JP5571170B2 - レーザビームを形成するための装置およびかかる装置を有するレーザ装置 - Google Patents

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Description

本発明は、請求項1または請求項2の上位概念に従ったレーザビームを形成するための装置、および請求項12の上位概念に従ったレーザ装置に関する。
定義:レーザビームの伝播方向とは、特に、レーザビームが、平面波でない場合、または少なくとも部分的に収束または発散する場合においては、レーザビームの中間伝播方向を意味する。光ビーム、部分ビーム、またはビームについては、明確に別段の記載がない場合には、幾何光学の理想的ビームを意味するのではなく、現実の光ビーム、たとえば、無限小ではなく、拡大するビーム断面を示す、ガウスプロファイル、または変形されたガウスプロファイル、またはトップハットプロファイルを有するレーザビームなどを意味する。トップハット分布、またはトップハット強度分布、またはトップハットプロファイルとは、少なくとも方向に関して、実質的に矩形関数(rect(x))によって記載される強度分布を意味する。その場合、実際の強度分布は、パーセント領域ないしは側部において、矩形関数からの逸脱部を有し、同様に、トップハット分布またはトップハットプロファイルと呼ぶことが可能である。
冒頭で挙げたタイプのレーザビームを形成するための装置および冒頭で挙げたタイプのレーザ装置は、国際公開第2008/006460号明細書から知られる。ここに記載される装置の場合、均質化手段として、各レンズの幅が異なるレンズアレイが設けられる。特に、レンズの幅は、周辺から中央へと減少する。
したがって、均質化手段を通過するレーザビームの台形状に低下する側部を有するトップハット角度分布が達成される。このような均質化手段を有する複数のモジュールを、作業平面において各レーザビームが均質な線形強度分布に重なるように、相並べて配置させることが可能である。
この技術水準における欠点として、台形状に低下する側部を有するトップハット角度分布が必要であるということがある。これを達成するためには、レンズ間の間隔が外部から内部に向けて減少するので、切換え手段の形成に大きな費用を要しなければならない。
本発明の基礎とする課題は、特に均質化手段に関して、より簡易に、および/または費用面においても好ましく構成された、冒頭で挙げたタイプのレーザビームを形成するための装置、および冒頭で挙げたタイプのレーザ装置を作製することである。
これは、発明に従えば、請求項1の特徴を有する冒頭で挙げたタイプのレーザビームを形成するための装置、および/または請求項2の特徴を有する冒頭で挙げたタイプのレーザビームを形成するための装置、さらにまた、請求項12の特徴を有する冒頭で挙げたタイプのレーザ装置によって達成される。下位の請求項は、本発明の好ましい実施形態に相当する。
請求項1に従えば、重畳手段は複数のレンズを有するレンズアレイを含んで構成されてなる。請求項2に従えば、該装置はさらに制御手段を含んで構成されてなり、該制御手段は、レーザビームへの影響が、均質化手段から出射された部分ビームそれぞれの強度、または均質化手段から出射された部分ビーム群のそれぞれの強度が同じ大きさとなるようにすることが可能である。両基準は、角度分布の台形状に低下する側部を必要とせずに、または、均質化手段が異ならせたレンズの軸間隔を有することを必要とせずに、作業平面における各部分ビーム、または各部分ビーム群の均質な重畳に寄与することができる。本発明においては、側部が低下し、角度分布が対称であれば十分である。
本発明によって、原則的には、任意の長さの線形強度分布が生じる。さらにまた、均質化手段のための、および/または重畳手段のためのレンズアレイの製造をする場合、均質性の良さは、製造上の許容誤差によってしか損なわれない。高い均質性を、費用のかかる調整装置を要せずに達成することが可能である。
レンズアレイのレンズについては、以下の条件が適用されることをあらかじめ考慮にいれることが可能である。
2・F・NA(50%)=M・P
ただしM=1,2,3,…
式中、Fは、各レンズの焦点距離であり、Pはレンズ間距離であり、NA(50%)は、各レンズの開口数であり、レンズを通過して入射する光の強度が半分に低下する角度について定義している。この要件を満たし、かつ請求項2に従った制御手段によるリターンカップリングを設けることによって、非常に均質な強度分布が達成される。
代わりに、レーザビームとレンズアレイのレンズとに、以下の要件を適用してもよい。
Figure 0005571170
式中、wは、レンズの一つが生じさせる強度分布の最大強度と、1/eに低下した強度との間の作業平面における距離であり、dは、2つの隣接したレンズが生じさせる強度分布の最大強度間の作業平面における距離である。有利なことに、一方において、この実施形態の場合、部分ビームまたは部分ビーム群のガウシアン角度分布も、均質なラインが生じるように重畳させることが可能である。また、他方において、2・F・NA(50%)=M・Pのようにw/d>1.1を厳格に満たす必要がなく、したがって、この種の装置の構成を単純にすることが可能である。
