JP5523149B2 - 磁気式スイッチ - Google Patents

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本発明は、磁気抵抗効果素子(TMR素子、GMR素子)を用いた磁気式スイッチに関する。
磁気式スイッチの磁気センサには、磁化方向が固定された固定磁性層、非磁性層、及び磁化方向が外部磁界に対して変動するフリー磁性層の積層構造を備える磁気抵抗効果素子(GMR素子、TMR素子)などが用いられている。例えば、この磁気センサは、図7に示すように、ミアンダ形状を持つ磁気抵抗効果素子41と固定抵抗素子42とが接続されて構成されている。
図7に示す磁気抵抗効果素子41の感度軸方向からの外部磁界(Hex)に対する中点電位を図8に示す。図8に示すように、この磁気式スイッチにおいては、スイッチがON(SWON)となる判定閾値(ON閾値)と、スイッチがOFF(SWOFF)となる判定閾値(OFF閾値)とを設けて、両判定閾値間にヒステリシス(Hoff−Hon)を設けている(特許文献1)。
特開2007−228000号公報
しかしながら、このような判定閾値間にヒステリシスを持つ磁気式スイッチを用いて、外部磁界が小さい高感度領域で動作させようとする場合、磁気抵抗効果素子や電気回路のヒステリシスをあるレベルより小さくすることが困難になるために、0磁場付近の動作が不安定となる。すなわち、0磁場で確実にOFFしないために、外乱磁場に対して誤動作する恐れがある。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、高感度領域で動作させた場合であっても動作が安定する磁気式スイッチを提供することを目的とする。
本発明の磁気式スイッチは、感度軸方向からの外部磁界に対して抵抗値が変化する磁気センサと、前記磁気センサの抵抗変化に基づいて変化するセンサ出力に基づいて、検出信号を出力する制御手段と、を具備する磁気式スイッチであって、前記磁気センサは、特定の方向に感度軸を持つ磁気抵抗効果素子と、前記感度軸の方向において前記磁気抵抗効果素子を挟むように配置された磁気増幅膜と、前記磁気抵抗効果素子及び前記磁気増幅膜が占める領域よりも広い領域で前記磁気抵抗効果素子及び前記磁気増幅膜と重なるように配置された磁気シールド膜と、を有し、前記磁気シールド膜の膜厚は前記磁気増幅膜の膜厚よりも薄く、前記制御手段は、前記磁気センサとは離れた位置にある磁石と前記磁気抵抗効果素子との距離に応じてオン/オフの電圧を出力することを特徴とする。
この構成によれば、磁気シールド膜で弱磁場を遮蔽し、磁気増幅膜で一定レベル以上の磁場を増幅することができる。これにより、磁界ヒステリシスの小さく、高感度領域で動作させた場合であっても動作が安定する磁気式スイッチを実現することができる。
本発明の磁気式スイッチにおいては、前記磁気シールド膜が磁気飽和する外部磁界よりも小さい磁場でOFFし、前記外部磁界よりも大きい磁場でONするように、前記磁気シールド膜及び前記磁気増幅膜の厚さが設定されたことが好ましい。
本発明の磁気式スイッチにおいては、前記磁気シールド膜及び/又は前記磁気増幅膜は、パーマロイ系磁性材料、アモルファス系磁性材料及びセンダスト系磁性材料からなる群より選ばれた材料で構成されていることが好ましい。
本発明の磁気式スイッチは、感度軸方向からの外部磁界に対して抵抗値が変化する磁気センサと、前記磁気センサの抵抗変化に基づいて変化するセンサ出力に基づいて、検出信号を出力する制御手段と、を具備し、前記磁気センサが、特定の方向に感度軸を持つ磁気抵抗効果素子と、前記感度軸の方向において前記磁気抵抗効果素子を挟むように配置された磁気増幅膜と、前記磁気抵抗効果素子及び前記磁気増幅膜が占める領域よりも広い領域で前記磁気抵抗効果素子及び前記磁気増幅膜と重なるように配置された磁気シールド膜と、を有し、前記磁気シールド膜の膜厚は前記磁気増幅膜の膜厚よりも薄く、前記制御手段は、前記磁気センサとは離れた位置にある磁石と前記磁気抵抗効果素子との距離に応じてオン/オフの電圧を出力するので、高感度領域で動作させた場合であっても動作が安定する。
