JP5524663B2 - 蛍光x線膜厚計及び蛍光x線膜厚測定法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明の蛍光X線膜厚計は、試料上の照射ポイントに放射線を照射する放射線源と、試料から放出される蛍光X線及び散乱X線を検出し、蛍光X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器と、信号を分析する分析器と、試料を載置する試料ステージと、X線検出器にX線の入射領域を制限するX線入射窓を備え、かつ、その入射窓のうち蛍光X線の検出に寄与する領域を、被検出物質から出射する蛍光X線の出射角度に対して調整できる機構を備えていることを特徴とする。これにより試料のめっき等の厚みに応じて、適切な条件での膜厚測定が可能となる。
まず、試料Sをセットした後、図2に示すように視野制限窓検出領域調整駆動機構15を用いて視野制限窓14の開口部の位置を移動させる。X線管球11から一次X線X1を試料Sに照射する。発生した蛍光X線及び散乱X線は視野制限窓14の開口部及びX線入射窓13の両方を通過したもののみがX線検出器12で検出される。視野制限窓14とX線入射窓13の位置関係によって、表面層S1から発生した蛍光X線の内、比較的、角度の大きいものだけがX線検出器12で検出される事となる。
12・・・X線検出器
13・・・X線入射窓
14,14a,14b・・・視野制限窓
15・・・視野制限窓検出領域調整駆動機構
16・・・分析器
17・・・制御部
S1・・・表面層
S2・・・ベース
X1・・・一次X線
Claims (3)
- 試料上の照射ポイントに放射線を照射する放射線源と、
前記試料から放出される蛍光X線及び散乱X線を検出し、該蛍光X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器と、
前記信号を分析する分析器と、
被検出物質が存在する位置の前記試料の厚さが厚くなるに従い、当該被検出物質から出射した前記蛍光X線のうち任意のより高い出射角度に対応した当該蛍光X線を検出すべく前記X線検出器の検出領域を制限する視野制限窓と、
前記視野制限窓を駆動する視野制限窓検出領域調整駆動機構と、を備えていることを特徴とする蛍光X線膜厚計。 - 前記視野制限窓検出領域調整機構が、切り欠き部又は/および貫通部を有した筒形状であって、該筒の断面中心を回転軸として回動することで前記視野制限窓の検出領域を被検出物質から出射する蛍光X線の出射角度に対して調整する請求項1に記載の蛍光X線膜厚
計。 - 放射線源から試料上の照射ポイントに放射線を照射し、X線検出器により前記試料の被検出物質から放出される蛍光X線及び散乱X線を検出し該蛍光X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力すると共に、分析器により前記信号を分析するX線検出による蛍光X線膜厚測定方法であって、
測定する膜厚の厚みレベルに応じて前記X線検出器の検出領域を被検出物質から出射する蛍光X線の出射角度に対して調整することを特徴とする蛍光X線膜厚測定法。
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