JP7267319B2 - 収差測定方法および電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
電子顕微鏡における収差測定方法であって、
前記電子顕微鏡において収差を測定するための画像を取得する工程と、
前記画像を用いて収差を測定する工程と、
を含み、
前記収差を測定する工程では、
前記画像から収差を計算し、前記電子顕微鏡の光学系の構成と前記光学系の光学条件で一意に決まり、かつ、前記光学系の調整では補正できずに残留する残留収差に基づいて、収差の計算結果におけるデフォーカスの向きを特定し、
特定されたデフォーカスの向きに基づいて、デフォーカス以外の収差を求める。
電子線を放出する電子源と、
前記電子線に作用する光学系と、
収差を測定するための画像を取得するための検出器と、
前記画像を用いて収差を計算する収差計算部と、
を含み、
前記収差計算部は、
前記画像から収差を計算し、前記光学系の構成と前記光学系の光学条件で一意に決まり、かつ、前記光学系の調整では補正できずに残留する残留収差に基づいて、収差の計算結果におけるデフォーカスの向きを特定し、
特定されたデフォーカスの向きに基づいて、デフォーカス以外の収差を求める。
1.1. 電子顕微鏡
まず、第1実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る電子顕微鏡100の構成を示す図である。
源10から放出された電子線は、照射系22で集束されて試料Sに照射される。試料Sを透過した電子線は、結像系24によって透過電子顕微鏡像(TEM像)を結像する。TEM像は、検出器40で撮影される。電子顕微鏡100では、収差補正装置246によって結像系24の収差を補正できるため、高分解能のTEM像を得ることができる。
Unit)等)でプログラムを実行することにより実現できる。処理部510は、画像取得部512と、収差計算部514と、収差補正装置制御部516と、を含む。
次に、第1実施形態における収差測定方法について説明する。以下では、ディフラクトグラムタブローを用いた収差測定方法について説明する。
てデフォーカス以外の収差を求める(S16)。
デフォーカス:-300nm
コマ収差:200nm,0deg
6回非点:5mm,0deg
・解B
デフォーカス:+300nm
コマ収差:200nm,180deg
6回非点:5mm,30deg
電子顕微鏡100では、制御装置50が、結像系24の収差を測定する収差測定処理を行う。また、制御装置50は、収差の測定結果に基づいて、収差補正装置246を制御して収差を補正する収差補正処理を行う。記憶部524には、あらかじめ光学系20の光学条件と6回非点の向きとが関連付けられて登録されたテーブルが記憶されている。
電子顕微鏡100では、収差計算部514は、光学系20の構成と光学系20の光学条件で一意に決まる残留収差に基づいて、デフォーカスの向きを特定する。そのため、事前にデフォーカスの向きを調べたり、デフォーカスを合わせたりすることなく、容易に収差を測定することができる。また、ディフラクトグラムタブローを複数枚取得することなく、1つのディフラクトグラムタブローから収差を測定できる。
上記では、球面収差を補正する収差補正装置246に生じる6回非点の向きまたは6次スリーローブ収差の向きが一意に決まることを利用したが、色収差やその他の収差を補正する収差補正装置に生じる高次の残留収差も、同様に、一意に決まる。そのため、色収差やその他の収差を補正する収差補正装置に生じる残留収差を利用して、デフォーカスの向きを特定してもよい。
る。この正の球面収差は、光学系20の構成および光学系20の光学条件によって一意に決まる。そのため、対物レンズ240に生じる球面収差を利用してデフォーカスの向きを特定してもよい。同様に、四極子場型の収差補正装置や八極子場型の収差補正装置で生じる5次スター収差(もしくは7次スター収差)も、光学系20の構成および光学系20の光学条件によって一意に決まる。また、同様に、3段六極子場型の収差補正装置で生じる6次スリーローブ収差も、光学系20の構成および光学系20の光学条件によって一意に決まる。したがって、これらの収差を利用してデフォーカスの向きを特定してもよい。
2.1. 電子顕微鏡
次に、第2実施形態に係る電子顕微鏡について、図面を参照しながら説明する。図8は、第2実施形態に係る電子顕微鏡200の構成を示す図である。以下、第2実施形態に係る電子顕微鏡200において、第1実施形態に係る電子顕微鏡100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
次に、第2実施形態における収差測定方法について説明する。以下では、ロンキグラムを用いた収差測定方法について説明する。
6回非点:0deg
デフォーカスの向き:アンダーフォーカス
コマ収差:0deg
・解B
6回非点:30deg
デフォーカスの向き:オーバーフォーカス
コマ収差:180deg
6回非点:10mm,30deg
デフォーカス:+200nm,オーバーフォーカス
コマ収差:2500nm,180deg
電子顕微鏡200では、制御装置50が、照射系22の収差を測定する収差測定処理を行う。また、制御装置50は、収差の測定結果に基づいて、収差補正装置224を制御して収差を補正する収差補正処理を行う。記憶部524には、光学系20の光学条件と6回非点の向きとが関連付けられて登録されたテーブルが記憶されている。
電子顕微鏡200では、収差計算部514は、光学系20の構成と光学系20の光学条件で一意に決まる残留収差に基づいて、デフォーカスの向きを特定する。そのため、事前にデフォーカスの向きを調べたり、デフォーカスを合わせたりすることなく、容易に収差を測定することができる。また、ロンキグラムを複数枚取得することなく、1つのロンキグラムから収差を測定できる。
Claims (11)
- 電子顕微鏡における収差測定方法であって、
前記電子顕微鏡において収差を測定するための画像を取得する工程と、
前記画像を用いて収差を測定する工程と、
を含み、
前記収差を測定する工程では、
前記画像から収差を計算し、前記電子顕微鏡の光学系の構成と前記光学系の光学条件で一意に決まり、かつ、前記光学系の調整では補正できずに残留する残留収差に基づいて、収差の計算結果におけるデフォーカスの向きを特定し、