本発明の実施の形態に係る磁気式スイッチの磁気センサを示す図である。 GMR近辺の磁束密度と外部印加磁界との間の関係を示す図である。 磁石検知距離の測定を説明するための図である。 本発明の実施の形態に係る磁気式スイッチの回路図である。 本発明に係る磁気式スイッチを搭載した携帯電話を示す図である。 (a),(b)は、図5に示す携帯電話の動作を説明するための図である。 従来の磁気式スイッチを説明するための図である。 外部磁界と中点電位との間の関係を示す図である。
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る磁気式スイッチの磁気センサを示す図である。図1に示す磁気センサは、感度軸方向からの外部磁界に対して抵抗値が変化するものであり、特定の方向に感度軸を持つ磁気抵抗効果素子1を有する。この磁気抵抗効果素子1は、その長手方向が互いに平行になるように配置された複数の帯状の長尺パターンが折り返してなる形状(ミアンダ形状)を有する。図1においては、磁気抵抗効果素子1は、ミアンダの長手方向が平行になるようにして、2つの素子1a,1bに分かれて配置されており、互いに接続されている。このミアンダ形状において、感度軸方向は、長尺パターンの長手方向に対して直交する方向である。また、素子1bはミアンダ形状を有する固定抵抗素子2に接続されている。
磁気抵抗効果素子1としては、TMR素子(トンネル型磁気抵抗効果素子)、GMR素子(巨大磁気抵抗効果素子)などを用いることができる。例えば、GMR素子として、反強磁性層、固定磁性層、非磁性層、フリー磁性層を有する多層膜で構成されるスピンバルブ型GMR素子やスピンバルブ型TMR素子を用いることができる。フリー磁性層は、外部磁界に対して磁化変動する磁性層であり、固定磁性層は、磁化が固定された磁性層である。
磁気抵抗効果素子1の感度軸の方向において、磁気抵抗効果素子1を挟むように磁気増幅膜3が設けられている。図1においては、磁気抵抗効果素子1の2つの素子1a,1b間にも磁気増幅膜3が設けられている。この磁気増幅膜3は、感度軸方向の磁界(検出磁界)を集束するヨークの働き(磁気増幅効果)をするものである。このように、磁気増幅膜3を設けることにより、外部印加磁界を磁気増幅できるので、スイッチON(Hon点)をより高感度領域(外部印加磁界が小さい領域)側に設定することができる。
この磁気増幅膜3の長さ(感度軸方向に直交する方向の長さ)は、磁気増幅効果を考慮すると、磁気抵抗効果素子1の長尺パターンの長手方向の長さよりも長いことが望ましい。また、磁気増幅膜3の増幅効果を調整することにより、スイッチON(Hon点)を調整することができる。すなわち、磁気増幅膜3の増幅効果を高めることにより、スイッチON(Hon点)より高感度領域(外部印加磁界が小さい領域)側に設定することができる。なお、磁気増幅膜3間の間隔Dは小さいほど増幅効果が高く、磁気増幅膜3の厚さは厚いほど増幅効果が高い。
磁気抵抗効果素子1及び磁気増幅膜3が占める領域よりも広い領域で磁気抵抗効果素子1及び磁気増幅膜3と重なるように磁気シールド膜4が設けられている。磁気シールド膜4は、外乱磁界を吸収する役割(シールド効果)を果たす。このように、磁気シールド膜4を設けることにより、0磁場近辺の弱磁場を磁気抵抗効果素子1に対して遮蔽できるので、スイッチOFF(Hoff点)が0磁場に近づいても、外乱磁場による誤動作がなくなる。
磁気シールド膜4の厚さを変えることにより、磁気飽和点を調整することができる。すなわち、磁気シールド膜4の磁気飽和点を高外部印加磁場側に設定する場合には、磁気シールド膜4の厚さを厚くする。なお、磁気シールド膜4は、磁気抵抗効果素子1及び磁気増幅膜3の上に設けられていても良く、磁気抵抗効果素子1及び磁気増幅膜3の下に設けられていても良い。
