい。式（１２．３）で表される化合物は、光学活性化合物であってもよい。
さらに、一般式（ＩＩ−３）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−３−１）中、Ｒ２５は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ２６は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１〜３種類を含有することが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、１質量％以上２４質量％以下が好ましく、４質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１４質量％以下であることが好ましい。
さらに、一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物は、例えば式（１３．１）から式（１３．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、特に、式（１３．３）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ−４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩ−４）中、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルキル基、又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
これらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１〜２種類を含有することが好ましく、１〜３種類を含有することがより好ましい。
一般式（ＩＩ−４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上１２質量％以下であることが好ましく、５質量％以上７質量％以下であることが好ましい。
さらに、一般式（ＩＩ−４）で表される化合物は、例えば式（１４．１）から式（１４．５）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、特に、式（１４．２）、および／または、式（１４．５）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数１〜５のアルキル基、又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、求められる溶解性や複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上２５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上２０質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１０質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上５質量％以下含有することが好ましい。
さらに、前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、例えば式（１５．１）、及び／又は、式（１５．２）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１５．１）で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩＩ−１）中、Ｒ３３は炭素原子数２〜５のアルケニル基を表し、Ｒ３２は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じてその含有量を調整することが好ましく、本発明の液晶組成物の総質量に対して、４質量％以上２３質量％以下が好ましく、６質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上１３質量％以下であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物は、たとえば式（１６．１）、および／または、式（１６．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＩＩ−２）中、Ｒ３１は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ３４は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、本発明の液晶組成物の総質量に対して、４質量％以上２３質量％以下が好ましく、６質量％以上１８質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上１３質量％以下であることが好ましい。
さらに、一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物は、たとえば式（１７．１）から式（１７．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、特に式（１７．３）で表される化合物であることが好ましい。
さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（Ｖ）で表される化合物群選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ５１及びＡ５２は、それぞれ独立して、１,４-シクロヘキシレン基又は１,４-フェニレン基を表し、Ｑ５は単結合又は−ＣＯＯ−を表し、Ｘ５１及びＸ５２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わされる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態において１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類である。更に、本発明の別の実施形態では４種類である。
前記本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｖ）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜７質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１質〜４量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１〜２質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４〜８質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７〜８質量％である。
さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−１）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシを表し、Ｘ５１及びＸ５２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。
さらに、前記一般式（Ｖ−１）で表される化合物は一般式（Ｖ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−１−１）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ−１−１）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１０質量％以下含有することが更に好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上７質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上５質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（Ｖ−１−１）で表される化合物は、式（２０．１）から式（２０．４）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２０．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｖ−１）で表される化合物は一般式（Ｖ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−１−２）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ−１−２）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、１質量%以上１０質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上７質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上５質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（Ｖ−１−２）で表される化合物は、式（２１．１）から式（２１．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２１．１）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｖ−１）で表される化合物は一般式（Ｖ−１−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−１−３）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ−１−３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、４質量％以上８質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（Ｖ−１−３）で表される化合物は、式（２２．１）から式（２２．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２２．１）で表される化合物であることがより好ましい。
あるいは／さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−２）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ５１及びＸ５２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせされる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（Ｖ−２）で表される化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では１〜３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２〜４質量％である。
本発明の液晶組成物が高いＴｎｉの実施形態が望まれる場合は前記式（Ｖ−２）で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。
さらに、前記一般式（Ｖ−２）で表される化合物は一般式（Ｖ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−２−１）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ−２−１）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、１質量%以上１０質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上５質量％以下含有することが好ましい。
さらに、前記一般式（Ｖ−２−１）で表される化合物は、式（２３．１）から式（２３．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２３．１）、および／または、式（２３．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｖ−２）で表される化合物は一般式（Ｖ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−２−２）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ−２−２）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量%以上１６質量％以下含有することが好ましく、３質量%以上１３質量％以下含有することが好ましく、４質量％以上１０質量％以下含有することが好ましい。
さらに、前記一般式（Ｖ−２−２）で表される化合物は、式（２４．１）から式（２４．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２４．１）、および／または、式（２４．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−３）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わされる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
前記一般式（Ｖ−３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量%以上１６質量％以下含有することが好ましく、４質量%以上１６質量％以下含有することが好ましく、７質量％以上１３質量％以下含有することが好ましく、８質量％以上１１質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（Ｖ−３）で表される化合物は、式（２５．１）から式（２５．３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ−４）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−４）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ−４）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、４質量％以上８質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（Ｖ−４）で表される化合物は、式（２５．１１）から式（２５．１３）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２５．１３）で表される化合物であることがより好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｌ）で表される化合物は一般式（Ｖ'−５）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ'−５）中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｖ'−５）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量％以上１０質量％以下含有することが好ましく、５質量％以上１０質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（Ｖ'−５）で表される化合物は、式（２５．２１）から式（２５．２４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２５．２１）及び／又は式（２５．２３）で表される化合物であることがより好ましい。
本発明の液晶組成物は、更に、一般式（ＶＩ）で表される化合物を少なくとも１種含有することもできる。
前記一般式（ＶＩ）中、Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立して、炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、炭素原子数１から１０の直鎖アルコキシ基又は炭素原子数２から１０の直鎖アルケニル基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１〜３種類を配合することが好ましく、１〜４種類を含有することがより好ましく、１〜５種類以上を含有することが特に好ましい。
前記一般式（ＶＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜３５質量％であることが好ましく、０〜２５質量％であることが好ましく、０〜１５質量％であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜３５質量％であることが好ましく、０〜２５質量％であることが好ましく、０〜１５質量％であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩ）で表される化合物としては、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。
本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を少なくとも１種含有することができる。
前記一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ７１及びＲ７２は、それぞれ独立して、炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、炭素原子数１から１０の直鎖アルコキシ基又は炭素原子数４から１０の直鎖アルケニル基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から適宜選択された１〜３種類を配合することが好ましく、１〜４種類を配合することが更に好ましく、１種〜５種類以上を含有することが特に好ましい。
前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜３５質量％が好ましく、０〜２５質量％がより好ましく、０〜１５質量％が好ましい。
前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物としては、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。
本発明の液晶組成物は、下記一般式（Ｍ）で表される少なくとも１種の化合物を更に含有することも好ましい。
前記一般式（Ｍ）中、ＲＭ１は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す。ただし、前記一般式（ｉ）で表される化合物を除く。
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す。ただし、前記一般式（ｉ）で表される化合物を除く。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類である。また更に、本発明の別の実施形態では４種類である。更に、本発明の別の実施形態では５種類である。更に、本発明の別の実施形態では６種類である。更に、本発明の別の実施形態では７種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｍ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
前記一般式（Ｍ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態としては１〜７０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜６５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜５３質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３１質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２３質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２０〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３１〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４４〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５１〜５５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８〜１２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２０〜２３質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４４〜５３質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
