RU2011150822A - Устройство для формирования лазерного излучения и лазер с таким устройством - Google Patents

Устройство для формирования лазерного излучения и лазер с таким устройством Download PDF

Info

Publication number
RU2011150822A
RU2011150822A RU2011150822/02A RU2011150822A RU2011150822A RU 2011150822 A RU2011150822 A RU 2011150822A RU 2011150822/02 A RU2011150822/02 A RU 2011150822/02A RU 2011150822 A RU2011150822 A RU 2011150822A RU 2011150822 A RU2011150822 A RU 2011150822A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
partial rays
intensity
lenses
groups
homogenizers
Prior art date
Application number
RU2011150822/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2539680C2 (ru
Inventor
Алексей МИХАЙЛОВ
Юрий КОЛОТУШКИН
Original Assignee
Лимо Патентфервальтунг Гмбх Унд Ко. Кг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Лимо Патентфервальтунг Гмбх Унд Ко. Кг filed Critical Лимо Патентфервальтунг Гмбх Унд Ко. Кг
Publication of RU2011150822A publication Critical patent/RU2011150822A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2539680C2 publication Critical patent/RU2539680C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G02B27/0961—Lens arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G02B27/0966—Cylindrical lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/1305—Feedback control systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/06821—Stabilising other output parameters than intensity or frequency, e.g. phase, polarisation or far-fields
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

1. Устройство для формирования лазерного излучения (3), содержащее:гомогенизаторы (1), выполненные с возможностью отдельно гомогенизировать множество частичных лучей (6) или множество групп (7) частичных лучей (6) лазерного излучения (3) таким образом, чтобы идущие от гомогенизаторов (1) частичные лучи (6) или группы (7) частичных лучей (6) в рабочей плоскости (8) создавали соответственно линейное распределение (9, 19) интенсивности с круто спадающими на концах фронтами (10);средства перекрытия (2) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), выполненные и установленные таким образом, что в рабочей плоскости (8) создается линейное распределение (11, 20) интенсивности, длина которого больше длины каждого из линейных распределений (11, 20) интенсивности частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6),отличающееся тем, что средства перекрытия (2) включают в себя линзовую матрицу с множеством линз (5).2. Устройство для формирования лазерного излучения (3), содержащее:гомогенизаторы (1), выполненные с возможностью отдельно гомогенизировать множество частичных лучей (6) или множество групп (7) частичных лучей (6) лазерного излучения (3) таким образом, чтобы идущие от гомогенизаторов (1) частичные лучи (6) или группы (7) частичных лучей (6) в рабочей плоскости (8) создавали соответственно линейное распределение (9, 19) интенсивности с круто спадающими на концах фронтами (10);средства перекрытия (2) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), выполненные и установленные таким образом, что в рабочей плоскости (8) создается линейное распределение (11, 20) интенсивности, длина которого больше длины каждого из линейных распределений (11, 20) интенсивности час

Claims (19)