このように、本発明に係る磁気式スイッチの磁気センサにおいては、感度軸の方向において磁気抵抗効果素子1を挟むように磁気増幅膜3が配置され、磁気抵抗効果素子1及び磁気増幅膜3が占める領域よりも広い領域で磁気抵抗効果素子1及び磁気増幅膜3と重なるように磁気シールド膜4が配置されているので、磁気シールド膜4で弱磁場を遮蔽し、磁気増幅膜3で一定レベル以上の磁場を増幅することができる。これにより、磁界ヒステリシスの小さく、高感度領域で動作させた場合であっても動作が安定する磁気式スイッチを実現することができる。
ここで、図1に示す構成を有する磁気式スイッチ(本発明)(磁気増幅膜厚1.5μm、磁気シールド膜厚0.5μm)について外部印加磁界に対するGMR近辺磁束密度の関係を調べた。その結果を図2に示す。この場合において、外部印加磁界に対するGMR近辺磁束密度は、有限要素法によるシミュレーションにより求めた。また、図7に示す構成を有する磁気式スイッチ(従来)についても同様にして外部印加磁界に対するGMR近辺磁束密度の関係を調べた。その結果を図2に併記する。なお、ここでは、スイッチONの判定閾値(Hon_max)を15G(1.5mT)とし、スイッチOFFの判定閾値(Hoff_min)を3G(0.3mT)とした。
図2に示すように、本発明の磁気式スイッチでは、外部印加磁界に対するGMR近辺磁束密度が高外部印加磁場側(図2では10Oe(×103/4π A/m)以上)で従来の磁気式スイッチよりも高くなっている。したがって、本発明に係る磁気式スイッチでは、スイッチONの判定閾値(Hon_max)をより高感度領域(外部印加磁界が小さい領域)側に設定することができる。また、図2から分かるように、磁気シールド膜の磁気飽和点(6Oe)までは、外乱磁場が磁気シールド膜に吸収されるので、従来の磁気式スイッチよりもGMR近辺磁束密度が小さく抑えられている。このため、本発明に係る磁気式スイッチでは、スイッチOFF(Hoff点)が0磁場に近づいても、外乱磁場による影響が小さいので誤動作がなくなり、安定した動作を実現できる。
上述したように、磁気シールド膜4で弱磁場を遮蔽し、磁気増幅膜3で一定レベル以上の磁場を増幅するためには、磁気シールド膜4よりも磁気増幅膜3の方がより磁気飽和し易いように設定する。このように設定する場合には、例えば、磁気増幅膜3の厚さを磁気シールド膜4の厚さよりも厚くする。また、磁気増幅膜と磁気シールド膜との間の膜厚比(磁気増幅膜厚/磁気シールド膜厚)は2〜5であることが好ましい。
このように磁気式スイッチは、磁気シールド膜4の膜厚と磁気増幅膜3の膜厚を設定することにより、磁気シールド膜4で弱磁場を遮蔽し、磁気増幅膜3で一定レベル以上の磁場を増幅することができ、これにより、磁気式スイッチにおいて、磁気シールド膜4が磁気飽和する外部磁界よりも小さい磁場でOFFさせ、外部磁界よりも大きい磁場でONさせることができる。
磁気シールド膜4の材料及び/又は磁気増幅膜3の材料は、NiFe合金系のようなパーマロイ系磁性材料、CoNbZr合金系、CoFeSiB合金系のようなアモルファス系磁性材料、又はSiFe合金系のようなセンダスト系磁性材料で構成されていることが好ましい。磁気シールド膜4の材料と磁気増幅膜3の材料とは、同じであっても良く、異なっていても良い。
ここで、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
図3に示すように、図1に示す構成を有する磁気センサ10の近傍に磁気増幅膜3として厚さ0.1mmのパーマロイ板を配置し、さらに磁気センサ10及び磁気増幅膜3上に磁気シールド膜4として厚さ0.05mmのパーマロイ薄板を設けてなる磁気式スイッチを作製し、この磁気式スイッチに磁石を近づけて、スイッチ感度(磁石検知距離(磁石と磁気式スイッチとの間の最短距離)(Hon,Hoff))及びヒステリシスを調べた。また、比較例として、図7に示す構成を有する磁気センサを有する磁気式スイッチを作製して同様にスイッチ感度及びヒステリシスを調べた。