ＲＭ１は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
一般式（Ｍ）で表される化合物は液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。更に液晶組成物内に塩素原子を有する化合物の含有量が、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０〜５質量％であることが好ましく、０〜３質量％であることが好ましく、０〜１質量％であることが好ましく、０〜０．５質量％であることが好ましく、実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、化合物製造時の不純物として生成した化合物等の意図せず塩素原子を含む化合物のみが液晶組成物に混入することを意味する。
一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ８は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ８１〜Ｘ８５は、それぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ８はフッ素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用される。使用される化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２〜３０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜２５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜２０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜１６質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜１２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜１１質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜１０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１１〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５〜１６質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５〜１０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８〜１２質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
さらに、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ−１）中、Ｒ８は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
さらに、前記一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される化合物は、具体的には式（２６．１）から式（２６．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２６．１）、および／または、式（２６．２）で表される化合物が好ましく、式（２６．２）で表される化合物がさらに好ましい。
前記式（２６．１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより更に好ましく、１質量％以上７質量％以下が特に好ましい。特に好ましい範囲のうち、例えば、１質量％以上６質量％以下、１質量％以上５質量％以下、１質量％以上３質量％以下、３質量％以上６質量％以下、が挙げられる。
前記式（２６．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２５質量％以下が好ましく、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１８質量％以下が好ましい。これらの中で、例えば、５質量％以上１６質量％以下、５質量％以上１２質量％以下、５質量％以上１１質量％以下、５質量％以上１０質量％以下、６質量％以上１２質量％以下、８質量％以上１１質量％以下が好ましい。
前記式（２６．１）で表される化合物及び前記式（２６．２）で表される化合物の合計の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１〜３０質量％が好ましく、１〜２５質量％がより好ましく、１〜２０質量％が好ましい。これらの中で、例えば、１質量％以上１６質量％以下、１質量％以上１２質量％以下、１質量％以上１１質量％以下、１質量％以上１０質量％以下、５質量％以上１６質量％以下、５質量％以上１２質量％以下、５質量％以上１１質量％以下、５質量％以上１０質量％以下、８質量％以上１２質量％以下が好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ−２）中、Ｒ８は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では３種類以上である。
前記一般式（ＶＩＩＩ−２）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２．５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％２０質量％以下であることが好ましく、１２質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。
さらに、一般式（ＶＩＩＩ−２）で表される化合物は、式（２７．１）から式（２７．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２７．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ−３）中、Ｒ８は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
さらに、前記一般式（ＶＩＩＩ−３）で表される化合物は、具体的には式（２６．１１）から式（２６．１４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２６．１１）、および／または、式（２６．１２）で表される化合物が好ましく、式（２６．１２）で表される化合物がさらに好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ−４）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ−４）中、Ｒ８は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（ＶＩＩＩ−４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では２〜２５質量％、さらに別の実施形態では３〜２０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は３〜１３質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３〜１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜５質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＶＩＩＩ−４）で表される化合物は、具体的には式（２６．２１）から式（２６．２４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（２６．２４）で表される化合物を含有することがより好ましい。
さらに、前記一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＸ）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。ただし、前記一般式（ｉ）で表される化合物は除く。
前記一般式（ＩＸ）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ９１及びＸ９２は、それぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ９はフッ素原子、塩素原子又は−ＯＣＦ３を表し、Ｕ９は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類である。また更に、本発明の別の実施形態では４種類である。更に、本発明の別の実施形態では５種類である。更に、本発明の別の実施形態では６種類以上である。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜４５質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜４０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜２質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜３４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は７〜３４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２４〜３４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３０〜３４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は７〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２４〜３０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜１０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜７質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は７〜１０質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
さらに、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−１）で表される化合物であることが好ましい。ただし、前記一般式（ｉ）で表される化合物は除く。
前記一般式（ＩＸ−１）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ９２は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ９はフッ素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類である。また更に、本発明の別の実施形態では４種類以上である。
さらに、前記一般式（ＩＸ−１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−１−１）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。ただし、前記式（ｉ）で表される化合物を除く。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。更に、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
前記一般式（ＩＸ−１−１）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態に応じて適宜調整される。
本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＸ−１−１）で表される化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１〜２０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜９質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１〜４質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜９質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２〜４質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５〜９質量％である。
さらに、前記一般式（ＩＸ−１−１）で表される化合物は、式（２８．１）、式（２８．２）、式（２８．４）、及び式（２８．５）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２８．５）で表される化合物であることが好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（２８．５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１５質量％以下が好ましく、１質量％以上１０質量％以下が好ましい。これらの中でも、２質量％以上１０質量％以下、５質量％以上１０質量％以下、２質量％以上９質量％以下、２質量％以上４質量％以下、５質量％以上９質量％以下、が好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ−１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−１−２）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類を組み合わせることが好ましく、１種から４種類を組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（ＩＸ−１−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上３０質量％以下が好ましく、８質量％以上３０質量％以下が好ましく、１０質量％以上２５質量％以下が好ましく、１４質量％以上２２質量％以下が好ましく、１６質量％以上２０質量％以下が好ましい。
さらに、前記一般式（ＩＸ−１−２）で表される化合物は、式（２９．１）から式（２９．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（２９．２）、および／または、式（２９．４）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ９１及びＸ９２は、それぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ９はフッ素原子、塩素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類、また更に別の実施形態では４種類、また更に別の実施形態では５種類、また更に別の実施形態では６種類以上組み合わせる。
さらに、一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−１）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜３種類を組み合わせることが好ましい。
一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
例えば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物の含有量は、１〜２５質量％である。別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜２０質量％である。更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜１５質量％である。また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜１０質量％である。また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜５質量％である。また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１〜３質量％である。
さらに、一般式（ＩＸ−２−１）で表される化合物は、式（３０．１）から式（３０．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３０．１）、および／または、式（３０．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−２）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜３種類を組み合わせることが好ましく、１〜４種類を組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。
たとえば、前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１５質量％、さらに別の実施形態では１〜１４質量％、さらに別の実施形態では７〜１４質量％、またさらに別の実施形態では１０〜１４質量％、またさらに別の実施形態では７〜１０質量％、である。
たとえば、前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１５質量％、さらに別の実施形態では１〜１４質量％、さらに別の実施形態では７〜１４質量％、またさらに別の実施形態では１０〜１４質量％、またさらに別の実施形態では７〜１０質量％、である。
さらに、一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物は、式（３１．１）から式（３１．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３１．２）から式（３１．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３１．２）で表される化合物であることが好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（３１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％２５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。これらの中でも、例えば１質量％以上１４質量％以下、４質量％以上１４質量％以下、１０質量％以上１４質量％以下、４質量％以上１０質量％以下、が好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（３１．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−３）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜２種類を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、８質量％以上１０質量％以下がさらに好ましい。
さらに、一般式（ＩＸ−２−３）で表される化合物は、式（３２．１）から式（３２．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３２．２）および／または式（３２．４）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−４）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−４）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＩＸ−２−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、８質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。