1. Устройство для формирования лазерного излучения (3), содержащее:
гомогенизаторы (1), выполненные с возможностью отдельно гомогенизировать множество частичных лучей (6) или множество групп (7) частичных лучей (6) лазерного излучения (3) таким образом, чтобы идущие от гомогенизаторов (1) частичные лучи (6) или группы (7) частичных лучей (6) в рабочей плоскости (8) создавали соответственно линейное распределение (9, 19) интенсивности с круто спадающими на концах фронтами (10);
средства перекрытия (2) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), выполненные и установленные таким образом, что в рабочей плоскости (8) создается линейное распределение (11, 20) интенсивности, длина которого больше длины каждого из линейных распределений (11, 20) интенсивности частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6),
отличающееся тем, что средства перекрытия (2) включают в себя линзовую матрицу с множеством линз (5).
2. Устройство для формирования лазерного излучения (3), содержащее:
гомогенизаторы (1), выполненные с возможностью отдельно гомогенизировать множество частичных лучей (6) или множество групп (7) частичных лучей (6) лазерного излучения (3) таким образом, чтобы идущие от гомогенизаторов (1) частичные лучи (6) или группы (7) частичных лучей (6) в рабочей плоскости (8) создавали соответственно линейное распределение (9, 19) интенсивности с круто спадающими на концах фронтами (10);
средства перекрытия (2) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), выполненные и установленные таким образом, что в рабочей плоскости (8) создается линейное распределение (11, 20) интенсивности, длина которого больше длины каждого из линейных распределений (11, 20) интенсивности частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6),
отличающееся тем, что дополнительно содержит средства управления, выполненные с возможностью оказывать такое влияние на лазерное излучение (3), чтобы была одинаковой интенсивность каждого из выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или каждой из выходящих из гомогенизаторов (1) групп (7) частичных лучей (6).
3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что средства перекрытия (2) включают в себя линзовую матрицу с множеством линз (5).
4. Устройство по любому из пп.1-3, отличающееся тем, что гомогенизаторы (1) и/или линзовая матрица расположены и/или выполнены с возможностью прохождения через каждую из линз (5) одного из частичных лучей (6) или одной группы (7) частичных лучей (6).
5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что все линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковое фокусное расстояние.
6. Устройство по п.2, отличающееся тем, что все линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковое фокусное расстояние.
7. Устройство по п.1, отличающееся тем, что линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковую ширину и/или одинаковое межцентровое расстояние (P1).
8. Устройство по п.2, отличающееся тем, что линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковую ширину и/или одинаковое межцентровое расстояние (Р2).
9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
2·F·NA(50%)=M·P2,
где М=1, 2, 3 ,…, F - фокусное расстояние каждой из линз, Р2 - межцентровое расстояние между линзами, NA(50%) - числовая апертура каждой из линз (5), определяемая углом, при котором интенсивность проходящего через линзы (5) света уменьшается наполовину.
10. Устройство по п.2, отличающееся тем, что для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
2·F·NA(50%)=M·P2,
где M=1, 2, 3 ,…, F - фокусное расстояние каждой из линз, Р2 - межцентровое расстояние между линзами, NA(50%) - числовая апертура каждой из линз (5), определяемая углом, при котором интенсивность проходящего через линзы (5) света уменьшается наполовину.
11. Устройство по п.1, отличающееся тем, что для лазерного излучения (3) и для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
w 0 d > 1,1,
Figure 00000001
где w0 - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальной интенсивностью и интенсивностью, уменьшившейся до 1/е2 в распределении (19) интенсивности, создаваемом одной из линз (5), a d - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальными интенсивностями в распределениях (19) интенсивности, создаваемых двумя соседними линзами (5).
12. Устройство по п.2, отличающееся тем, что для лазерного излучения (3) и для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
w 0 d > 1,1,
Figure 00000002
где w0 - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальной интенсивностью и интенсивностью, уменьшившейся до 1/е2 в распределении (19) интенсивности, создаваемом одной из линз (5), a d - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальными интенсивностями в распределениях (19) интенсивности, создаваемых двумя соседними линзами (5).
13. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средства управления включают в себя сенсоры (14), выполненные с возможностью определения интенсивности каждого из выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
14. Устройство по п.2, отличающееся тем, что средства управления включают в себя сенсоры (14), выполненные с возможностью определения интенсивности каждого из выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
15. Устройство по п.13 или 14, отличающееся тем, что сенсоры (14) выполнены в виде фотодиода, фоторезистора, фототранзистора, фотоэлемента и т.п.
16. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средства управления включают в себя компараторы (15), выполненные с возможностью сравнения интенсивностей выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
17. Устройство по п.2, отличающееся тем, что средства управления включают в себя компараторы (15), выполненные с возможностью сравнения интенсивностей выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
18. Лазер, содержащий по меньшей мере один источник (17) лазерного излучения и устройство для формирования лазерного излучения (3), отличающийся тем, что устройство для формирования лазерного излучения (3) представляет собой устройство по любому из пп.1-17.
19. Лазер по п.18, отличающийся тем, что дополнительно содержит по меньшей мере один блок питания (16) по меньшей мере для одного источника (17) лазерного излучения и средства управления, выполненные с возможностью управлять по меньшей мере одним блоком питания (16) с возможностью сравнения интенсивностей выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), в частности с возможностью их уравнивания.
RU2011150822/28A 2009-05-14 2010-05-12 Устройство для формирования лазерного излучения и лазер с таким устройством RU2539680C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009021251A DE102009021251A1 (de) 2009-05-14 2009-05-14 Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung sowie Laservorrichtung mit einer derartigen Vorrichtung
DE102009021251.5 2009-05-14
PCT/EP2010/002896 WO2010130415A1 (de) 2009-05-14 2010-05-12 Vorrichtung zur formung von laserstrahlung sowie laservorrichtung mit einer derartigen vorrichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011150822A true RU2011150822A (ru) 2013-06-20
RU2539680C2 RU2539680C2 (ru) 2015-01-20

