JP5520972B2 - カルバゾール誘導体とそれを用いた有機エレクトロルミネセンス装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
Ar1とAr2は、それぞれ独立してアルキル基置換、アリール基置換又は未置換の芳香族炭化水素基であり、又は、アルキル基置換、アリール基置換又は未置換のヘテロ環芳香族炭化水素基を表す。)
基板に正孔注入層を形成する工程と、
前記正孔注入層に正孔輸送層を形成する工程と、
前記正孔輸送層に、リン光ドーパントと、少なくとも一つの本発明のカルバゾール誘導体化合物とを有する発光層を形成する工程と、
前記発光層に電子輸送層を形成する工程と、
前記電子輸送層に電子注入層を形成する工程と、
前記電子注入層に電極を形成する工程と、
を含む有機エレクトロルミネセンス装置を形成する方法をも提供する。
合成経路図1において、Ar1、Ar2、Ar3は、それぞれ独立してアルキル基置換、アリール基置換又は未置換の芳香族炭化水素基、又は、アルキル基置換、アリール基置換又は未置換のヘテロ環基を表し、かつ、Xは酸素又は硫黄を表す。
合成経路図2において、Ar1、Ar2、Ar3、Ar4は、それぞれ独立してアルキル基置換、アリール基置換又は未置換の芳香族炭化水素基、又は、アルキル基置換、アリール基置換又は未置換のヘテロ環基を表し、かつ、R1はC1〜C16アルキル基より選出した基を表す。
次に、図面を参照しながら本発明の有機エレクトロルミネセンス装置の構造について説明するが、本発明は、これらの例に限定されるものではない。
無水酢酸(3部(容量))と微量濃度の硫酸との還流により、3−ブロモカルバゾール(20g)をそのアセチル誘導体に転化し、次に、ノルマルヘキサンで洗浄し、真空中で乾燥することにより、灰白色(off−white)の固体を呈する9−アセチル−3−ブロモカルバゾール(23g)を得る。
9−アセチル−3−ブロモカルバゾールと同様の方法により9−アセチル−2−ブロモカルバゾールと9−アセチル−1−ブロモカルバゾールを合成する。
Inorganic Chemistry第47号(2008年)、7035頁に記載の方法により、4−ブロモ−パラ−テルフェニルと3−ブロモ−パラ−テルフェニルを合成する。
N,N’−ジメチルアセトアミド(20ml)中で、9−アセチル−3−ブロモカルバゾール(1.2g)とN’−1−ナフチル−N,N−ジフェニル−1,4−ベンゼンジアミン(2.2g)の混合物を攪拌した。次に、酸化銅(0.8g)を加え、170℃まで加熱し、24時間保持した。冷水により反応を停止させ、固形物を濾過し、メタノールで洗浄し、真空で乾燥させた。次に、固形物を取り脱保護反応に用いた。この脱保護反応では、水酸化カリウム(0.6g)とテトラヒドロフラン(THF,3ml)、メタノール(6ml)及び水(6ml)を用い、還流温度で行った。次に、酢酸エチルエステルを用いて反応混合物を抽出し、無水硫酸ナトリウムで有機層を脱水し、真空中で乾燥するまで蒸散を行った。次に、トルエン/ヘキサン(1/2)を溶出液として、シリカゲルカラムクロマトグラフィによりN−(9H−カルバゾール−3−イル)−N−(ナフチル−1−イル)−N’,N’−ジフェニルベンゼン−1,4−ジアミン(1.6g)を得た。
インドロ〔2,3−a〕カルバゾール(9.8g)を窒素ガス中で無水トルエン(150ml)に溶解した。次に、3−ブロモ−パラ−テルフェニル(12.9g)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0.65g)、トリ−ターシャルブチルホスフィン(0.46g)及びオルソリン酸カリウム(40.3g)を加え、還流するまで加熱して反応を16時間続けた。反応終了後、冷水で反応を停止させ、次に、酢酸エチルエステルを用いて反応混合物を抽出し、無水硫酸ナトリウムにより有機層を脱水し、真空中で乾燥するまで蒸散を行った。次に、酢酸エチルエステル/ヘキサン(1:9)を溶出液として、シリカゲルカラムクロマトグラフィにより、N−(1,1’:4’,1”−テルフェニル−3−イル)インドロ〔2,3−a〕カルバゾール(12.6g)を得た。