さらに、一般式（ＩＸ−２−４）で表される化合物は、式（３３．１）から式（３３．６）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３３．１）および／または式（３３．３）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−５）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類、また更に別の実施形態では４種類以上である。
前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。
たとえば、前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜４０質量％、別の実施形態では１〜３５質量％、さらに別の実施形態では１〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１〜８質量％、またさらに別の実施形態では４〜３０質量％、またさらに別の実施形態では８〜３０質量％、またさらに別の実施形態では４〜８質量％、である。
たとえば、前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜４０質量％、別の実施形態では１〜３５質量％、さらに別の実施形態では１〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１〜８質量％、またさらに別の実施形態では４〜３０質量％、またさらに別の実施形態では８〜３０質量％、またさらに別の実施形態では４〜８質量％、である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
さらに、一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物は、式（３４．１）から式（３４．７）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３４．１）、式（３４．２）、式（３４．３）および／または式（３４．５）で表される化合物であることがより好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−３）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ９１及びＸ９２は、それぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ９はフッ素原子、塩素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
さらに、一般式（ＩＸ−３）で表される化合物は、一般式（ＩＸ−３−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−３−１）中、Ｒ９は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜２種類を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−３−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、３質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上３０質量％以下が好ましく、１３質量％以上２０質量％以下が好ましく、１５質量％以上１８質量％以下が好ましい。
さらに、一般式（ＩＸ−３−１）で表される化合物は、式（３５．１）から式（３５．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（３５．１）および／または式（３５．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（Ｘ）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ）中、Ｘ１０１〜Ｘ１０４は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｙ１０はフッ素原子、塩素原子、又は−ＯＣＦ３を表し、Ｑ１０は単結合又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ１０１及びＡ１０２は、それぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン基、１,４-フェニレン基、又は、下記式で示される何れか一つの基を表すが、１,４−フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよい。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。更に別の実施形態では３種類である。更にまた別の実施形態では４種類である。更にまた別の実施形態では５種類以上である。
前記一般式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。たとえば、前記一般式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では１〜８質量％、またさらに別の実施形態では１〜４質量％、またさらに別の実施形態では２〜１０質量％、またさらに別の実施形態では２〜８質量％、またさらに別の実施形態では５〜１０質量％、またさらに別の実施形態では含有量は５〜８質量％である。
本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、焼き付きの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−１）中、Ｘ１０１〜Ｘ１０３は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。更に別の実施形態では３種類である。更にまた別の実施形態では４種類である。更にまた別の実施形態では５種類以上である。
また、例えば、前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、また更に別の実施形態では１〜２０質量％、また更に別の実施形態では１〜１５質量％、また更に別の実施形態では１〜１０質量％、また更に別の実施形態では１〜８質量％、また更に別の実施形態では１〜３質量％、また更に別の実施形態では１〜２質量％、また更に別の実施形態では２〜８質量％、また更に別の実施形態では２〜３質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−１−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。更に別の実施形態では３種類である。更にまた別の実施形態では４種類以上である。
前記一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では１〜５質量％である。
たとえば、前記一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では１〜５質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１−１）で表される化合物は、具体的には式（３６．１）から式（３６．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（３６．１）および／または式（３６．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−１−２）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２０質量％、別の実施形態では１〜１５質量％、更に別の実施形態では１〜１０質量％、更に別の実施形態では１〜６質量％、更に別の実施形態では１〜４質量％、更に別の実施形態では１〜３質量％である。
例えば、前記一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２０質量％、別の実施形態では１〜１５質量％、更に別の実施形態では１〜１０質量％、更に別の実施形態では１〜６質量％、更に別の実施形態では１〜４質量％、更に別の実施形態では１〜３質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１−２）で表される化合物は、具体的には式（３７．１）から式（３７．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（３７．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物は、一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−１−３）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種又は２種以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２０質量％、別の実施形態では１〜１５質量％、更に別の実施形態では１〜１０質量％、更に別の実施形態では１〜８質量％、更に別の実施形態では１〜５質量％である。
また、例えば、前記一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では３〜２０質量％、別の実施形態では５〜２０質量％、更に別の実施形態では５〜１５質量％である。
例えば、前記一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２０質量％、別の実施形態では１〜１５質量％、更に別の実施形態では１〜１０質量％、更に別の実施形態では１〜８質量％、更に別の実施形態では１〜５質量％である。
また、例えば、前記一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では３〜２０質量％、別の実施形態では５〜２０質量％、更に別の実施形態では５〜１５質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−１−３）で表される化合物は、具体的には式（３８．１）から式（３８．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（３８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（３８．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％１５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上８質量％以下であることが好ましく、３質量％以上５質量％以下であることが好ましく、４質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−２）中、Ｘ１０２とＸ１０３は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｙ１０はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ３を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ−２）で表される化合物は、一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−２−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無い。低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１６質量％以下が好ましく、１質量％以上１２質量％以下が好ましく、１質量％以上１０質量％以下が好ましい。これらの中でも、前記一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１〜５質量％であることが好ましく、１〜３質量％であることが好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ−２−１）で表される化合物は、具体的には式（３９．１）から式（３９．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（３９．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（３９．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％１６質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１２質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。これらの中でも、前記一般式（３９．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１〜５質量％であることが好ましく、１〜３質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることが好ましく、６〜９質量％であることが好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−２）で表される化合物は、一般式（Ｘ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−２−２）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−２−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１６質量％以下が好ましく、９質量％以上１２質量％以下が好ましく、９質量％以上１０質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−２−２）で表される化合物は、具体的には式（４０．１）から式（４０．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４０．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、一般式（Ｘ）で表される化合物は一般式（Ｘ−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−３）中、Ｘ１０２とＸ１０３は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒ１０は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無い。低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ−３）で表される化合物は、一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−３−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜１０質量％、別の実施形態では１〜８質量％、更に別の実施形態では１〜６質量％、更に別の実施形態では１〜４質量％、更に別の実施形態では１〜２質量％である。
例えば、前記一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜１０質量％、別の実施形態では１〜８質量％、更に別の実施形態では１〜６質量％、更に別の実施形態では１〜４質量％、更に別の実施形態では１〜２質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−３−１）で表される化合物は、具体的には式（４１．１）から式（４１．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４１．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
或いは／更に、前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−４）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−４）中、Ｘ１０２はフッ素原子又は水素原子を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−４）で表される化合物は、一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して適宜調整される。
前記一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下が好ましく、１０質量％以上１５質量％以下が好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下が好ましく、１０質量％以上１５質量％以下が好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ−４−１）で表される化合物は、具体的には式（４２．１）から式（４２．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４２．３）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−４−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−２）中、Ｒ１０は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下が好ましく、１０質量％以上１５質量％以下が好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ−４−２）で表される化合物は、具体的には式（４２．１１）から式（４２．１４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４２．１３）及び／又は式（４２．１４）で表される化合物を含有することがより好ましい。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−４−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−３）中、Ｒ１０は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（Ｘ−４−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下が好ましく、１０質量％以上１５質量％以下が好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（Ｘ−４−３）で表される化合物は、具体的には式（４２．２１）から式（４２．２４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４２．２２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
或いは／更に、前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−５）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−５）中、Ｘ１０２はフッ素原子又は水素原子を表し、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。
さらに、前記一般式（Ｘ−５）で表される化合物は、一般式（Ｘ−５−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−５−１）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましく、３種類以上を組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（Ｘ−５−１）で表される化合物としては、具体的には式（４３．１）から式（４３．４）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４３．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−６）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−６）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、更に別の実施形態では１〜１２質量％、また更に別の実施形態では１〜９質量％、また更に別の実施形態では１〜８質量％、また更に別の実施形態では１〜２質量％、また更に別の実施形態では３〜３０質量％、また更に別の実施形態では５〜３０質量％、また更に別の実施形態では５〜２５質量％、また更に別の実施形態では５〜２０質量％、また更に別の実施形態では５〜１１質量％、また更に別の実施形態では５〜８質量％である。