Family

ID=42342483

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011150822/28A RU2539680C2 (ru) 2009-05-14 2010-05-12 Устройство для формирования лазерного излучения и лазер с таким устройством

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8749888B2 (ru)
EP (1) EP2430491B1 (ru)
JP (1) JP5571170B2 (ru)
CN (1) CN102395914B (ru)
DE (1) DE102009021251A1 (ru)
RU (1) RU2539680C2 (ru)
WO (1) WO2010130415A1 (ru)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012205790B4 (de) * 2012-04-10 2015-02-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
CN104396101B (zh) * 2012-06-26 2017-07-11 皇家飞利浦有限公司 均质线形强度轮廓的激光器模块
CN104769479B (zh) * 2012-09-24 2017-08-01 Limo专利管理有限及两合公司 用于在工作平面内产生激光辐射的线性强度分布的设备
CN203069871U (zh) * 2012-11-13 2013-07-17 深圳市华星光电技术有限公司 聚光装置及修补机
DE102013102553B4 (de) * 2013-03-13 2020-12-03 LIMO GmbH Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung
DE102013103422B4 (de) 2013-04-05 2022-01-05 Focuslight Technologies Inc. Vorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlung mit einer linienförmigen Intensitätsverteilung
FR3012264B1 (fr) * 2013-10-21 2017-04-21 Saint Gobain Appareil laser modulaire
DE102013018496B4 (de) 2013-11-04 2016-04-28 Bruker Daltonik Gmbh Massenspektrometer mit Laserspotmuster für MALDI
WO2018019374A1 (en) 2016-07-27 2018-02-01 Trumpf Laser Gmbh Laser line illumination
WO2019028082A1 (en) * 2017-07-31 2019-02-07 Ipg Photonics Corporation LASER APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING THIN FILMS
KR20230068442A (ko) * 2017-07-31 2023-05-17 아이피지 포토닉스 코포레이션 가공물 가공을 위한 섬유 레이저 장치 및 방법
DE102017217345B4 (de) * 2017-09-28 2019-12-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optischer Strahlformer
CN112162412B (zh) * 2020-08-27 2022-09-16 西安炬光科技股份有限公司 一种光学模组及激光模组
DE102022108300A1 (de) * 2022-04-06 2023-10-12 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Vorrichtung zum Erzeugen einer definierten Laserlinie auf einer Arbeitsebene