本発明のさらなる特徴と利点は、添付の図を参照した、好ましい実施形態についての以下の説明によって明らかになるであろう。
発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第1の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における1つの部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第1の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における全部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第2の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における全部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第3の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における1つの部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第3の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における全部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第4の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における1つの部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従った、レーザビームを形成するための装置の第4の実施形態についての概略平面図であって、作業平面における全部分ビーム群の強度分布が示されている。 発明に従ったレーザビームを形成するための装置の第5の実施形態の図式的詳細平面図である。 図8に従ったレーザ装置の図式的詳細側面図である。
図において、同じもしくは機能的に同じ、部分、または光ビーム、または強度分布、または寸法は、同じ符号が付与されている。さらにまた、図のいくつかは、分かりやすくするために、デカルト座標系が記入されている。
図1および図2に示された、発明に従った装置の実施形態は、均質化手段1と重畳手段2とを含んでいる。この場合、重畳手段2は、形成されるべきレーザビーム3の伝播方向において均質化手段1の後方に配置される。
均質化手段1は、一群のレンズアレイとして形成され、X方向に互いに並んで配置される複数のレンズ4を含む。この場合、Y方向に延びるシリンダ軸を有するシリンドリカルレンズとしてもよく、また、球面レンズとすることも可能である。
また、重畳手段2も、一群のレンズアレイとして形成され、X方向に互いに並んで配置される複数のレンズ5を含む。この場合も、Y方向に延びるシリンダ軸を有するシリンドリカルレンズとしてもよく、また、球面レンズとすることも可能である。レンズ5のそれぞれは同じ焦点距離を有することが可能である。
図示された実施形態において、重畳手段2は5つのレンズ5を有する。また、より多くの、特に非常に多くの数のレンズ5を設けることも可能であり、その場合、均質化手段1のレンズ4の数もそれに応じて大きくなる。
図示された実施形態において、重畳手段2のレンズ5の幅は、均質化手段1のレンズ4の幅よりも3倍も大きく、したがって、重畳手段2のレンズ5のそれぞれは、均質化手段1の3つのレンズ4に配置されている。レンズ4の中心間距離(ピッチ)Pと、レンズ5の中心間距離Pとには、3・P=Pの関係が成り立つ(図1参照)。
均質化手段1に、もっと小さな、または大きなレンズ4を設けることも可能である。特に、均質化手段1のより多くの数のレンズ4を、重畳手段2のレンズ5のそれぞれに配置することも可能である。
形成されるべきレーザビーム3は、図示された実施形態において、均質化手段1上に現れた時に、線形の強度分布を示し、この線形強度分布のX方向長さは、均質化手段1のX方向長さにおおよそ対応する。
レーザビーム3は、均質化手段1のレンズによって、複数の部分ビーム6に分割される。3つの部分ビーム6の群7は、共に重畳手段2のレンズ5を通過して入射する。重畳手段2のレンズ5から、レンズ5の焦点距離Fに対応する距離Dをおいて設けられる作業平面8において、各群7の3つの部分ビーム6が線形の強度分布9に重畳される(図1参照)。
強度分布9は、実質的に、無限に急峻に低下する側部10ではなく、比較的緩慢に低下する側部10を示す、トップハット分布形状を有する(図1参照)。強度分布9の形状は、均質化手段1の形によって、特に、均質化手段1の個々のレンズ4のそれぞれの形によって予め定められる。
図2に示すように、均質化手段1と重畳手段2とは、作業平面8において部分ビーム7の各群8の強度分布9が、個々の強度分布9の最大強度の50%において重畳するように構成されて設けられる。こうすることによって、非常に均質な全体強度分布11が生じる。