たとえば、前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、更に別の実施形態では１〜１２質量％、また更に別の実施形態では１〜９質量％、また更に別の実施形態では１〜８質量％、また更に別の実施形態では１〜２質量％、また更に別の実施形態では３〜３０質量％、また更に別の実施形態では５〜３０質量％、また更に別の実施形態では５〜２５質量％、また更に別の実施形態では５〜２０質量％、また更に別の実施形態では５〜１１質量％、また更に別の実施形態では５〜８質量％である。
さらに、前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物は、具体的には式（４４．１）から式（４４．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４４．１）および／または式（４４．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
また、前記一般式（Ｍ）で表される化合物として、前記一般式（Ｘ）で表される化合物に類似する、一般式（Ｘ’−７）で表される化合物を、本発明の液晶化合物に含有させてもよい。
前記一般式（Ｘ’−７）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｘ’−７）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（Ｘ’−７）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では４〜３０質量％、別の実施形態では５〜３０質量％、さらに別の実施形態では６〜３０質量％、またさらに別の実施形態では８〜３０質量％、またさらに別の実施形態では９〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１１〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１４〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１８〜３０質量％である。
また、例えば、前記一般式（Ｘ’−７）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では４〜２０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は４〜１３質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４〜１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４〜７質量％である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ’−７）で表される化合物は、具体的には式（４４．１１）から式（４４．１４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４４．１３）で表される化合物を含有することがより好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ−８）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−８）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（Ｘ−８）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（Ｘ−８）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、更に別の実施形態では１〜５質量％、また更に別の実施形態では１〜３質量％である。
たとえば、前記一般式（Ｘ−８）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では１〜１０質量％、更に別の実施形態では１〜５質量％、また更に別の実施形態では１〜３質量％である。
さらに、前記一般式（Ｘ−８）で表される化合物は、具体的には式（４４．２１）から式（４４．２４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４４．２２）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ）で表される化合物群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩ）中、Ｘ１１１からＸ１１７は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｘ１１１からＸ１１７の少なくとも一つはフッ素原子を表し、Ｒ１１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ１１はフッ素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類以上組み合わせることが好ましい。
前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１１質量％、またさらに別の実施形態では１〜８質量％、またさらに別の実施形態では３〜２５質量％、またさらに別の実施形態では５〜２５質量％、またさらに別の実施形態では５〜２０質量％、またさらに別の実施形態では５〜１５質量％、またさらに別の実施形態では５〜１１質量％、またさらに別の実施形態では５〜８質量％である。
たとえば、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１１質量％、またさらに別の実施形態では１〜８質量％、またさらに別の実施形態では３〜２５質量％、またさらに別の実施形態では５〜２５質量％、またさらに別の実施形態では５〜２０質量％、またさらに別の実施形態では５〜１５質量％、またさらに別の実施形態では５〜１１質量％、またさらに別の実施形態では５〜８質量％である。
本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩ−１）中、Ｒ１１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類以上組み合わせる。
前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上２０質量％以下が好ましく、２質量％以上１５質量％以下が好ましい。これらの中でも、前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２〜１２質量％であることが好ましく、２〜８質量％であることが好ましく、３〜１５質量％であることが好ましく、３〜１３質量％であることが好ましく、５〜８質量％であることが好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ−１）で表される化合物は、具体的には式（４５．１）から式（４５．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４５．２）から式（４５．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することが好ましく、式（４５．２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（４５．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上２０質量％以下が好ましく、２質量％以上１５質量％以下が好ましく、２質量％以上１０質量％以下が好ましく、２質量％以上７量％以下が好ましく、２質量％以上５質量％以下が好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（４５．３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下が好ましく、１質量％以上１０質量％以下が好ましく、２質量％以上９質量％以下が好ましく、２質量％以上５質量％以下が好ましく、２質量％以上４質量％以下が好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（４５．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下がさらに好ましく、２質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。特に好ましい範囲のうち、例えば、４質量％以上１０質量％以下、５質量％以上１０質量％以下、２質量％以上７量％以下、２質量％以上６質量％以下、５質量％以上７質量％以下、が挙げられる。
あるいは／さらに、本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（ＸＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩ−２）中、Ｒ１１０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類以上組み合わせる。
前記一般式（ＸＩ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下が好ましく、４質量％以上２０質量％以下が好ましく、６質量％以上１５質量％以下が好ましく、９質量％以上１２質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ−２）で表される化合物は、具体的には式（４５．１１）から式（４５．１４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４５．１２）から式（４５．１４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することが好ましく、式（４５．１２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩ）中、Ｘ１２１〜Ｘ１２６は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒ１２０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ１２はフッ素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、適宜１〜３種類以上を組み合わせることが好ましく、１〜４種類以上を組み合わせることがより好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩ−１）中、Ｒ１２０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して適宜１〜２種類以上を組み合わせることが好ましく、１〜３種類以上を組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（ＸＩＩ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１０質量％以下が好ましく、３質量％以上８質量％以下が好ましく、４質量％以上６質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ−１）で表される化合物は、具体的には式（４６．１）から式（４６．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４６．２）から式（４６．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩ−２）中、Ｒ１２０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して適宜１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
前記一般式（ＸＩＩ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下が好ましく、４質量％以上１７質量％以下が好ましく、６質量％以上１５質量％以下が好ましく、９質量％以上１３質量％以下が好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ−２）で表される化合物は、具体的には式（４７．１）から式（４７．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（４７．２）から式（４７．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することが好ましい。
或いは／更に、前記一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ）中、Ｘ１３１〜Ｘ１３５は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒ１３０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｙ１３はフッ素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１〜２種類を含有することが好ましく、１〜３種類を含有することがより好ましく、１〜４種類を含有することが更に好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では２〜３０質量％、別の実施形態では４〜３０質量％、さらに別の実施形態では５〜３０質量％、またさらに別の実施形態では７〜３０質量％、またさらに別の実施形態では９〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１１〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１３〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１４〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１６〜３０質量％、またさらに別の実施形態では２０〜３０質量％である。
また、例えば、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では２〜２５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２〜２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２〜１５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２〜１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２〜５質量％である。
本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
さらに、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ−１）中、Ｒ１３０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＩＩ−１）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上２５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上２５質量％以下含有することが好ましく、５質量％以上２０質量％以下含有することが好ましく、１０質量％以上１５質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＩＩ−１）で表される化合物は、式（４８．１）から式（４８．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（４８．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ−２）中、Ｒ１３０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１〜２種類以上を含有することが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上２５質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上２０質量％以下含有することが好ましく、１質量％以上１５質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上１４質量％以下含有することが好ましい。これらの中でも、前記一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量%以上１０質量％以下含有することが好ましく、３質量％以上６量％以下含有することが好ましく、６質量％以上１４質量％以下含有することが好ましく、１０量％以上１４質量％以下含有することが好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＩＩ−２）で表される化合物は、式（４９．１）から式（４９．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（４９．１）および／または式（４９．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ−３）中、Ｒ１３０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１〜２種類を含有することが好ましい。
前記一般式（ＸＩＩＩ−３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２質量%以上２０質量％以下含有することが好ましく、４質量%以上２０質量％以下含有することが好ましく、９質量％以上１７質量％以下含有することが好ましく、１１質量％以上１４質量％以下含有することが好ましい。
さらに、前記一般式（ＸＩＩＩ−３）で表される化合物は、式（５０．１）から式（５０．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（５０．１）および／または式（５０．２）で表される化合物であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表し、Ｘ１４１〜Ｘ１４４は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｙ１４はフッ素原子、塩素原子又はＯＣＦ３を表し、Ｑ１４は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、ｍ１４は０又は１である。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。更に、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では３種類である。また、本発明の更に別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では５種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では６種類以上である。
前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜３０質量％、別の実施形態では１〜２５質量％、さらに別の実施形態では１〜２０質量％、またさらに別の実施形態では１〜１５質量％、またさらに別の実施形態では３〜３０質量％、またさらに別の実施形態では５〜３０質量％、またさらに別の実施形態では７〜３０質量％、またさらに別の実施形態では９〜３０質量％、またさらに別の実施形態では９〜２５質量％、またさらに別の実施形態では９〜２０質量％、またさらに別の実施形態では９〜１５質量％、またさらに別の実施形態では９〜１１質量％である。
本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
さらに、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−１）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表し、Ｙ１４はフッ素原子、塩素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１〜３種類を組み合わせることが好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−１−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−１−１）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では２質量％以上３０質量％、別の実施形態では４質量％以上３０質量％、さらに別の実施形態では７質量％以上３０質量％以下、またさらに別の実施形態では１０質量％以上３０質量％以下、またさらに別の実施形態では１８質量％以上３０質量％以下である。