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5359588A (en) 1992-02-12 1994-10-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Optical recording/reproducing apparatus
DE19632460C1 (de) 1996-08-12 1997-10-30 Microlas Lasersystem Gmbh Optische Vorrichtung zum Homogenisieren von Laserstrahlung und Erzeugen von mehreren Beleuchtungsfeldern
JP2002176007A (ja) 2000-12-08 2002-06-21 Mitsubishi Electric Corp レーザ処理装置のレーザパワーの測定方法と測定装置
RU2208822C1 (ru) * 2001-11-02 2003-07-20 Государственное Унитарное Дочернее Предприятие Государственного Предприятия "Нпо Астрофизика" Особое Конструкторское Бюро "Солнечная И Точная Оптика" Устройство для создания равномерной освещенности прямоугольной площадки заданных размеров (гомогенизатор)
JP3987350B2 (ja) * 2001-11-16 2007-10-10 株式会社リコー レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置
JP4182001B2 (ja) 2002-03-12 2008-11-19 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性材料の加工方法及び加工装置
JP2004093837A (ja) 2002-08-30 2004-03-25 Sumitomo Heavy Ind Ltd 均一化レーザビーム照射装置
JP4033151B2 (ja) 2004-03-10 2008-01-16 住友電気工業株式会社 重畳式ｄｏｅホモジナイザ光学系
US7339737B2 (en) * 2004-04-23 2008-03-04 Microvision, Inc. Beam multiplier that can be used as an exit-pupil expander and related system and method
WO2006046768A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation apparatus and laser irradiation method
WO2006066706A2 (en) * 2004-12-22 2006-06-29 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical illumination system for creating a line beam
EP1836512A1 (de) 2005-01-04 2007-09-26 LIMO Patentverwaltung GmbH & Co. KG Strahlteileranordnung
US20080273123A1 (en) 2005-09-14 2008-11-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser Picture Formation Device
JP5022587B2 (ja) 2005-10-07 2012-09-12 富士フイルム株式会社 半導体レーザの駆動方法および装置、並びに補正パターンの導出方法および装置
TW200741883A (en) * 2006-04-21 2007-11-01 Zeiss Carl Laser Optics Gmbh Apparatus for laser annealing of large substrates and method for laser annealing for large substrates
WO2008006460A1 (de) 2006-07-13 2008-01-17 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg. Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie laservorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene
WO2008087012A1 (de) 2007-01-15 2008-07-24 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie vorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene
WO2008101203A1 (en) 2007-02-16 2008-08-21 Thermal Solutions, Inc. Inductively heated clothing

Also Published As

Publication number Publication date
EP2430491B1 (de) 2015-12-16
CN102395914A (zh) 2012-03-28
DE102009021251A1 (de) 2010-11-18
RU2539680C2 (ru) 2015-01-20
WO2010130415A1 (de) 2010-11-18
US8749888B2 (en) 2014-06-10
JP2012527002A (ja) 2012-11-01
JP5571170B2 (ja) 2014-08-13
CN102395914B (zh) 2014-06-11
EP2430491A1 (de) 2012-03-21
US20120127723A1 (en) 2012-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2011150822A (ru) Устройство для формирования лазерного излучения и лазер с таким устройством
CN103246066B (zh) 一种对面阵半导体激光光束进行匀化处理的光学系统
KR101930041B1 (ko) 광 조사 장치
US20090296222A1 (en) Device for Homogenizing Light
EP2306073A3 (de) Lichtmodul für eine Beleuchtungseinrichtung eines Kraftfahrzeugs
TW200746274A (en) Laser irradiation device, laser irradiation method, and method for manufacturing modified object
SG135130A1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2017507342A5 (ru)
AU2014338782B2 (en) Modular laser apparatus
KR20060049790A (ko) 표면 조명 장치
ATE480793T1 (de) Vorrichtung zur homogenisierung von licht
EP3396713A1 (de) Leuchte mit leds und zylinderlinse
DE212013000099U1 (de) Lineare Fresneloptik zum Reduzieren der Winkeldispersion von Licht von einer LED-Anordnung
ATE534938T1 (de) Optische beleuchtungseinheit für die euv- mikrolithografie
KR102198779B1 (ko) 선형 세기 분포를 갖는 레이저 방사선의 생성 장치
WO2017184275A3 (en) Particulate matter measurement using light sheet generation and scattering analysis
JP5576886B2 (ja) レーザビームを均質化するための装置
JP2007299572A5 (ru)
CN109932826B (zh) 一种用于光学元件缺陷检测的拼接式条形激光装置
US9660410B2 (en) Laser lighting device and application thereof
RU2015101988A (ru) Лазерный модуль для однородных линейных профилей интенсивности
EP2631530A1 (en) Simulated sunlight light irradiation device and inspection device for solar cell panel
JP2018517158A5 (ru)
Redoglio et al. Development of a large depth of field collection optics for on-line laser-induced breakdown spectroscopy applications
HRP20200339T1 (hr) Fotonski neutralizator i s njime injektor neutralnih zraka

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200513