その結果、本発明に係る磁気式スイッチは、Hon,Hoffの際の磁石検知距離がそれぞれ27mm(1.85mT),30mm(1.5mT)であり、ヒステリシスが0.35mTであった。一方、従来の磁気式スイッチは、Hon,Hoffの際の磁石検知距離がそれぞれ26mm(2.0mT),31mm(1.4mT)であり、ヒステリシスが0.6mTであった。このように、本発明に係る磁気式スイッチは、ヒステリシスが低減されたものであり、安定した動作が実現できるものであった。
図4は、本発明の実施の形態に係る磁気式スイッチの回路図である。
磁気式スイッチは、感度軸方向からの外部磁界に対して抵抗値が変化する磁気センサと、磁気センサの抵抗変化に基づいて変化するセンサ出力に基づいて、検出信号を出力する制御部を備えている。
図4に示す磁気式スイッチ18は、磁気検出素子A1を備えるセンサ部181と、センサ部181からのセンサ出力に基づいて、オン/オフの2値信号を生成し出力するための制御部(集積回路(IC))182とを有して構成される。
センサ部181は1つの磁気抵抗効果素子A1と1つの固定抵抗素子1811とが直列回路を構成している。また、制御部182内には直列接続された2つの固定抵抗素子1821が設けられ、磁気検出素子A1及び固定抵抗素子1811と合わせてブリッジ回路が構成されている。ブリッジ回路は、制御部182に設けられた入力端子1826、グランド端子1828及び差動増幅器1822に接続されている。本実施の形態では、ブリッジ回路には1種類の磁気検出素子A1のみが組み込まれているが、同じ磁気抵抗効果素子A1が、ブリッジ回路に複数組み込まれても良い。
磁気抵抗効果素子A1の抵抗値の変化に基づいて差動増幅器1822から得られた差動出力は、閾値を備えるコンパレータ(比較回路)1829に送られて波形整形される。図2に示すように、外部磁界Hの磁界強度が強まり、外部磁界がHonになったとき、波形整形されたセンサ出力が、ハイレベル(VHi)からローレベル(VLo)になり、検出信号(オン信号)が出力される。一方、外部磁界Hの磁界強度が弱まり、外部磁界がHoffになったとき、波形整形されたセンサ出力がローレベル(VLo)からハイレベル(VHi)になり、オフ信号が出力される(オン信号が出力されない)。
コンパレータ1829の出力側には、ラッチ回路1825が接続され、さらにラッチ回路1825の出力側には、出力端子1827が接続されている。ラッチ回路1825が設けられているため、オン信号を出力しているとき、センサ出力がハイレベルになったことを検出しない限り、オン信号を出力し続ける。またオフ信号を出力しているとき、センサ出力がローレベルになったことを検出しない限り、オフ信号を出力し続ける。また、制御部182には、クロック回路1824やスイッチ回路1823がある。図4の回路構成では、スイッチ回路1823がオフされると、入力端子1826からブリッジ回路への通電が停止するようになっている。スイッチ回路1823のスイッチのオン・オフは、クロック回路1824からのクロック信号に連動しており、スイッチ回路1823は通電状態を間欠的に行う節電機能を有している。
次に、本発明に係る磁気式スイッチの用途について説明する。ここで、磁気式スイッチを折り畳み式携帯電話に適用した場合について説明する。なお、本発明の磁気式スイッチは、これに限定されず、他の装置、機器に適用することが可能である。
図5は、本発明に係る磁気式スイッチを搭載した携帯電話を示す図であり、図6(a),(b)は、図5に示す携帯電話の動作を説明するための図である。
図5に示す折り畳み式携帯電話11は、表示筐体12と、操作筐体13と、表示筐体12及び操作筐体13を連結するヒンジ部14とを有して構成される。折り畳み式携帯電話11を開いた状態では、表示筐体12の液晶ディスプレイなどの表示画面15が設けられた表示面12aと、操作筐体13の各種の操作釦16が配置された操作面13aとが同じ側を向いた状態となる。また、表示筐体12の表示面12aにはスピーカ19が設けられ、操作筐体13の操作面13aにはマイク17が設けられている。