また、例えば、前記一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では２質量％以上２７質量％以下、別の実施形態では２質量％以上２４質量％以下、さらに別の実施形態では２質量％以上２１質量％未満である。
例えば、前記一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では２質量％以上３０質量％、別の実施形態では４質量％以上３０質量％、さらに別の実施形態では７質量％以上３０質量％以下、またさらに別の実施形態では１０質量％以上３０質量％以下、またさらに別の実施形態では１８質量％以上３０質量％以下である。
また、例えば、前記一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では２質量％以上２７質量％以下、別の実施形態では２質量％以上２４質量％以下、さらに別の実施形態では２質量％以上２１質量％未満である。
さらに、一般式（ＸＩＶ−１−１）で表される化合物は具体的には式（５１．１）から式（５１．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（５１．１）で表される化合物を含有することがより好ましい。
あるいは／さらに、一般式（ＸＩＶ−１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−１−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−１−２）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−１−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１３質量％以下が好ましく、５質量％以上１１質量％以下が好ましく、７質量％以上９質量％以下が好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＶ−１−２）で表される化合物は具体的には式（５２．１）から式（５２．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５２．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｘ１４１〜Ｘ１４４は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｙ１４はフッ素原子、塩素原子又は−ＯＣＦ３を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。更に、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では３種類である。また、本発明の更に別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では５種類以上である。
前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
例えば、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では３〜４０質量％、別の実施形態では７〜４０質量％、さらに別の実施形態では８〜４０質量％、またさらに別の実施形態では１０〜４０質量％、またさらに別の実施形態では１１〜４０質量％、またさらに別の実施形態では１２〜４０質量％、またさらに別の実施形態では１８〜４０質量％、またさらに別の実施形態では１９〜４０質量％、またさらに別の実施形態では２１〜４０質量％、またさらに別の実施形態では２２〜４０質量％である。
また、例えば、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では３〜３５質量％、別の実施形態では３〜２５質量％、また更に別の実施形態では３〜２０質量％、また更に別の実施形態では３〜１５質量％、また更に別の実施形態では３〜１０質量％である。
本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２−１）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−２−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１３質量％以下が好ましく、５質量％以上１１質量％以下が好ましく、７質量％以上９質量％以下が好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−１）で表される化合物は具体的には式（５３．１）から式（５３．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５３．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２−２）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１７質量％以下が好ましく、６質量％以上１５質量％以下が好ましく、８質量％以上１０質量％以下が好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物は具体的には式（５４．１）から式（５４．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５４．２）および／または式（５４．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記式（５４．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して５質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、５質量％２５質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２２質量％以下であることが好ましく、６質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、６質量％以上９質量％以下であることが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２−３）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−２−３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、９質量％以上２７質量％以下が好ましく、１２質量％以上２４質量％以下が好ましく、１２質量％以上２０質量％以下が好ましい。
さらに、一般式（ＸＩＶ−２−３）で表される化合物は具体的には式（５５．１）から式（５５．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５５．２）および／または式（５５．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２−４）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。更に、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明の更に別の実施形態では３種類以上である。
前記一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。
例えば、前記一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２０質量％、別の実施形態では１〜１５質量％、さらに別の実施形態では３〜１５質量％、またさらに別の実施形態では５〜１５質量％、またさらに別の実施形態では７〜１５質量％、またさらに別の実施形態では９〜１１質量％である。
本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、前記一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、前記一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。
さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２−４）で表される化合物は具体的には式（５６．１）から式（５６．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５６．１）、式（５６．２）、及び／又は、式（５６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−５）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２−５）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−２−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上２２質量％以下が好ましく、１３質量％以上１８質量％以下が好ましく、１３質量％以上１５質量％以下が好ましい。
さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２−５）で表される化合物は具体的には式（５７．１）から式（５７．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。中でも式（５７．１）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、一般式（ＸＩＶ−２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−２−６）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−２−６）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
前記一般式（ＸＩＶ−２−６）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上２２質量％以下が好ましく、１５質量％以上２０質量％以下が好ましく、１５質量％以上１７質量％以下が好ましい。
さらに、前記一般式（ＸＩＶ−２−６）で表される化合物は具体的には式（５８．１）から式（５８．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ−３）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＩＶ−３）中、Ｒ１４０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
前記一般式（ＸＩＶ−３）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、２．５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。
さらに、前記一般式（ＸＩＶ−３）で表される化合物は、具体的には式（６１．１）から式（６１．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、式（６１．１）及び／又は式（６１．２）で表される化合物がより好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＶ）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＶ）中、Ｒ１５０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ａ１５１は１，４−シクロヘキシレン基又は１,４-フェニレン基を表すが、前記１,４−フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよい。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。更に別の実施形態では３種類である。更にまた別の実施形態では４種類である。更にまた別の実施形態では５種類以上である。
前記一般式（ＸＶ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに適宜調整される。たとえば、前記一般式（ＸＶ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では０．５〜３０質量％、別の実施形態では１〜３０質量％、さらに別の実施形態では３〜３０質量％、またさらに別の実施形態では６〜３０質量％、またさらに別の実施形態では９〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１１〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１２〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１８〜３０質量％、またさらに別の実施形態では１９〜３０質量％、またさらに別の実施形態では２３〜３０質量％、またさらに別の実施形態では含有量は２５〜３０質量％である。
また、例えば、前記一般式（ＸＶ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では０．５〜２５質量％、別の実施形態では０．５〜２０質量％、また更に別の実施形態では０．５〜１３質量％、また更に別の実施形態では０．５〜９質量％、また更に別の実施形態では１〜６質量％である。
また、例えば、前記一般式（ＸＶ）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では０．５〜２５質量％、別の実施形態では０．５〜２０質量％、また更に別の実施形態では０．５〜１３質量％、また更に別の実施形態では０．５〜９質量％、また更に別の実施形態では１〜６質量％である。
本発明の液晶組成物に使用される前記一般式（ＸＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＶ−１）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＶ−１）中、Ｒ１５０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（ＸＶ−１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（ＸＶ−１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、本発明の一つの実施形態では１〜２５質量％、別の実施形態では１〜２０質量％、さらに別の実施形態では１〜１０質量％、またさらに別の実施形態では３〜１０質量％、またさらに別の実施形態では４〜７質量％、またさらに別の実施形態では１〜５質量％、またさらに別の実施形態では５〜１０質量％、である。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＶ−１）で表される化合物は、具体的には式（５９．１）から式（５９．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（５９．２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
あるいは／さらに、前記一般式（ＸＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＶ−２）で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式（ＸＶ−２）中、Ｒ１５０は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表す。
組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種または２種類以上を組み合わせることが好ましい。
前記一般式（ＸＶ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して適宜調整される。
たとえば、前記一般式（ＸＶ−２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０．５質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、１質量％１０質量％以下であることが好ましく、１質量％４質量％以下であることが好ましい。
さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＶ−２）で表される化合物は、具体的には式（６０．１）から式（６０．４）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、中でも式（６０．２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
本願発明の液晶組成物は、分子内に過酸（−ＣＯ−ＯＯ−）構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。
液晶組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合にはカルボニル基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下とすることがより好ましく、１質量％以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。
ＵＶ照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１５質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることがより好ましく、５質量％以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。
分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を多くすることが好ましく、分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して８０質量％以上とすることが好ましく、９０質量％以上とすることがより好ましく、９５質量％以上とすることが更に好ましく、実質的に分子内の環構造がすべて６員環である化合物のみで液晶組成物を構成することが最も好ましい。
液晶組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
粘度の改善及びＴｎｉの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、前記２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
本発明の第一実施形態の組成物に含有される化合物が、側鎖としてアルケニル基を有する場合、前記アルケニル基がシクロヘキサンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は２〜５であることが好ましく、前記アルケニル基がベンゼンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は４〜５であることが好ましく、前記アルケニル基の不飽和結合とベンゼンは直接結合していないことが好ましい。
本発明の液晶組成物には、ＰＳモード、横電界型ＰＳＡモード又は横電界型ＰＳＶＡモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を含有することができる。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式（ＸＸ）で表される二官能モノマーが好ましい。
前記一般式（ＸＸ）中、Ｘ２０１及びＸ２０２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２は、それぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは２〜７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ２０１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、又は、単結合を表し、
Ｍ２０１は、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。
Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２は、それぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは２〜７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ２０１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−（式中、Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、又は、単結合を表し、
Ｍ２０１は、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。
Ｘ２０１及びＸ２０２は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。
Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１〜８のアルキレン基又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｓ−を表す態様が好ましい。この場合炭素原子数１〜４のアルキル基が好ましく、ｓは１〜４が好ましい。
Ｚ２０１は、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、又は、単結合が好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は、単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。
Ｍ２０１は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、又は、単結合を表すが、１，４−フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｍ２０１が単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ２０１は単結合以外の連結基が好ましく、Ｍ２０１が単結合の場合、Ｚ２０１は単結合が好ましい。
これらの点から、一般式（ＸＸ）において、Ｓｐ２０１及びＳｐ２０２の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。
前記一般式（ＸＸ）において、Ｍ２０１が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−５）を表すことが好ましく、式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−３）を表すことがより好ましく、式（ＸＸａ−１）を表すことが特に好ましい。
前記式（ＸＸａ−１）〜式（ＸＸａ−５）中、両端はＳｐ２０１又はＳｐ２０２に結合するものとする。
これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。
以上のことから、重合性モノマーとしては、一般式（ＸＸ−１）〜一般式（ＸＸ−４）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物が好ましく、中でも一般式（ＸＸ−２）で表される化合物がより好ましい。
前記一般式（ＸＸ−３）及び一般式（ＸＸ−４）中、Ｓｐ２０は炭素原子数２〜５のアルキレン基を表す。
本発明の液晶組成物にモノマーを添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。
本発明における液晶組成物は、更に、一般式（Ｑ）で表される化合物を含有することができる。
前記一般式（Ｑ）中、ＲＱは炭素原子数１〜２２の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−で置換されてよく、ＭＱはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、又は、単結合を表す。
ＲＱは炭素原子数１〜２２の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−で置換されてよいが、炭素原子数１〜２０の直鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基、１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素原子数１〜１０の直鎖アルキル基、１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、１つのＣＨ２基が−ＯＣＯ−又は−ＣＯＯ−に置換された分岐鎖アルキル基が更に好ましい。
ＭＱはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基又は単結合を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が好ましい。
ＭＱはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基又は単結合を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が好ましい。
前記一般式（Ｑ）で表される化合物は、下記の一般式（Ｑ−ａ）〜一般式（Ｑ−ｄ）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましく、一般式（Ｑ−ｃ）及び／又は（Ｑ−ｄ）で表される化合物であることがより好ましい。
前記式中、ＲＱ１は炭素原子数１〜１０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、ＲＱ２は炭素原子数１〜２０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、ＲＱ３は炭素原子数１〜８の直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基又は分岐鎖アルコキシ基が好ましく、ＬＱは炭素原子数１〜８の直鎖アルキレン基又は分岐鎖アルキレン基が好ましい。
本願発明の液晶組成物において、前記一般式（Ｑ）で表される化合物を１種又は２種を含有することが好ましく、１種〜５種を含有することが更に好ましく、その含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して、０．００１〜１質量％であることが好ましく、０．００１〜０．１質量％であることが好ましく、０．００１〜０．０５質量％であることが好ましい。
次に、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物として１種類の化合物が含まれる場合の好ましい実施形態について説明する。
本発明の液晶組成物において、前記一般式(ｉｉ)で表される化合物として1種類だけが含まれる一つの実施形態では、前記一般式(ｉｉ)中のＲｉｉ１およびＲｉｉ２の両方がアルキル基である化合物が好ましく、前記式(ｉｉ．１．１)で表される化合物、又は、前記式(ｉｉ．１．２)で表される化合物が好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記一般式(ｉｉ)で表される化合物として1種類だけが含まれる一つの実施形態では、前記一般式(ｉｉ)中のＲｉｉ１およびＲｉｉ２の両方がアルキル基である化合物が好ましく、前記式(ｉｉ．１．１)で表される化合物、又は、前記式(ｉｉ．１．２)で表される化合物が好ましい。
当該実施形態における、前記式(ｉｉ．１．１)で表される化合物、又は、前記式(ｉｉ．１．２)で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜７質量％であることが好ましく、３〜５質量％であることがより好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記一般式(ｉ)と、前記式(ｉｉ．１．１)または式(ｉｉ．１．２)で表される化合物とが含まれる場合、前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物を更に含有することが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１０〜５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましく、２５〜３５質量％であることがより更に好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物としては、前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物が好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物としては、前記式（３４．２）、前記式（３４．３）、および／または、前記式（３４．５）で表される化合物が好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２−５）で表される化合物としては、前記式（３４．２）、前記式（３４．３）、および／または、前記式（３４．５）で表される化合物が好ましい。
前記式（３４．２）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、９〜２０質量％であることが好ましく、９〜１５質量％であることがより好ましく、９〜１２質量％であることがより更に好ましい。
前記式（３４．３）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１０〜２０質量％であることが好ましく、１２〜１８質量％であることがより好ましく、１４〜１６質量％であることがより更に好ましい。
前記式（３４．５）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１５質量％であることが好ましく、２〜１０質量％であることがより好ましく、３〜７質量％であることがより更に好ましい。
本発明の液晶組成物に含まれる前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物の総質量に対して、前記式（３４．２）、前記式（３４．３）、および、前記式（３４．５）で表される化合物の総含有量は、８０〜１００質量％であることが好ましく、９０〜１００質量％であることよりが好ましく、９５〜１００質量％であることがより更に好ましい。
更に、前記一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物が好ましく含まれる。前記一般式（ＸＩＶ−２−２）で表される化合物としては、前記式（５４．２）で表される化合物が好ましい。
前記式（５４．２）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、４〜２０質量％であることが好ましく、６〜１５質量％であることがより好ましい。
前記式（５４．２）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、４〜２０質量％であることが好ましく、６〜１５質量％であることがより好ましい。
或は／更に、前記一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物、および／または、前記一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物が更に好ましく含まれる。
前記一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物としては、前記式（１３．３）で表される化合物が好ましく、前記一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物としては、前記式（１７．３）で表される化合物が好ましい。
前記式（１３．３）で表される化合物、および／または、前記式（１７．３）で表される化合物の総含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜７質量％であることがより好ましい。
前記一般式（ＩＩ−３−１）で表される化合物としては、前記式（１３．３）で表される化合物が好ましく、前記一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物としては、前記式（１７．３）で表される化合物が好ましい。
前記式（１３．３）で表される化合物、および／または、前記式（１７．３）で表される化合物の総含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜７質量％であることがより好ましい。
上述した実施形態における好ましい組成物は、焼き付き難く、滴下痕が発生し難く、製造装置汚染性がとても少なく、プロセス適合性が大変高く、低温での溶解性がとても良いという性質が全て調っており、大変よくバランスの取れた優れた液晶組成物を与える。特に、プロセス適合性と低温での溶解性とのバランスに優れている。
本発明の液晶組成物において、前記一般式(ｉｉ)で表される化合物として1種類だけが含まれる別の実施形態では、前記一般式(ｉｉ)中のＲｉｉ１およびＲｉｉ２の一方がアルケニル基であり、他方がアルキル基であることが好ましく、前記式（ｉｉ．２．３）または前記式（ｉｉ．２．４）で表される化合物であることがより好ましい。
当該実施形態における前記式（ｉｉ．２．３）または前記式（ｉｉ．２．４）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜２０質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることがより好ましく、８〜１３質量％であることがより更に好ましい。
本発明の液晶組成物において、前記一般式(ｉ)と、前記式（ｉｉ．２．３）または前記式（ｉｉ．２．４）で表される化合物とが含まれる場合、前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物を更に含むことが好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物としては、前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物が好ましく、前記式（３１．２）または前記式（３１．４）で表される化合物がより好ましい。
前記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物としては、前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物が好ましく、前記式（３１．２）または前記式（３１．４）で表される化合物がより好ましい。
当該実施形態における、前記式（３１．２）または前記式（３１．４）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、１〜８質量％であることがより好ましい。
また、前記一般式（ＩＸ−２−２）で表される化合物の総含有量は、液晶組成物の総質量に対して、５〜１５質量％であることが好ましく、７〜１２質量％であることがより好ましく、８〜１０質量％であることがより更に好ましい。
当該実施形態において、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物を更に含有することが好ましい。
前記一般式（ＸＩ）で表される化合物としては、前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物が好ましく、前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物を少なくとも２種類含有することが好ましい。
前記一般式（ＸＩ）で表される化合物としては、前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物が好ましく、前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物を少なくとも２種類含有することが好ましい。
前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、１〜８質量％であることがより好ましく、１〜６質量％であることがより更に好ましい。
前記一般式（ＸＩ−１）で表される化合物を２種類含有する場合には、液晶組成物の総質量に対して、前記式（４５．２）で表される化合物を１〜２質量％含有し、前記式（４５．３）で表される化合物を１〜４質量％含有することが好ましい。
当該実施形態において、前記一般式（Ｘ―６）で表される化合物を更に含有することが好ましく、前記一般式（Ｘ―６）で表される化合物を少なくとも２種類含有することがより好ましい。
前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１２質量％であることが好ましく、１〜９質量％であることがより好ましく、５〜９質量％であることがより更に好ましい。
前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物を２種類含有する場合には、前記式（４４．１）で表される化合物および前記式（４４．２）で表される化合物を併用することが好ましく、液晶組成物の総質量に対する各化合物の含有量は１〜５質量％であることが好ましく、２〜４質量％であることがより好ましい。
前記一般式（ＸＩ−１）と前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物は、何れも、１分子中に環構造を4個有する化合物であるが、液晶組成物の総質量に対する当該化合物の総含有量は、５〜２０質量％であることが好ましく、１０〜１５質量％であることがより好ましい。さらに、液晶組成物に含まれる１分子中に4つの環構造を有する化合物の総質量に対する、前記一般式（ＸＩ−１）と前記一般式（Ｘ−６）で表される化合物の総含有量は、８５〜１００質量％であることが好ましく、９０〜１００質量％であることがより好ましく、９５〜１００質量％であることがより更に好ましい。
上述した実施形態における好ましい組成物は、焼き付き難く、滴下痕が発生し難く、製造装置汚染性がとても少なく、プロセス適合性が大変高く、低温での溶解性がとても良いという性質が全て調っており、大変よくバランスの取れた優れた液晶組成物を与える。特に、プロセス適合性の高さと焼き付きの発生し難さとのバランスに優れている。
次に、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物として２種類の化合物が含まれる場合の好ましい実施形態について説明する。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を２種類含む一つの実施形態では、前記一般式（ｉｉ）中のＲｉｉ１およびＲｉｉ２の両方がアルキル基である化合物が好ましく用いられる。
本発明の液晶組成物において、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を２種類含む一つの実施形態では、前記一般式（ｉｉ）中のＲｉｉ１およびＲｉｉ２の両方がアルキル基である化合物が好ましく用いられる。
前記一般式（ｉｉ）で表される２種類の化合物が、前記式（ｉｉ．１．１）または前記式（ｉｉ．１．２）で表される化合物と、前記式（ｉｉ．１．４）または前記式（ｉｉ．１．５）で表される化合物とである一つの実施形態において、液晶組成物の総質量に対する、前記式（ｉｉ．１．１）または前記式（ｉｉ．１．２）で表される化合物の含有量が１〜７質量％、より好ましくは２〜６質量％であることが好ましく、前記式（ｉｉ．１．４）または前記式（ｉｉ．１．５）で表される化合物の含有量が１〜５質量％、より好ましくは２〜４質量％であることが好ましい。さらに、前記一般式（ｉｉ）で表される２種類の化合物の総含有量が、液晶組成物の総質量に対して、５〜１５質量％あることが好ましく、８〜１１質量％であることがより好ましい。
当該実施形態において、さらに、前記一般式（Ｉ−１−１）、前記一般式（Ｉ−１−２）、および／または、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物を、少なくとも２種類含有することが好ましく、少なくとも３種類含有することがより好ましい。
当該実施形態において、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物として、前記式（１１．１）で表される化合物を、液晶組成物の総質量に対して、６〜１０質量％含有することが好ましく、６〜８質量％含有することがより好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物として、前記式（１．３）で表される化合物を、液晶組成物の総質量に対して、１〜６質量％含有することが好ましく、１〜５質量％含有することがより好ましく、１〜３質量％含有することがより更に好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物として、前記式（２．２）で表される化合物を、液晶組成物の総質量に対して、１〜２５質量％含有することが好ましく、５〜２０質量％含有することがより好ましく、１０〜２０質量％含有することがより更に好ましく、１３〜１８質量％含有することが特に好ましい。