全体強度分布11に対して、個々の強度分布9が広範囲にわたり安定して重畳するための要件は、
2・F・NA(50%)=P
と表すことが可能である。この場合、NA(50%)は、レンズ5それぞれの開口数であり、レンズ5を通過する光の強度が低下する角度によって定義される。
さらなる要件は、作業平面8において部分ビーム6の各群7の強度が同じ大きさになることである。これは、図8および図9に従ったレーザ装置に示されたような配置によって達成することが可能である。
このレーザ装置の場合、均質化手段1と重畳手段2との間に、複数のビームスプリッタ12が設けられ、ビームスプリッタ12の数は、重畳手段2のレンズ5の数に対応する。ビームスプリッタ12によって、部分ビーム6の群7のより少数の光13は、伝播方向Zから図9における上方へと、すなわちY方向へとそらされる。
レーザビーム3のこの部分13は、複数のセンサ手段14に当たり、これらのセンサ手段14はそれぞれ、部分ビーム6の群7の1つの強度を検出することが可能である。レーザ装置は、さらにまた比較手段15を含み、該比較手段15は、センサ手段14によって検出された、部分ビーム6の各群7の強度を互いに比較することが可能である。比較手段15は、1または複数の、図9に概略的に示されたレーザ光源17の電源16を、部分ビーム6の各群7の強度が、互いに同じになるように制御することが可能である。
このような方法で、重畳手段2の各レンズ5を、同じパワーのレーザビームが通過することを達成することが可能である。このことは、図2に示されているように、均質で線形の全強度分布11を導く。
図8および図9には、実線で示されたビームスプリッタ12とセンサ手段14に代わり、重畳手段2の後ろに設けてもよい、ビームスプリッタ12’とセンサ手段14’とが示されている。
センサ手段14は、フォトダイオード、フォトレジスタ、フォトトランジスタ、またはフォトセルなどとして実施することが可能である。
前述のビームスプリッタ12,12’、センサ手段14,14’、および比較手段15は、全部で、作業平面8において、部分ビーム6の各群7の同じパワーないしは強度を保証する制御手段を形成する。これらの制御手段は、図2〜図7に示されたすべての実施形態において同様に設けることが可能である。
図1および図2に従った実施形態の場合、均質化手段1のレンズ4は、部分ビーム6の各群7の指向性図ないしは角度分布が、緩慢に低下する側部を有するように形成される。レンズ65の後ろの距離D=Fにおける重畳によって、図1および図2に示される強度分布9が生じる。
しかしながら、発明に従えば、均質化手段1のレンズ4を、部分ビーム6の各群7の指向性図ないしは角度分布が、おおよそ無限に急峻に低下する側部を有する、ないしは、理想的なトップハット角度分布に非常に近づくように形成することも可能である。この場合、作業平面8は、レンズ5の後ろの距離D=Fに選ばれるのではなく、距離D=F+δに選ばれる。この場合、追加の距離δは、作業平面9において、部分ビーム6の各群7の重なった強度分布9が、低下の急峻さが低下する側部10を有するように選択されるべきである。
図3は、重畳手段2を断念した実施形態を示す。部分ビーム6の各群7の重畳は、遠視野、すなわち均質化手段1に対して大きく離れたところにある。
図4および図5は、重畳手段2のレンズ5の焦点距離Fが、図1および図2に従った実施形態の場合よりも大きい実施形態を示している。これによって結果的に、作業平面8における部分ビーム6の各群強度分布9は、より広くなる。それにもかかわらず、以下の条件、
2・F・NA(50%)=M・P
但し、M=1,2,3,…
を満足するなら、全体強度分布18に対する、強度分布9の振動のない重畳が生じる(図5参照)。図4および図5は、M=2の場合を示している。
図6および図7に従った実施形態の場合、均質化手段1のレンズ4は、部分ビーム6の各群7の指向性図ないしは角度分布は緩慢に低下する側部を有するが、一定の強度の角度領域を有しないように形成される。レンズ5の後ろの、距離D=Fにおける重畳によって、図6および図7に示された、ガウス分布に似た、際立った平坦領域のない、強度分布19が生じる。
不均質性1%以下の、全体強度分布20に対する重畳の条件は、
Figure 0005571170
である。ここで、wは、最大強度と、レンズ5の1つから生じる強度分布19の1/eに低下する強度との間の、作業平面8における距離であり、dは、2つの隣り合ったレンズ5から生じる強度分布19の最大強度間の、作業平面8における距離である。

Claims (11)

  1. 均質化手段(1)であって、作業平面(8)において、レーザビーム(3)の、均質化手段(1)から出射された部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)が、第1の線形強度分布(9,19)であって、該第1の線形強度分布(9,19)の両端部において、急峻に低下する側部(10)を有する第1の線形強度分布(9,19)を生じ得るように、複数の部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の複数の群(7)を、個別に均質化することが可能である均質化手段(1)と、