図5に示す通常の使用状態では、磁気式スイッチ18は磁石20から距離的に離れており、磁石20から磁気式スイッチ18に外部磁界Hが作用していない。すなわち無磁場状態である。よってセンサ出力はハイレベルにあり、出力端子1827からはオフ信号が出力されている(オン信号が出力されていない)。
図5に示す開いた状態から図6(a)に示す状態に移行し、さらに図6(b)に示すように閉じると、磁気式スイッチ18に作用する磁石20からY1方向に向く外部磁界Hの磁界強度が徐々に強まる。すると磁気検出素子A1の抵抗値が徐々に低下する。そして、外部磁界Hが磁界強度Hon以上となったとき、センサ出力がハイレベルからローレベルに移行し、出力端子1827から検出信号(オン信号)が出力される。
次に、図6(b)に示す閉じた状態から図5の開いた状態に移行させると、外部磁界Hが磁界強度Hoff以下になったとき、センサ出力がローレベルからハイレベルに移行しオフ信号が出力される。センサ出力にはヒステリシスが生じているため、図5に示す状態から図6(b)に示す状態に移行させたときにオン信号が生成されるタイミングと、図6(b)に示す状態から図5に示す状態に移行させたときにオフ信号が生成されるタイミングとにずれが生じる。しかしながら、本発明に係る磁気式スイッチにおいては、このヒステリシスが小さい。このため、スイッチOFF(Hoff点)が0磁場に近づいても、外乱磁場による影響が小さいので誤動作がなくなり、安定した動作を実現できる。
本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態における材料、各素子の接続関係、厚さ、大きさ、製法などは適宜変更して実施することが可能である。その他、本発明は、本発明の範囲を逸脱しないで適宜変更して実施することができる。
本発明は、折り畳み式携帯電話などの開閉用の磁気式スイッチに適用することが可能である。
1 磁気抵抗効果素子
2 固定抵抗素子
3 磁気増幅膜
4 磁気シールド膜
10 磁気センサ
11 折り畳み式携帯電話
12 表示筐体
13 操作筐体
14 ヒンジ部
15 表示画面
16 操作釦
17 マイク
18 磁気式スイッチ
19 スピーカ
20 磁石

Claims (3)

  1. 感度軸方向からの外部磁界に対して抵抗値が変化する磁気センサと、前記磁気センサの抵抗変化に基づいて変化するセンサ出力に基づいて、検出信号を出力する制御手段と、を具備する磁気式スイッチであって、前記磁気センサは、特定の方向に感度軸を持つ磁気抵抗効果素子と、前記感度軸の方向において前記磁気抵抗効果素子を挟むように配置された磁気増幅膜と、前記磁気抵抗効果素子及び前記磁気増幅膜が占める領域よりも広い領域で前記磁気抵抗効果素子及び前記磁気増幅膜と重なるように配置された磁気シールド膜と、を有し、前記磁気シールド膜の膜厚は前記磁気増幅膜の膜厚よりも薄く、前記制御手段は、前記磁気センサとは離れた位置にある磁石と前記磁気抵抗効果素子との距離に応じてオン/オフの電圧を出力することを特徴とする磁気式スイッチ。
  2. 前記磁気シールド膜が磁気飽和する外部磁界よりも小さい磁場でOFFし、前記外部磁界よりも大きい磁場でONするように、前記磁気シールド膜及び前記磁気増幅膜の厚さが設定されたことを特徴とする請求項1記載の磁気式スイッチ。
  3. 前記磁気シールド膜及び/又は前記磁気増幅膜は、パーマロイ系磁性材料、アモルファス系磁性材料及びセンダスト系磁性材料からなる群より選ばれた材料で構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の磁気式スイッチ。
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