JP5540498B2 - 成膜方法及び装置 - Google Patents
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Description
バインダー上部とバインダー下部とからなり、プラスチックフィルムからなる枚葉の基材の周辺部を枚葉毎に上下両面から挟持して前記チャンバー内に気体流通用の空間を介し積層状態に配置する複数のバインダーと、前記チャンバー内に少なくとも1つ以上の原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、前記チャンバー内に少なくとも1つ以上の反応ガスを供給する反応ガス供給手段と、前記チャンバー内に少なくとも1つ以上の不活性ガスを供給して前記チャンバーの内部に残留する前記原料ガスもしくは前記反応ガスを排気するための不活性ガス供給手段と、前記チャンバーの内部に前記原料ガス供給手段から原料ガスを所定時間だけ供給し前記各基材の両方の表面に前記原料ガスを吸着させたのち前記原料ガスの供給を停止するように制御し、かつ前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給が停止された後に前記チャンバーの内部に前記不活性ガス供給手段から不活性ガスを所定時間だけ供給し前記チャンバーの内部に残留している前記原料ガスを排気した後前記不活性ガスの供給を停止するように制御し、さらに前記不活性ガス供給手段による不活性ガスの供給が停止された後に前記チャンバーの内部に前記反応ガス供給手段から反応ガスを所定時間だけ供給し前記各基材の両方の表面に吸着した前記原料ガスと反応させて成膜を形成した後前記反応ガスの供給を停止するように制御し、次いで前記反応ガス供給手段による反応ガスの供給が停止された後に前記チャンバーの内部に前記不活性ガス供給手段から不活性ガスを所定時間だけ供給して前記チャンバーの内部に残留している前記反応ガスを排気するように制御する制御手段と、を具備し、前記バインダーには、前記バインダー上部の前記基材との接触面と反対の面及び前記バインダー下部の前記基材との接触面と反対の面に、前記空間を形成するための複数の突出スペーサがそれぞれ形成されており、前記原料ガス供給手段、前記反応ガス供給手段および前記不活性ガス供給手段は、前記原料ガス、前記反応ガス、前記不活性ガスを、前記基材の側面から供給し、前記突出スペーサにより形成された前記空間内を流通させる、ことを特徴とする。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る成膜装置を示す概略図である。図2は、本発明の実施の形態1に係る成膜装置の基材及びバインダーを示す斜視図である。図3は、本発明の実施の形態1に係る成膜装置の基材及びバインダーを示す分解斜視図である。
図5は、本発明の実施の形態2に係る成膜装置の基材及びバインダーを示す斜視図である。図6は、本発明の実施の形態2に係る成膜装置の基材及びバインダーを示す分解斜視図である。本発明の実施の形態2においては、本発明の実施の形態1と同じ構成要素には同じ参照符号を付してその説明を省略する。
次に、本発明の実施例1について説明する。本発明の実施例1は、図1に示す成膜装置を用い、厚さが100μmであるポリエチレンナフタレートフィルム(以下PENフィルムとする)150mm□にAl2O3膜を成膜する。この際、原料ガスとしてトリメチルアルミニウム(以下TMA)が用いられ、パージガスとしてArが用いられ、反応ガスとしてH2Oが用いられた。
次に、本発明の実施例2について説明する。本発明の実施例2は、図1に示す成膜装置を用い、厚さが100μmであるポリエチレンナフタレートフィルム(以下PENフィルムとする)150mm□にAl2O3膜を成膜する。この際、原料ガスとしてトリメチルアルミニウム(以下TMA)が用いられ、パージガスとしてArが用いられ、反応ガスとしてH2Oが用いられた。
実施例1及び実施例2における成膜及び基材の水蒸気透過度がMOCON法により測定された。この場合に測定器はMOCON AQUATRAN(登録商標)model1により測定し、酸素透過度をMOCON OX−TRAN(登録商標)2/20により測定した。この結果を図7に示す。
以下であり、かつ、酸素透過度が0.01cm↑3/m↑2/day以下であるものを製造することができる。このプラスチックフィルムは有用なものであり、また、このプラスチックフィルムを具備する光学部材及び光学装置も有用なものである。
2、6 バインダー下部
3、5 基材
4、7 バインダー
9 チャンバー
10 ヒーター
11 真空ポンプ
12 原料ガス供給手段
13 不活性ガス供給手段
14 反応ガス供給手段