上記により得たN−(1,1’:4’,1”−テルフェニル−3−イル)インドロ〔2,3−a〕カルバゾール(2.9g)を窒素ガス中でジメチルスルホキシド(DMSO、30ml)に溶解した。水酸化カリウム(1.0g)、水酸化テトラノルマルブチルアンモニウム(0.3g)及びブロモエタン(1.3g)を加え、室温で3時間攪拌し、反応混合物を水中に投入し、生成物を沈殿させた。上記で得た固形物をノルマルヘキサンで洗浄し、真空中で加熱乾燥して、N−エチル−N’−(1,1’:4’,1” −テルフェニル−3−イル)インドロ〔2,3−a〕カルバゾール(化合物1−27、1.5g、収率49%)を得た。
9−アセチル−3−ブロモカルバゾール(1.2g)とジパラトリルアミン(1.2g)の混合物をN,N’−ジメチルアセトアミド(20ml)中で攪拌した。次に、酸化銅(0.8g)を加え、170℃まで加熱し、24時間保持した。冷水により反応を停止させ、固形物を濾過し、メタノールで洗浄し、真空中で加熱乾燥させた。この固形物を脱保護反応に用いた。この脱保護反応では、還流温度で水酸化カリウム(0.6g)とテトラヒドロフラン(THF,3ml)、メタノール(6ml)及び水(6ml)を用いて行った。次に、酢酸エチルエステルにより反応混合物を抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、真空中で乾燥するまで蒸散する。続いてトルエン/ヘキサン(1/2)を溶出液として、シリカゲルカラムクロマトグラフィにより、3−(N,N−ジパラトリルアミノ)−9H−カルバゾール(1.2g)を得た。
N,N’−ジメチルアセトアミド(20ml)中、9−アセチル−3−ブロモカルバゾール(1.2g)とビス−(4−ビフェニルアミン)(2.2g)の混合物を攪拌する。次に、酸化銅(0.8g)を加え、170℃まで加熱し、24時間保持した。冷水で反応を停止させ、固形物を濾過し、メタノールで洗浄し、真空中で乾燥させた。次に、この固形物を更に脱保護反応に用いた。この脱保護反応では、還流温度で水酸化カリウム(0.6g)、テトラヒドロフラン(THF,3ml)、メタノール(6ml)及び水(6ml)を用いて行った。続いて酢酸エチルエステルを用いて反応混合物を抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムにより脱水し、真空中で乾燥するまで蒸散を行った。次に、トルエン/ヘキサン(1/2)を溶出液として、シリカゲルカラムクロマトグラフィにより、3−(N,N−ビス−4−ビフェニルアミノ)−9H−カルバゾール(2.2g)を得た。
基板は、使用する前、基板を蒸着システムに安置する前において、先に溶剤を用いてオイルなどの汚れを取り除き、UVオゾン中で洗浄する。次に、基板を真空蒸着室に送り、基板の上部にその他の各層を堆積させる。106Torrに近い真空中で、蒸着法により、加熱されたボート(boat)から下記の順序で図2に示す以下の各層の堆積を行う:
a)正孔注入層、EHI609
c)エキシトン阻止層、厚さ5nm、4,4’,4’−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン(TCTA)を含む。
d)発光層、厚さ30nm、7容量%のIr(ppy)3がドープされた化合物1−16を含む。
e)電子輸送層、厚さ30nm、トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq3)を含む。
f)電子注入層、厚さ1nm、リチウムフルオリド(LiF)。
g)陰極、厚さ約150nm、アルミニウム(Al)を含む。
化合物(1−16)の替りにCBPを発光層中に使用した以外は、実施例1に示す層構造に類似した構造で、比較例の有機エレクトロルミネセンス装置を製造した。この有機リン光エレクトロルミネセンス装置の構造は、ITO/EHI609(70nm)/NPB(7nm)/TCTA(5nm)/CBP:7%Ir(ppy)3(30nm)/Alq3(30nm)/LiF(1nm)/Al(150nm)により示される。
110,210,310 基板
120,220,320 陽極
130,230,330 正孔注入層
140,240,340 正孔輸送層
150 発光層
160,260,360 電子輸送層
170,270,370 電子注入層
180,280,380 陰極
245,355 エキシトン阻止層
250,350 発光層
Claims (16)
