JP5572434B2 - ミラー装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係るミラー装置を備えた極端紫外(EUV)光源装置の概略構成を示す側面図である。このEUV光源装置は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ生成プラズマ(LPP)方式を採用している。図1に示すように、このEUV光源装置は、チャンバ1と、ターゲット供給部2と、ドライバレーザ3と、EUV集光ミラー5と、電磁石6a及び6bと、ポンプ7と、熱交換部8と、位置決め機構9とを有している。
レーザ光がドロップレットDLに照射されると、レーザ光のエネルギーによって、ドロップレットDLの一部又は全部がプラズマ化し、そこからEUV光を含む様々な波長成分が放射される。
ミラー基板5a内には、温度調節媒体である水、アルコール類、オイル等の流体のための少なくとも1つの流路5fが形成されている。
1本の供給配管5cと、1本の排出配管5dとで、温度調節媒体が出入りする1組の配管が構成される。そして、1つの支持部5bに沿って、1組の配管がそれぞれ配置されている。
図3(A)は、第1実施形態に係るミラー装置に関する第1の実施例を示す正面図であり、図3(B)はその断面図である。
図4(A)においては、ミラー基板5aの中央に、ドライバレーザ3(図1参照)からのレーザ光を導入するための穴5nが形成された例が示されている。また、図4(B)に示すように、第2の実施例は、1つの供給配管5c及び1つの排出配管5dが、1つの支持部5bの外側に沿って配置されている点で、図3に示す第1の実施例と異なる。他の点については第1の実施例と同様である。
図5に示す第3の実施例は、フレキシブル管5gをチャンバ壁1aと支持部5bとに密着させて固定する他に、フレキシブル管5mの一端を筒状の支持部5bに、他端をミラー基板5aの裏面(反射層5eと反対側の面)に密着させて固定することによって、チャンバ1内の真空状態を保持する点で、図3(B)に示す第1の実施例と異なる。
また、第3の実施例は、ミラー基板5aが支持部5bによって支持される位置(ミラー基板5aの側面)と、ミラー基板内の流路5fに対する供給配管5c及び排出配管5dの接続位置(ミラー基板5aの裏面)とが、近傍であるが別の位置である点で、第1の実施例と異なる。
他の点については第1の実施例と同様である。
図6に示す第4の実施例は、支持部5bがミラー基板5aの裏面(反射層5eと反対側の面)を支持している点で、図3(B)に示す第1の実施例と異なる。また、第4の実施例は、ミラー基板5aがミラー基板5aの裏面において支持部5bに支持され、供給配管5c及び排出配管5dがミラー基板5aの裏面において流路5fに接続されている点で、第1の実施例と異なる。他の点については第1の実施例と同様である。
図7に示す第5の実施例は、支持部5bの内のステージ9b側の部分が、空洞部を有する円筒状に形成されており、支持部5bの内のミラー基板5a側の部分に固定された供給配管5c及び排出配管5dは、上述の空洞部においてはフレキシブルホース5hによって形成されている点で、図6に示す第4の実施例と異なる。他の点については第4の実施例と同様である。
図8に示す第6の実施例は、排出配管5dが供給配管5cの周りを取り囲むように形成されている点で、図6に示す第4の実施例と異なる。例えば、支持部5bは、大径筒状部5jと小径筒状部5kとを含んでおり、大径筒状部5j内に小径筒状部5kが配置されている。小径筒状部5kより内側の空間が供給配管5cの流路となっており、大径筒状部5jより内側であって小径筒状部5kより外側の空間が排出配管5dの流路となっている。他の点については第4の実施例と同様である。
図9は、本発明の第2実施形態に係るミラー装置を備えた極端紫外(EUV)光源装置の概略構成を示す側面図である。図9においては、第2実施形態に係るミラー装置として、EUV集光ミラー5とレーザ集光ミラー15とが図示されている。
また、図9においては、第2実施形態に係るミラー装置の1つであるレーザ集光ミラー15が、温度調節媒体のための少なくとも1つの流路15fが形成されたミラー基板15aと、位置決め機構19に支持された支持部15bと、少なくとも1つの流路15fに接続された少なくとも1つの供給配管15c及び少なくとも1つの排出配管15dとを含んでいる点で、第1実施形態と異なる。他の点については第1実施形態と同様である。
複数の支持部15bは、それぞれ、ミラー基板15aの別々の位置(ここでは3箇所)にそれぞれ固定されることにより、ミラー基板15aを複数の位置においてそれぞれ支持している。
第2実施形態においては、第1実施形態において述べた効果と同様の効果を、EUV集光ミラー5及びレーザ集光ミラー15に関してそれぞれ得ることができる。
なお、第1実施形態および第2実施形態においては、ミラー基板が複数の支持部によって支持される複数の位置の内の1つの位置の近傍において、1つの供給配管と1つの排出配管とが接続される形態を示したが、この実施形態に限定されることなく、上記1つの位置の近傍において2以上の供給配管と2以上の排出配管とが接続される場合であってもよい。
Claims (6)
- 一方の面に反射層が形成され、内部に温度調節媒体のための少なくとも1つの流路が形成されたミラー基板と、
前記ミラー基板を複数の位置においてそれぞれ支持する複数の支持部と、
前記少なくとも1つの流路に接続された少なくとも1つの供給配管及び少なくとも1つの排出配管と、
を具備し、
前記ミラー基板が前記複数の支持部の内の1つによって支持される位置と、前記流路に対する前記供給配管及び前記排出配管の接続位置との間の距離は、前記ミラー基板における最も厚い部分の厚さより小さい、ミラー装置。 - 前記供給配管及び前記排出配管のそれぞれが、1つの支持部に対して固定されている、請求項1記載のミラー装置。
- 1つの支持部に対して、前記供給配管と前記排出配管との両方が固定されている、請求項1又は2記載のミラー装置。
- 前記少なくとも1つの流路内に温度調節媒体を供給する複数の供給配管と、前記少なくとも1つの流路内の温度調節媒体を排出する複数の排出配管と、を具備し、
前記複数の支持部の各々に対して、前記供給配管のそれぞれ1つと前記排出配管のそれぞれ1つとの両方が固定されている、請求項1又は2記載のミラー装置。 - 前記供給配管及び前記排出配管が、1つの支持部の内部に形成されている、請求項1乃至4の何れか一項記載のミラー装置。
- 前記供給配管及び前記排出配管が、1つの支持部の外側に沿って形成されている、請求項1乃至4の何れか一項記載のミラー装置。
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