15 ガス供給ノズル
16 制御手段
Claims (3)
- プラスチックフィルムからなる枚葉の基材の周辺部をバインダー上部とバインダー下部により上下両面から挟持してチャンバー内に配置する工程と、
原料ガス供給手段により前記チャンバーの内部に少なくとも1つ以上の原料ガスを所定時間だけ供給して前記基材の両方の表面に前記原料ガスを吸着させる工程と、
前記原料ガス供給手段による前記原料ガスの供給を停止する工程と、
前記原料ガス供給手段による前記原料ガスの供給が停止された後に不活性ガス供給手段により前記チャンバーの内部に少なくとも1つ以上の不活性ガスを所定時間だけ供給して前記チャンバーの内部に残留している前記原料ガスを排気する工程と、
前記不活性ガス供給手段による前記不活性ガスの供給を停止する工程と、
前記不活性ガス供給手段による前記不活性ガスの供給が停止された後に反応ガス供給手段により前記チャンバーの内部に少なくとも1つ以上の反応ガスを所定時間だけ供給して前記基材の両方の表面に吸着された前記原料ガスと反応させ成膜を形成する工程と、
前記反応ガス供給手段による前記反応ガスの供給を停止する工程と、
前記反応ガス供給手段による前記反応ガスの供給が停止された後に前記不活性ガス供給手段により前記チャンバーの内部に少なくとも1つ以上の不活性ガスを所定時間だけ供給して前記チャンバーの内部に残留している前記反応ガスを排気する工程と、を具備し、
前記チャンバー内には、前記バインダー上部と前記バインダー下部により挟持された前記基材が複数設けられ、これら複数の前記基材は前記チャンバーの内部に気体流通用の空間を介して積層状態に配置され、
前記バインダー上部の前記基材との接触面と反対の面及び前記バインダー下部の前記基材との接触面と反対の面に、前記空間を形成するための複数の突出スペーサがそれぞれ形成されており、
前記原料ガス、前記不活性ガス、前記反応ガスは、前記基材の側面から供給され、前記突出スペーサにより形成された前記空間内を流通する、
ことを特徴とする成膜方法。 - 前記成膜は、前記すべての工程を2回以上繰り返し実行することにより希望の厚さに形成されることを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。
- 内部気圧が大気圧以下に保持されるチャンバーと、
バインダー上部とバインダー下部とからなり、プラスチックフィルムからなる枚葉の基材の周辺部を枚葉毎に上下両面から挟持して前記チャンバー内に気体流通用の空間を介し積層状態に配置する複数のバインダーと、
前記チャンバー内に少なくとも1つ以上の原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
前記チャンバー内に少なくとも1つ以上の反応ガスを供給する反応ガス供給手段と、
前記チャンバー内に少なくとも1つ以上の不活性ガスを供給して前記チャンバーの内部に残留する前記原料ガスもしくは前記反応ガスを排気するための不活性ガス供給手段と、
前記チャンバーの内部に前記原料ガス供給手段から原料ガスを所定時間だけ供給し前記各基材の両方の表面に前記原料ガスを吸着させたのち前記原料ガスの供給を停止するように制御し、かつ前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給が停止された後に前記チャンバーの内部に前記不活性ガス供給手段から不活性ガスを所定時間だけ供給し前記チャンバーの内部に残留している前記原料ガスを排気した後前記不活性ガスの供給を停止するように制御し、さらに前記不活性ガス供給手段による不活性ガスの供給が停止された後に前記チャンバーの内部に前記反応ガス供給手段から反応ガスを所定時間だけ供給し前記各基材の両方の表面に吸着した前記原料ガスと反応させて成膜を形成した後前記反応ガスの供給を停止するように制御し、次いで前記反応ガス供給手段による反応ガスの供給が停止された後に前記チャンバーの内部に前記不活性ガス供給手段から不活性ガスを所定時間だけ供給して前記チャンバーの内部に残留している前記反応ガスを排気するように制御する制御手段と、を具備し、
前記バインダーには、前記バインダー上部の前記基材との接触面と反対の面及び前記バインダー下部の前記基材との接触面と反対の面に、前記空間を形成するための複数の突出スペーサがそれぞれ形成されており、
前記原料ガス供給手段、前記反応ガス供給手段および前記不活性ガス供給手段は、前記原料ガス、前記反応ガス、前記不活性ガスを、前記基材の側面から供給し、前記突出スペーサにより形成された前記空間内を流通させる、
ことを特徴とする成膜装置。
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