- 有機エレクトロルミネセンス装置に用いられる下記式(1−1)〜式(1−32)で表されるカルバゾール誘導体のいずれか一つであるカルバゾール誘導体。
- 請求項1に記載のカルバゾール誘導体を含有する有機エレクトロルミネセンス装置。
- リン光ドーパントと、請求項1に記載のカルバゾール誘導体からなる少なくとも一つを含有する発光層を更に備える請求項2に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 前記リン光ドーパントは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金及び金からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属を含む有機金属錯体である請求項3に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 前記リン光ドーパントは、Ir(ppy)3、Ir(pq)2(acac)、Ir(piq)2(acac)、Ir(piq)3、FIrpic及びPtOEt3のいずれか一つである請求項3に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 前記発光層におけるリン光ドーパントの含有量は、1重量%〜15重量%の範囲にある請求項3に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 請求項1に記載のカルバゾール誘導体からなる少なくとも一つを含む正孔輸送層を更に備える請求項2に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 請求項1に記載のカルバゾール誘導体からなる少なくとも一つを含む電子輸送層を更に備える請求項2に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 正孔阻止層と電子阻止層とを更に備え、前記正孔阻止層と前記電子阻止層のいずれか一つに、請求項1に記載のカルバゾール誘導体からなる少なくとも一つが含まれる請求項2に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 基板と、
電極と、
前記基板と前記電極との間に形成され、正孔輸送層、電子輸送層及び前記正孔輸送層と前記電子輸送層との間に挟まれた発光層を有するサンドイッチ構造と、
を更に備える請求項2に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。 - 前記正孔輸送層、前記電子輸送層及び前記発光層のいずれか一つに、請求項1に記載のカルバゾール誘導体からなる少なくとも一つが含まれる請求項10に記載の有機エレクトロルミネセンス装置。
- 基板上に正孔注入層を形成する工程と、
前記正孔注入層上に正孔輸送層を形成する工程と、
前記正孔輸送層上に、リン光ドーパントと、請求項1に記載のカルバゾール誘導体からなる少なくとも一つとを有する発光層を形成する工程と、
前記発光層上に電子輸送層を形成する工程と、
前記電子輸送層上に電子注入層を形成する工程と、
前記電子注入層上に電極を形成する工程と、
を含む、有機エレクトロルミネセンス装置を形成する方法。 - 前記リン光ドーパントは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金及び金からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属を含む有機金属錯体である請求項12に記載の有機エレクトロルミネセンス装置を形成する方法。
- 前記リン光ドーパントは、Ir(ppy)3、Ir(pq)2(acac)、Ir(piq)2(acac)、Ir(piq)3、FIrpic及びPtOEt3のいずれか一つである請求項12に記載の有機エレクトロルミネセンス装置を形成する方法。
- 前記発光層におけるリン光ドーパントの含有量は、1重量%〜15重量%の範囲にある請求項12に記載の有機エレクトロルミネセンス装置を形成する方法。
- 前記電極は、陰極である請求項12に記載の有機エレクトロルミネセンス装置を形成する方法。
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