当該実施形態において、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物として、前記式（１１．１）で表される化合物を、液晶組成物の総質量に対して、６〜１０質量％含有することが好ましく、６〜８質量％含有することがより好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−１−１）で表される化合物として、前記式（１．３）で表される化合物を、液晶組成物の総質量に対して、１〜６質量％含有することが好ましく、１〜５質量％含有することがより好ましく、１〜３質量％含有することがより更に好ましい。
さらに、前記一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物として、前記式（２．２）で表される化合物を、液晶組成物の総質量に対して、１〜２５質量％含有することが好ましく、５〜２０質量％含有することがより好ましく、１０〜２０質量％含有することがより更に好ましく、１３〜１８質量％含有することが特に好ましい。
前記一般式（Ｉ−１−１）、前記一般式（Ｉ−１−２）、および、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物を３種類含有する場合、当該化合物の総含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１５〜３５質量％であることが好ましく、２０〜３０質量％であることがより好ましく、２２〜２７質量％であることがより更に好ましい。
当該実施形態の液晶組成物に含まれる、前記一般式（Ｉ−１−１）、前記一般式（Ｉ−１−２）、および、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の総質量に対する、前記式（１１．１）、前記式（１．３）、および、前記式（２．２）で表される化合物の含有量は、８５〜１００質量％であることが好ましく、９０〜１００質量％であることがより好ましく、９５〜１００質量％であることがより更に好ましい。
上述した実施形態における好ましい組成物は、焼き付き難く、滴下痕が発生し難く、製造装置汚染性がとても少なく、プロセス適合性が大変高く、低温での溶解性がとても良いという性質が全て調っており、大変よくバランスの取れた優れた液晶組成物を与える。特に、プロセス適合性の高さと焼き付きの発生し難さとのバランスに優れている。
前記一般式（ｉｉ）で表される２種類の化合物が、前記式（ｉｉ．１．１）または前記式（ｉｉ．１．２）で表される化合物と、前記式（ｉｉ．１．６）または前記式（ｉｉ．１．７）で表される化合物とである別の実施形態において、液晶組成物の総質量に対する、前記式（ｉｉ．１．１）または前記式（ｉｉ．１．２）で表される化合物の含有量は７〜２０質量％、より好ましくは９〜１３質量％であることが好ましく、前記式（ｉｉ．１．４）または前記式（ｉｉ．１．５）で表される化合物の含有量は４〜２０質量％、より好ましくは１０〜１８質量％であることが好ましい。さらに、前記一般式(ii)で表される２種類の化合物の総含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１５〜３０質量％であることが好ましく、２０〜３０質量％であることがより好ましい。
当該実施形態の液晶組成物において、前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物が更に含まれることが好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１９質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることがより好ましく、８〜１３質量％であることがより更に好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物としては、前記一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される化合物が好ましく、前記式（２６．１）または前記式（２６．２）で表される化合物がより好ましく、前記式（２６．２）で表される化合物がより更に好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、液晶組成物の総質量に対して、１〜１９質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることがより好ましく、８〜１３質量％であることがより更に好ましい。
前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物としては、前記一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される化合物が好ましく、前記式（２６．１）または前記式（２６．２）で表される化合物がより好ましく、前記式（２６．２）で表される化合物がより更に好ましい。
当該実施形態の液晶組成物は、更に、前記式（２．５）、前記一般式（Ｉ−１−２）、および／または、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物を、少なくとも２種類含有することが好ましく、少なくとも３種類含有することがより好ましい。
これらの中から、液晶組成物の総質量に対して、前記式(2.5)で表される化合物を１〜３０質量％、より好ましくは２０〜３０質量％含有することが好ましく、前記式（２．２）で表される化合物を１〜２５質量％、より好ましくは１０〜２０質量％、より更に好ましくは１２〜１８質量％含有することが好ましく、前記式（１１．１）で表される化合物を６〜２５質量％、より好ましくは１０〜２０質量％、より更に好ましくは１２〜１７質量％含有することが好ましい。
これらの中から、液晶組成物の総質量に対して、前記式(2.5)で表される化合物を１〜３０質量％、より好ましくは２０〜３０質量％含有することが好ましく、前記式（２．２）で表される化合物を１〜２５質量％、より好ましくは１０〜２０質量％、より更に好ましくは１２〜１８質量％含有することが好ましく、前記式（１１．１）で表される化合物を６〜２５質量％、より好ましくは１０〜２０質量％、より更に好ましくは１２〜１７質量％含有することが好ましい。
前記一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物および前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物を少なくとも２種類含有する実施形態においては、前記一般式（Ｉ−１−２）で表される化合物および前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の総質量に対する、前記式（２．２）で表される化合物および前記式（１１．１）で表される化合物の総含有量が、８０〜１００質量％であることが好ましく、９０〜１００質量％であることがより好ましく、９５〜１００質量％であることがより更に好ましい。
当該実施形態の液晶組成物は、更に、前記一般式（Ｖ−２）で表される化合物を含有することが好ましい。
前記一般式（Ｖ−２）中のＲ５１またはＲ５２は炭素原子数２〜５のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が２または５のアルキル基であることがより好ましく、Ｒ５１またはＲ５２の炭素原子数が異なることがより更に好ましい。
前記一般式（Ｖ−２）中のＸ５１とＸ５２の一方がフッ素原子であり、他方が水素原子であることが好ましい。
前記一般式（Ｖ−２）中のＲ５１またはＲ５２は炭素原子数２〜５のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が２または５のアルキル基であることがより好ましく、Ｒ５１またはＲ５２の炭素原子数が異なることがより更に好ましい。
前記一般式（Ｖ−２）中のＸ５１とＸ５２の一方がフッ素原子であり、他方が水素原子であることが好ましい。
上述した形態における特に好ましい組成物は、焼き付き難く、滴下痕が発生し難く、製造装置汚染性がとても少なく、プロセス適合性が大変高く、低温での溶解性がとても良いという性質が全て調っており、大変よくバランスの取れた優れた液晶組成物を与える。特に、プロセス適合性の高さと焼き付きの発生し難さとのバランスに優れている。
＜液晶表示素子＞
本発明の重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＥＣＢ−ＬＣＤ、ＶＡ−ＬＣＤ、ＶＡ−ＩＰＳ−ＬＣＤ、ＦＦＳ−ＬＣＤ、ＡＭ−ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ−ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ−ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。
本発明の重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＥＣＢ−ＬＣＤ、ＶＡ−ＬＣＤ、ＶＡ−ＩＰＳ−ＬＣＤ、ＦＦＳ−ＬＣＤ、ＡＭ−ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ−ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ−ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。
液晶表示素子に使用される液晶セルの２枚の基板はガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。
カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作製することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作製方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作製することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。
前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。１．５から１０μｍが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚ｄとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料などからなる柱状スペーサー等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。
２枚の基板間に重合性化合物含有液晶組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法又はＯＤＦ法などを用いることができる。しかし真空注入法においては滴下痕が発生しない代わりに、注入の跡が残るという課題がある。本願発明においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子に、より好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーンまたはフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本発明の液晶組成物は、ＯＤＦ工程における液晶組成物の滴下が安定的に行えるため、好適に使用することができる。
重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合性化合物含有液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚから１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚから１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度から８９．９度に制御することが好ましい。
照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５〜３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００Ｗ／ｃｍ２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ２〜５０Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ２から５００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２から２００Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒から３６００秒が好ましく、１０秒から６００秒がより好ましい。
本発明の液晶組成物を用いた液晶表示素子は高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳＡモード、ＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）モード、ＶＡ−ＩＰＳモード、ＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）モード又はＥＣＢモード用液晶表示素子に適用できる。
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る液晶表示ディスプレイの好適な実施の形態について詳細に説明する。
図１は、互いに対向する二つの基板と、前記基板間に設けられたシール材と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶とを備えている液晶表示素子を示す断面図である。
具体的には、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２、画素電極１０３を設け、その上からパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けたバックプレーンと、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルター２０３、平坦化膜（オーバーコート層）２０１、透明電極２０４を設け、その上から第２配向膜２０５を設け、前記バックプレーンと対向させたフロントプレーンと、前記基板間に設けられたシール材３０１と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶層３０３とを備え、前記シール材３０１が接する基板面には突起（柱状スペーサー）３０２，３０４が設けられている液晶表示素子の具体的態様を示している。
前記第１基板又は前記第２基板は、実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ−ス、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、さらにガラス繊維−エポキシ樹脂、ガラス繊維−アクリル樹脂などの無機−有機複合材料などを用いることができる。
なおプラスチック基板を使用する際には、バリア膜を設けることが好ましい。バリア膜の機能は、プラスチック基板が有する透湿性を低下させ、液晶表示素子の電気特性の信頼性を向上することにある。バリア膜としては、それぞれ、透明性が高く水蒸気透過性が小さいものであれば特に限定されず、一般的には酸化ケイ素などの無機材料を用いて蒸着やスパッタリング、ケミカルベーパーデポジション法（ＣＶＤ法）によって形成した薄膜を使用する。
本発明においては、前記第１基板又は前記第２基板として同素材を使用しても異素材を使用してもよく、特に限定はない。ガラス基板を用いれば耐熱性や寸法安定性の優れた液晶表示素子を作製することができるので好ましい。またプラスチック基板であれば、ロールツウロール法による製造方法に適し且つ軽量化あるいはフレキシブル化に適しており好ましい。また、平坦性及び耐熱性付与を目的とするならば、プラスチック基板とガラス基板とを組み合わせると良い結果を得ることができる。
なお後述の実施例においては、第１基板１００又は第２基板２００の材質として基板を使用している。
なお後述の実施例においては、第１基板１００又は第２基板２００の材質として基板を使用している。
バックプレーンには、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２及び画素電極１０３を設けている。これらは通常のアレイ工程にて製造される。この上にパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けてバックプレーンが得られる。
パッシベーション膜１０４（無機保護膜ともいう）はＴＦＴ層を保護するための膜で、通常は窒化膜（ＳｉＮｘ）、酸化膜（ＳｉＯｘ）等を化学的気相成長（ＣＶＤ）技術等により形成する。
また、第１配向膜１０５は、液晶を配向させる機能を有する膜であり、通常ポリイミドのような高分子材料が用いられることが多い。塗布液には、高分子材料と溶剤からなる配向剤溶液が使われる。配向膜はシール材との接着力を阻害する可能性があるため、封止領域内にパターン塗布する。塗布にはフレキソ印刷法のような印刷法、インクジェットのような液滴吐出法が用いられる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、ベーキングにより架橋硬化される。この後、配向機能を出すために、配向処理を行う。
配向処理は通常ラビング法にて行われる。前述のように形成された高分子膜上を、レーヨンのような繊維から成るラビング布を用いて一方向にこすることにより液晶配向能が生じる。
また、光配向法を用いることもある。光配向法は、光感受性を有する有機材料を含む配向膜上に偏光を照射することにより配向能を発生させる方法であり、ラビング法による基板の傷や埃の発生が生じない。光配向法における有機材料の例としては二色性染料を含有する材料がある。二色性染料としては、光二色性に起因するワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応（例：アゾベンゼン基）、二量化反応（例：シンナモイル基）、光架橋反応（例：ベンゾフェノン基）、あるいは光分解反応（例：ポリイミド基）のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じる基（以下、光配向性基と略す）を有するものを用いることができる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、任意の偏向を有する光（偏光）を照射することで、任意の方向に配向能を有する配向膜を得ることができる。
一方のフロントプレーンは、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルター２０３、平坦化膜２０１、透明電極２０４、第２配向膜２０５を設けている。
ブラックマトリックス２０２は、例えば、顔料分散法にて作製する。具体的にはバリア膜２０１を設けた第２基板２００上に、ブラックマトリックス形成用に黒色の着色剤を均一分散させたカラーレジン液を塗布し、着色層を形成する。続いて、着色層をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。
あるいは、フォトレジスト型の顔料分散液を使用してもよい。この場合は、フォトレジスト型の顔料分散液を塗布し、プリベークしたのち、マスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。
カラーフィルター２０３は、顔料分散法、電着法、印刷法あるいは染色法等にて作製する。顔料分散法を例にとると、（例えば赤色の）顔料を均一分散させたカラーレジン液を第２基板２００上に塗布し、ベーキング硬化後、該上にフォトレジストを塗布しプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に現像を行い、パターニングする。この後フォトレジスト層を剥離し、再度ベーキングすることで、（赤色の）カラーフィルター２０３が完成する。作製する色順序に特に限定はない。同様にして、緑カラーフィルター２０３、青カラーフィルター２０３を形成する。
透明電極２０４は、前記カラーフィルター２０３上に（必要に応じて前記カラーフィルター２０３上に表面平坦化のためにオーバーコート層（２０１）を設け）を設ける。透明電極２０４は透過率が高い方が好ましく、電気抵抗が小さいほうが好ましい。透明電極２０４はＩＴＯなどの酸化膜をスパッタリング法などによって形成する。
また、前記透明電極２０４を保護する目的で、透明電極２０４の上にパッシベーション膜を設ける場合もある。
第２配向膜２０５は、前述の第１配向膜１０５と同じものである。