特定されたデフォーカスの向きに基づいて、デフォーカス以外の収差を求める、収差測定方法。 - 請求項1において、
前記画像は、ディフラクトグラムタブローである、収差測定方法。 - 請求項1において、
前記画像は、ロンキグラムである、収差測定方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記光学系は、収差補正装置を含み、
前記残留収差は、前記収差補正装置で生じる収差である、収差測定方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記光学系は、対物レンズを含み、
前記残留収差は、前記対物レンズで生じる収差である、収差測定方法。 - 電子線を放出する電子源と、
前記電子線に作用する光学系と、
収差を測定するための画像を取得するための検出器と、
前記画像を用いて収差を計算する収差計算部と、
を含み、
前記収差計算部は、
前記画像から収差を計算し、前記光学系の構成と前記光学系の光学条件で一意に決まり、かつ、前記光学系の調整では補正できずに残留する残留収差に基づいて、収差の計算結果におけるデフォーカスの向きを特定し、
特定されたデフォーカスの向きに基づいて、デフォーカス以外の収差を求める、電子顕微鏡。 - 請求項6において、
前記画像は、ディフラクトグラムタブローである、電子顕微鏡。 - 請求項6において、
前記画像は、ロンキグラムである、電子顕微鏡。 - 請求項6ないし8のいずれか1項において、
前記光学系は、収差補正装置を含み、
前記残留収差は、前記収差補正装置で生じる収差である、電子顕微鏡。 - 請求項6ないし8のいずれか1項において、
前記光学系は、対物レンズを含み、
前記残留収差は、前記対物レンズで生じる収差である、電子顕微鏡。 - 請求項6ないし10のいずれか1項において、
前記光学系の光学条件と前記残留収差の情報とが関連付けられて登録されたテーブルが記憶されている記憶部を含む、電子顕微鏡。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021005612A JP7267319B2 (ja) | 2021-01-18 | 2021-01-18 | 収差測定方法および電子顕微鏡 |
EP21213088.4A EP4030462A1 (en) | 2021-01-18 | 2021-12-08 | Method of measuring aberration and electron microscope |
US17/576,016 US11764029B2 (en) | 2021-01-18 | 2022-01-14 | Method of measuring aberration and electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021005612A JP7267319B2 (ja) | 2021-01-18 | 2021-01-18 | 収差測定方法および電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022110302A JP2022110302A (ja) | 2022-07-29 |
JP7267319B2 true JP7267319B2 (ja) | 2023-05-01 |
Family
ID=78825161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021005612A Active JP7267319B2 (ja) | 2021-01-18 | 2021-01-18 | 収差測定方法および電子顕微鏡 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11764029B2 (ja) |
EP (1) | EP4030462A1 (ja) |
JP (1) | JP7267319B2 (ja) |
Citations (6)
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Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4790567B2 (ja) | 2005-11-30 | 2011-10-12 | 日本電子株式会社 | ロンチグラムを用いた収差測定方法及び収差補正方法及び電子顕微鏡 |
US7619220B2 (en) | 2005-11-30 | 2009-11-17 | Jeol Ltd. | Method of measuring aberrations and correcting aberrations using Ronchigram and electron microscope |
-
2021
- 2021-01-18 JP JP2021005612A patent/JP7267319B2/ja active Active
- 2021-12-08 EP EP21213088.4A patent/EP4030462A1/en active Pending
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JP2015215970A (ja) | 2014-05-08 | 2015-12-03 | 日本電子株式会社 | 収差計算装置、収差計算方法、画像処理装置、画像処理方法、および電子顕微鏡 |
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Publication number | Publication date |
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EP4030462A1 (en) | 2022-07-20 |
JP2022110302A (ja) | 2022-07-29 |
US20220230838A1 (en) | 2022-07-21 |
US11764029B2 (en) | 2023-09-19 |
EP4030462A9 (en) | 2022-12-14 |
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