    重畳手段(2)であって、レーザビーム(3)の伝播方向(Z)において、均質化手段の後方に配置された重畳手段(2)と、を含むレーザビーム(3)を形成するための装置において、
    重畳手段(2)が、複数のレンズ(5)を有するレンズアレイを含み、
    各レンズ(5)は、該レンズ(5)から出射された部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)が、作業平面(8)において、トップハット強度分布を有する第2の線形強度分布を生じるように、部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)を重畳すべく構成され、
    レンズアレイは、2つの隣り合ったレンズ(5)によって生じる第2の線形強度分布が、互いに部分的に重なって、第1の線形強度分布(9,19)のそれぞれの長さよりも長い、第3の線形強度分布(11,20)を生じるように、部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)を重畳すべく構成され、
    レンズアレイのレンズ(5)のすべてについて、以下の条件、
    2・F・NA(50%)=M・P
    (式中、
    M=1,2,3,…であり、
    Fは、各レンズの焦点距離であり、
    は、レンズ間の中心間距離であり、
    NA(50%)は、各レンズ(5)の開口数であり、レンズ(5)を通過する光の強度が、半分に低下する角度によって定義される。)
    が適用されることを特徴とするレーザビーム(3)を形成するための装置。
  2. 制御手段であって、レーザビーム(3)への影響が、均質化手段から出射された部分ビームそれぞれの強度、または均質化手段(1)から出射された部分ビーム(6)または均質化手段(1)から出射された部分ビーム(6)の群(7)のそれぞれの強度が同じ大きさとなるようにすることが可能である制御手段をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  3. 均質化手段(1)および/またはレンズアレイは、部分ビーム(6)の1つ、または部分ビーム(6)の1つの群(7)が、レンズ(5)のそれぞれを通過するように、配置される、および/または形成されることを特徴とする、請求項1または2に記載の装置。
  4. レンズアレイのレンズ(5)はすべて、同じ焦点距離を有することを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の装置。
  5. レンズアレイのレンズ(5)はすべて、同じ焦点距離、および/または同じ中心間距離を有することを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の装置。
  6. レーザビーム(3)およびレンズアレイのレンズ(5)について、以下の条件、
    Figure 0005571170
    (式中、
    は、レンズ(5)の1つから生じる強度分布における、最大強度と、1/eに低下する強度との間の、作業平面における距離であり、
    dは、2つの隣り合ったレンズから生じる強度分布の最大強度間の、作業平面における距離である。)
    が適用されることを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の装置。
  7. 制御手段は、均質化手段(1)から出射される部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)のそれぞれの強度を検出することが可能であるセンサ手段(14)を有することを特徴とする、請求項に記載の装置。
  8. センサ手段(14)は、フォトダイオード、フォトレジスタ、フォトトランジスタ、またはフォトセルなどとして形成されることを特徴とする、請求項に記載の装置。
  9. 制御手段は、均質化手段(1)から出射される部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)の強度を比較することが可能である比較手段(15)を有することを特徴とする、請求項7または8に記載の装置。
  10. 少なくとも1つのレーザ光源(17)と、
    請求項1〜9のいずれか1項に従った、レーザビーム(3)を形成するための装置とを含むレーザ装置。
  11. レーザ装置は、少なくとも1つのレーザ光源(17)のための少なくとも1つの電源(16)を含み、制御手段は、均質化手段(1)から出射される部分ビーム(6)または部分ビーム(6)の群(7)の強度が互いに一様化されるように、前記少なくとも1つの電源(16)を制御することを特徴とする、請求項10に記載のレーザ装置。
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