以上、本発明で使用する前記バックプレーン及び前記フロントプレーンについての具体的態様を述べたが、本願においては該具体的態様に限定されることはなく、所望される液晶表示素子に応じた態様の変更は自由である。
前記柱状スペーサーの形状は特に限定されず、その水平断面を円形、四角形などの多角形など様々な形状にすることができるが、工程時のミスアラインマージンを考慮して、水平断面を円形または正多角形にすることが特に好ましい。また該突起形状は、円錐台または角錐台であることが好ましい。
前記柱状スペーサーの材質は、シール材もしくはシール材に使用する有機溶剤、あるいは液晶に溶解しない材質であれば特に限定されないが、加工及び軽量化の面から合成樹脂（硬化性樹脂）であることが好ましい。一方、前記突起は、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法により、第一の基板上のシール材が接する面に設けることが可能である。このような理由から、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法に適した、光硬化性樹脂を使用することが好ましい。
例として、前記柱状スペーサーをフォトリソグラフィ法によって得る場合について説明する。図２は、フォトマスクパターンとしてブラックマトリックス上に形成する柱状スペーサー作製用パターンを使用した露光処理工程の図である。
前記フロントプレーンの透明電極２０４上に、柱状スペーサー形成用の（着色剤を含まない）レジン液を塗布する。続いて、このレジン層４０２をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターン４０１を通して露光した後に、現像を行ってレジン層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、レジン層をベーキングして柱状スペーサー（図１の３０２，３０４）が完成する。
柱状スペーサーの形成位置はマスクパターンによって所望の位置に決めることができる。従って、液晶表示素子の封止領域内と封止領域外（シール材塗布部分）との両方を同時に作製することができる。また柱状スペーサーは封止領域の品質が低下することがないように、ブラックマトリックスの上に位置するように形成させることが好ましい。このようにフォトリソグラフィ法によって作製された柱状スペーサーのことを、カラムスペーサ又はフォトスペーサと呼ぶことがある。
前記スペーサーの材質は、ＰＶＡ−スチルバゾ感光性樹脂などのネガ型水溶性樹脂や多官能アクリル系モノマー、アクリル酸共重合体、トリアゾール系開始剤などの混合物が使用される。あるいはポリイミド樹脂に着色剤を分散させたカラーレジンを使う方法もある。本発明においては特に限定はなく、使用する液晶やシール材との相性に従い公知の材質でスペーサーを得ることができる。
このようにして、フロントプレーン上の封止領域となる面に柱状スペーサーを設けた後、該バックプレーンのシール材が接する面にシール材（図１における３０１）を塗布する。
シール材の材質は特に限定はなく、エポキシ系やアクリル系の光硬化性、熱硬化性、光熱併用硬化性の樹脂に重合開始剤を添加した硬化性樹脂組成物が使用される。また、透湿性や弾性率、粘度などを制御するために、無機物や有機物よりなるフィラー類を添加することがある。これらフィラー類の形状は特に限定されず、球形、繊維状、無定形などがある。さらに、セルギャップを良好に制御するために単分散径を有する球形や繊維状のギャップ材を混合したり、基板との接着力をより強化するために、基板上突起と絡まりやすい繊維状物質を混合しても良い。このとき使用する繊維状物質の直径はセルギャップの１／５〜１／１０以下程度が望ましく、繊維状物質の長さはシール塗布幅よりも短いことが望ましい。
また、繊維状物質の材質は所定の形状が得られるものであれば特に限定されず、セルロース、ポリアミド、ポリエステルなどの合成繊維やガラス、炭素などの無機材料を適宜選ぶことが可能である。
シール材を塗布する方法としては、印刷法やディスペンス法があるが、シール材の使用量が少ないディスペンス法が望ましい。シール材の塗布位置は封止領域に悪影響を及ぼさないように通常ブラックマトリックス上とする。次工程の液晶滴下領域を形成するため（液晶が漏れないように）、シール材塗布形状は閉ループ形状とする。
前記シール材を塗布したフロントプレーンの閉ループ形状（封止領域）に液晶を滴下する。通常はディスペンサーを使用する。滴下する液晶量は液晶セル容積と一致させるため、柱状スペーサーの高さとシール塗布面積とを掛け合わせた体積と同量を基本とする。しかし、セル貼り合わせ工程における液晶漏れや表示特性の最適化のために、滴下する液晶量を適宜調整することもあれば、液晶滴下位置を分散させることもある。
次に、前記シール材を塗布し液晶を滴下したフロントプレーンに、バックプレーンを貼り合わせる。具体的には、静電チャックのような基板を吸着させる機構を有するステージに前記フロントプレーンと前記バックプレーンとを吸着させ、フロントプレーンの第２配向膜とバックプレーンの第１配向膜とが向きあい、シール材ともう一方の基板が接しない位置（距離）に配置する。この状態で系内を減圧する。減圧終了後、フロントプレーンとバックプレーンとの貼り合せ位置を確認しながら両基板位置を調整する（アライメント操作）。貼り合せ位置の調整が終了したら、フロントプレーン上のシール材とバックプレーンとが接する位置まで基板を接近させる。この状態で系内に不活性ガスを充填させ、徐々に減圧を開放しながら常圧に戻す。このとき、大気圧によりフロントプレーンとバックプレーンが貼り合わされ、柱状スペーサーの高さ位置でセルギャップが形成される。この状態でシール材に紫外線を照射してシール材を硬化することによって液晶セルを形成する。この後、場合によって加熱工程を加え、シール材硬化を促進する。シール材の接着力強化や電気特性信頼性の向上のために、加熱工程を加えることが多い。
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は「質量％」を意味する。
実施例中、測定した特性は以下の通りである。
Ｔｎｉ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ：２９８Ｋにおける屈折率異方性（別名：複屈折率）
Δε：２９８Ｋおける誘電率異方性
η：２９３Ｋにおける粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１：２９８Ｋにおける回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
Ｔｎｉ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ：２９８Ｋにおける屈折率異方性（別名：複屈折率）
Δε：２９８Ｋおける誘電率異方性
η：２９３Ｋにおける粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１：２９８Ｋにおける回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
ＶＨＲ：周波数６０Ｈｚ，印加電圧５Ｖの条件下で３３３Ｋにおける電圧保持率（％）
耐熱試験後ＶＨＲ：液晶組成物サンプルを封入した電気光学特性評価用ＴＥＧ（テスト・エレメント・グループ）を１３０℃の恒温槽中に１時間保持した後、上述のＶＨＲ測定方法と同条件で測定した。
耐熱試験後ＶＨＲ：液晶組成物サンプルを封入した電気光学特性評価用ＴＥＧ（テスト・エレメント・グループ）を１３０℃の恒温槽中に１時間保持した後、上述のＶＨＲ測定方法と同条件で測定した。
焼き付き：
液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを任意の試験時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像が、許容できない残像レベルに達するまでの試験時間を計測した。
１）ここで言う試験時間とは固定パターンの表示時間を示し、この時間が長いほど残像の発生が抑制されており、性能が高いことを示している。
２）許容できない残像レベルとは、合否判定で不合格となる残像が観察されるレベルである。
液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを任意の試験時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像が、許容できない残像レベルに達するまでの試験時間を計測した。
１）ここで言う試験時間とは固定パターンの表示時間を示し、この時間が長いほど残像の発生が抑制されており、性能が高いことを示している。
２）許容できない残像レベルとは、合否判定で不合格となる残像が観察されるレベルである。
滴下痕：
液晶表示装置の滴下痕の評価は、全面黒表示した場合における白く浮かび上がる滴下痕を目視にて以下の５段階評価で行った。
５：滴下痕無し（優）
４：滴下痕ごく僅かに有るも許容できるレベル（良）
３：滴下痕僅かに有り、合否判定のボーダーラインレベル（条件付で可）
２：滴下痕有り、許容できないレベル（不可）
１：滴下痕有り、かなり劣悪（悪）
液晶表示装置の滴下痕の評価は、全面黒表示した場合における白く浮かび上がる滴下痕を目視にて以下の５段階評価で行った。
５：滴下痕無し（優）
４：滴下痕ごく僅かに有るも許容できるレベル（良）
３：滴下痕僅かに有り、合否判定のボーダーラインレベル（条件付で可）
２：滴下痕有り、許容できないレベル（不可）
１：滴下痕有り、かなり劣悪（悪）
プロセス適合性：
プロセス適合性は、ＯＤＦプロセスにおいて、定積計量ポンプを用いて１回に５０ｐＬずつ「０〜１００回、１０１〜２００回、２０１〜３００回、・・・・」と１００回ずつ滴下したときの各１００回滴下分の液晶の質量を計測し、質量のバラつきがＯＤＦプロセスに適合できない大きさに達した滴下回数で評価した。
滴下回数が多いほど長時間にわたって安定的に滴下可能であり、プロセス適合性が高いといえる。
プロセス適合性は、ＯＤＦプロセスにおいて、定積計量ポンプを用いて１回に５０ｐＬずつ「０〜１００回、１０１〜２００回、２０１〜３００回、・・・・」と１００回ずつ滴下したときの各１００回滴下分の液晶の質量を計測し、質量のバラつきがＯＤＦプロセスに適合できない大きさに達した滴下回数で評価した。
滴下回数が多いほど長時間にわたって安定的に滴下可能であり、プロセス適合性が高いといえる。
低温での溶解性：
低温での溶解性評価は、液晶組成物を調製後、２ｍＬのサンプル瓶に液晶組成物を１ｇ秤量し、これに温度制御式試験槽の中で、次の運転状態「−２０℃（１時間保持）→昇温（０．１℃／毎分）→０℃（１時間保持）→昇温（０．１℃／毎分）→２０℃（１時間保持）→降温（−０．１℃／毎分）→０℃（１時間保持）→降温（−０．１℃／毎分）→−２０℃」を１サイクルとして温度変化を与え続け、目視にて液晶組成物からの析出物の発生を観察し、析出物が観察されたときの試験時間を計測した。
試験時間が長いほど長時間にわたって安定して液晶相を保っており、低温での溶解性が良好である。
低温での溶解性評価は、液晶組成物を調製後、２ｍＬのサンプル瓶に液晶組成物を１ｇ秤量し、これに温度制御式試験槽の中で、次の運転状態「−２０℃（１時間保持）→昇温（０．１℃／毎分）→０℃（１時間保持）→昇温（０．１℃／毎分）→２０℃（１時間保持）→降温（−０．１℃／毎分）→０℃（１時間保持）→降温（−０．１℃／毎分）→−２０℃」を１サイクルとして温度変化を与え続け、目視にて液晶組成物からの析出物の発生を観察し、析出物が観察されたときの試験時間を計測した。
試験時間が長いほど長時間にわたって安定して液晶相を保っており、低温での溶解性が良好である。
揮発性／製造装置汚染性：
液晶材料の揮発性評価は、真空攪拌脱泡ミキサーの運転状態をストロボスコープを用いて観察し、液晶材料の発泡を目視により観察することによって行った。具体的には、容量２．０Ｌの真空攪拌脱泡ミキサーの専用容器に液晶組成物を０．８ｋｇ入れ、４ｋＰａの脱気下、公転速度１５Ｓ−１、自転速度７．５Ｓ−１で真空攪拌脱泡ミキサーを運転し、発泡が始まるまでの時間を計測した。
発泡が始まるまでの時間が長いほど揮発しにくく、製造装置を汚染する可能性が低いので、高性能であることを示す。
液晶材料の揮発性評価は、真空攪拌脱泡ミキサーの運転状態をストロボスコープを用いて観察し、液晶材料の発泡を目視により観察することによって行った。具体的には、容量２．０Ｌの真空攪拌脱泡ミキサーの専用容器に液晶組成物を０．８ｋｇ入れ、４ｋＰａの脱気下、公転速度１５Ｓ−１、自転速度７．５Ｓ−１で真空攪拌脱泡ミキサーを運転し、発泡が始まるまでの時間を計測した。
発泡が始まるまでの時間が長いほど揮発しにくく、製造装置を汚染する可能性が低いので、高性能であることを示す。
（実施例１〜３）
表１に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物および液晶表示装置の評価結果を表２に示す。
表１に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物および液晶表示装置の評価結果を表２に示す。
（比較例１）
前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有しない、表１に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物および液晶表示装置の評価結果を表２に示す。
前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有しない、表１に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物および液晶表示装置の評価結果を表２に示す。
実施例１で調製された組成物は、比較例１で調製された組成物に比して、ＯＤＦプロセスにおいて、長期にわたって安定的に滴下を継続することができ、また、低温での溶解性に顕著に優れたものであった。また、実施例１で作製された液晶表示装置は、比較例１で作製された液晶表示装置に比して、焼き付きが抑制されたものであった。
（実施例４〜８）
表３に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表４に示す。
表３に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表４に示す。
（実施例９〜１３）
表５に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表６に示す。
表５に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表６に示す。
（実施例１４〜１７）
表７に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表８に示す。
表７に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表８に示す。
（実施例１８〜２１）
表９に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表１０に示す。
表９に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表１０に示す。
（実施例２２〜２５）
表１１に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表１２に示す。
表１１に示す組成物を調製し、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型液晶表示装置を作製した。得られた組成物及び液晶表示装置の評価結果を表１２に示す。
上記実施例で調製した液晶組成物は粘性が低く、低温での溶解性が良好なものであった。また、揮発性に乏しく、装置汚染を抑制できるものであった。また、ＯＤＦプロセスにおいて、液晶組成物の滴下量のずれを抑制することができるものであり、長期にわたって安定的に液晶表示装置を作製することができるものであった。また、実施例で作製した液晶表示装置は、耐熱性に優れたものであり、長期にわたり安定な表示特性を保つものであった。
本発明の正の誘電率異方性を有する液晶組成物は、低温での溶解性が良好で、比抵抗や電圧保持率が熱や光によって受ける変化が極めて小さいため、製品の実用性が高く、これを含む液晶表示素子は高速応答を達成できる。また液晶表示素子製造工程において安定的に液晶組成物の滴下を継続できるため、工程起因の表示不良が抑制されて歩留まり高く製造できるので、非常に有用である。
１００ 第１基板
１０２ ＴＦＴ層
１０３ 画素電極
１０４ パッシベーション層
１０５ 第１配向膜
２００ 第２基板
２０１ 平坦化膜
２０２ ブラックマトリックス
２０３ カラーフィルター
２０４ 透明電極
２０５ 第２配向膜
３０１ シール材
３０２ 突起（柱状スペーサー）
３０３ 液晶層
３０４ 突起（柱状スペーサー）
４０１ マスクパターン
４０２ レジン層
１０２ ＴＦＴ層
１０３ 画素電極
１０４ パッシベーション層
１０５ 第１配向膜
２００ 第２基板
２０１ 平坦化膜
２０２ ブラックマトリックス
２０３ カラーフィルター
２０４ 透明電極
２０５ 第２配向膜
３０１ シール材
３０２ 突起（柱状スペーサー）
３０３ 液晶層
３０４ 突起（柱状スペーサー）
４０１ マスクパターン
４０２ レジン層
Claims (7)
- 下記式（ｉ）：
で表される化合物、下記一般式（ＩＩ−２）：
で表される化合物、下記式（２３．１）：
液晶組成物の総質量に対する、前記一般式（ＩＩ−２）で表される化合物の含有量が６〜３５質量％であることを特徴とする液晶組成物。 - 前記液晶組成物の総量に対して、前記式（ｉ）で表される化合物を１質量％以上３０質量％以下含有し、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を１質量％以上４０質量％以下含有する請求項１に記載の液晶組成物。
- 下記一般式（Ｌ）：
ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＯＬは０、１、２又は３を表し、
ＢＬ１、ＢＬ２及びＢＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）と基（ｂ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＬＬ１及びＬＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＯＬが２又は３であってＬＬ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢＬ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物、及び前記式（２３．１）で表される化合物を除く、
で表される少なくとも１種の化合物を更に含有する請求項１に記載の液晶組成物。 - 下記一般式（Ｍ）：
ＲＭ１は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の少なくとも２個の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
ＣＭ１及びＣＭ２は、それぞれ独立して、
（ｄ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、及び、
（ｅ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない少なくとも２個の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）と基（ｅ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ＫＭ１及びＫＭ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＰＭが２、３又は４であってＫＭ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣＭ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
ＸＭ１及びＸＭ３は、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
ＸＭ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表すが、前記式（ｉ）で表される化合物、及び前記式（２６．２）で表される化合物を除く、
で表される少なくとも１種の化合物を更に含有する請求項１又は２に記載の液晶組成物。 - 請求項１に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
- 表示方式がＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＶＡモード、ＶＡ−ＩＰＳモード、又はＦＦＳモードである請求項５に記載の液晶表示素子。
- 請求項５又は６に記載の液晶表示素子を使用したことを特徴とする液晶表示ディスプレイ。
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