JP5546244B2 - 二次元画像の類似性を測定するための方法および電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
−焦点外れと非点収差とに関する所定の値を有する、試験構造体の理想的な電子顕微鏡画像を供給することができるシミュレーションユニット、
−画像センサによって供給された画像と、シミュレーションユニットによって供給された画像との間の類似性を測定することができる、画像センサとシミュレーションユニットとに接続された比較ユニット、および、
−測定された類似性と焦点外れおよび非点収差についての関連値とから、電子顕微鏡の収差を近似的に決定して、これらの収差を制御ユニットのための調整コマンドに変換することができる、比較ユニットと制御ユニットとに接続された評価ユニットを備える。
Cs:球面収差定数
λ:電子波長
Z:焦点外れ
A2x:二次元非点収差ベクトルA2のx成分
A2y:二次元非点収差ベクトルA2のy成分
gx:回折ベクトルgのx成分
gy:回折ベクトルgのy成分
−対象内の原子の散乱断面積、
−対象の有限厚さの作用、
−電子の一部が干渉パターンに関与しないようにさせる時間デコヒーレンスおよび空間デコヒーレンスの作用、
−検出器の伝達関数などがある。
Claims (25)
- 強度値を有するピクセルで構成された2つの二次元画像の類似性を測定するための方法であって、少なくとも1つの画像が、比較のために用いられねばならない有効信号以外に、類似性の測定を困難にし、および/または誤らせる付加信号を含んでおり、画像における付加信号の勾配の少なくとも方向が判断可能であり、
以下のステップ、すなわち、
−少なくとも1つの部分画像の、前記付加信号の勾配の方向における拡がりが、この部分画像の前記方向に対する垂直方向における拡がりよりも小さくなるように、前記画像を相互に同一である部分画像に分割し、従って部分画像において、有効信号が特徴的でかつ一義的に検出可能に変動するのに対して、同時に付加信号はわずかに変化するにすぎず、部分画像は線状あるいは環状であるステップと、
−相互に対を成す部分画像を互いに比較するステップと、
−これらの比較の結果を、前記両画像の類似性に関する総合尺度に集約するステップとを有することを特徴とする方法。 - 前記相互に対を成す部分画像が、相互相関係数、誤差二乗和又はχ二乗和というグループから成る類似性尺度を用いて互いに比較されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 部分画像の前記比較の結果が、線形結合を通じて前記両画像の類似性に関する総合尺度に集約されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記部分画像が、前記線形結合において重み係数を用いて考慮され、前記部分画像がより多くのピクセルを含むほど、該重み係数が大きくなる、ことを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 付加信号が、極座標において方位角よりも半径に強く依存することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の方法。
- 全ての部分画像の合併集合が、全てのピクセルの少なくとも80パーセントの割合を占めることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。
- 部分画像が重なり合っていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の方法。
- 実験で測定された画像とシミュレートされた画像とが画像として選択されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
- 前記シミュレートされた画像の強度値が少なくとも所定の変動幅にわたって変動する好適な領域が選択されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記実験で測定された画像に前記元のシミュレートされた画像よりも類似している新たなシミュレートされた画像が、前記測定結果から求められることを特徴とする請求項8または9に記載の方法。
- 前記実験で測定された画像を得るために電子顕微鏡が選択されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 少なくとも、焦点外れおよび非点収差というパラメータが、前記シミュレートされた画像を生成するために用いられることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記測定された類似性から、前記電子顕微鏡の収差が決定されることを特徴とする請求項11または12に記載の方法。
- 前記電子顕微鏡が、前記決定された収差の補正に合わせて調整され、それに続いて新たに本方法が開始されることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記シミュレートされた画像が、前記分割前に、前記実験で測定された画像との迅速比較によって選出されることを特徴とする請求項8〜14のいずれか一つに記載の方法。
- 前記画像のうちの少なくとも1つの画像のピクセルの強度値が、前記迅速比較のために、ピクセル1つ当たり16個以下の可能な値に離散化されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記離散化された画像との前記迅速比較のために、論理演算が選択されることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記シミュレートされた画像が、事前に算定されたカタログから選出されることを特徴とする請求項15〜17のいずれか一つに記載の方法。
- 電子顕微鏡であって、デジタル画像センサ、分析対象に対して電子ビームを傾斜させるための装置、収差を補正するためのレンズ構成、および、該レンズ構成のための制御ユニットを含む、請求項1〜18のいずれか一つに記載の方法を実施するための電子顕微鏡において、
前記レンズ構成のための調整装置を有し、該調整装置が、
−当該画像の焦点外れと非点収差とに関する所定の値を有する、試験構造体の理想的な電子顕微鏡画像を供給することができるシミュレーションユニット、
−前記画像センサによって供給された画像と、前記シミュレーションユニットによって供給された画像との間の類似性を測定することができる、前記画像センサと前記シミュレーションユニットとに接続された比較ユニット、および、
−前記測定された類似性と焦点外れおよび非点収差についての前記関連値とから、前記電子顕微鏡の収差を近似的に決定して、これらの収差を前記制御ユニットのための調整コマンドに変換することができる、前記比較ユニットと前記制御ユニットとに接続された評価ユニットを備えることを特徴とする電子顕微鏡。 - 前記画像センサによって供給された前記画像と前記シミュレーションユニットによって供給された前記理想的な画像とを相互に同一である部分画像に分割して、これにより、前記画像のうちの少なくとも1つの画像に存在する付加信号の勾配の方向における、少なくとも1つの部分画像の拡がりが、この部分画像の、前記方向に対する垂直方向における拡がりよりも小さくなるようにするための手段を、比較ユニットが有することを特徴とする請求項19に記載の電子顕微鏡。
- 比較ユニットが、少なくとも1つの画像のピクセルの強度値を、ピクセル1つ当たり16個以下の可能な値に離散化するための手段を備えることを特徴とする請求項19または20に記載の電子顕微鏡。
- 比較ユニットが、2つの離散化された画像間における排他的論理和演算(XOR)のための手段を備えることを特徴とする請求項21に記載の電子顕微鏡。
- 比較ユニットが、デジタルシグナルプロセッサ(DSP)を備えることを特徴とする請求項19〜22のいずれか一つに記載の電子顕微鏡。
- 前記調整装置が、コンピュータプログラムを具備する少なくとも1つのコンピュータを含むことを特徴とする請求項19〜23のいずれか一つに記載の電子顕微鏡。
- 組み込みシステムがコンピュータであることを特徴とする請求項24に記載の電子顕微鏡。
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JPH07220669A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-08-18 | Jeol Ltd | 非点・入射軸補正装置を備えた電子顕微鏡 |
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US6587581B1 (en) * | 1997-01-10 | 2003-07-01 | Hitachi, Ltd. | Visual inspection method and apparatus therefor |
US6476398B1 (en) * | 1999-03-05 | 2002-11-05 | Applied Materials, Inc. | Beam automation in charged-particle-beam systems |
JP2000340154A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-12-08 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP3813798B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2006-08-23 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡 |
JP3951590B2 (ja) * | 2000-10-27 | 2007-08-01 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置 |
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