JP5520058B2 - 電気光学装置 - Google Patents
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Description
ルーバーを形成しても透過率の低下を抑制でき、輝度の低下及びばらつきを抑制できる電
気光学装置に関する。
表示装置、有機EL(Electroluminescence)表示装置、液晶表示装置等は広視野角を得
ることができることから、テレビやパソコン等において広く用いられるようになってきて
いる。
等では、覗かれたくない秘匿情報や個人情報が表示されるため、他人に視認されないよう
にするためには視野角は狭い方が望ましいとされている。
late)などのフィルムでラミネートした構造で、透過光の方向と可視角度をコントロール
し、必要な範囲に透過し不要な部分への照射を制限した、視野角調整フィルムが開示され
ている。この視野角調整フィルムを各種表示画面の前面に配置すると、透過光の射出方向
や可視範囲を調整することができ、周囲からの覗き見等を防止し、プライバシーを保護で
きるとされている。
ディスプレイの発明が開示されている。すなわち、下記特許文献1の光線方向制御素子で
は、透明パターンの膜厚によって光吸収領域の膜厚が定まるので、光吸収領域の膜厚制御
を容易に行うことができ、光吸収領域のアスペクト比(断面における幅に対する高さの割
合)を高くすることが可能であって、光線の広がり角を維持しながら透過率を向上させる
ことができるとされている。そして、下記特許文献1の光線方向制御素子を用いると、透
過光線の広がり角が小さくて高い光透過率を実現できる光源及び表示装置を提供すること
ができるとされている。
ているような視野角調整フィルムを使用すると、電気光学装置の製造費用が増加するので
、高価な製品となってしまう。また、この視野角調整フィルムを様々な電気光学装置のパ
ネル面に取付ける際に、パネルの画素領域の間隔とフィルムに形成されたルーバーとの間
隔がずれていると、画素領域と重なったルーバーにより透過光が遮られ、透過率が減少し
て輝度が低下したり、表示面内で画素領域に対するルーバーの位置がばらつくため、表示
面内での輝度のばらつきが生じたりという課題が存在する。また、上記特許文献1に開示
されている光吸収領域が形成された光線方向制御素子を用いた場合においても、上記非特
許文献1の視野角調整フィルムの場合と同様に、光吸収領域と画素領域との間隔が考慮さ
れていないため、電気光学装置のパネル面に取付ける際には同様の課題が生じることにな
る。
しないように形成することで、ルーバーが透過光を遮るという課題を解決できることを見
出し、本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明の目的は、視野角制御用
のルーバーを形成しても、透過率が低下せず、輝度の低下及びばらつきを抑制し、且つ安
価に作製し得る電気光学装置を提供することにある。
前記電気光学装置は、互いに対向配置された第1基板及び第2基板を有し、
前記複数の走査線及び信号線は前記第1基板形成され、
前記ルーバーは前記第2基板に形成されているものとすることができる。
数の基板を備えた電気光学装置においても上記効果を奏することができる。
板と対向する側に形成されていることが好ましい。
内部に形成される、いわゆるインセルルーバーとなるので、外部からの物理的接触等によ
るルーバーの破損を抑制することができる。
号線の少なくとも一方と平面視で平行に形成されていることが好ましい。
た場合は、行方向に延伸されるルーバーが複数本形成されるため、上下方向の視野角を制
御することができる。一方、ルーバーが信号線と平行に形成された場合は、列方向に延伸
されるルーバーが複数本形成されるため、左右方向の視野角を制御することができる。さ
らに、ルーバーが基板に対して平面視で走査線と信号線の両方と平行に形成されると、ル
ーバーはマトリクス状に形成されることになり、上下左右方向の視野角を制御することが
できる。以上より、本発明の電気光学装置によれば、視野角の制御を透過率の低下や輝度
のバラツキを抑制した電気光学装置を得ることができる。
前記第1基板及び前記第2基板間には液晶層が挟持されており、
前記ルーバーは前記第2基板を構成する透明基板の表面に形成されていると共に、
前記ルーバー間には透明材料層が配置され、
前記ルーバーの表面には遮光部材が配置され、
さらに、前記透明材料層の表面及び前記遮光部材の表面にはカラーフィルター層が形成
されていることが好ましい。
示装置を提供することができる。
前記透明材料層と前記遮光層との間に形成されていることが好ましい。
ることになるので、隣接する画素領域からの光漏れによる混色を抑制することができる。
と接する側と反対側の面に形成されていることが好ましい。
なわち、第2基板の外側の面に形成される、いわゆるオンセルルーバーとなる。そのため
、第2基板としては従来例のものと同様のものを用いることができ、ルーバーはこの第2
基板上に形成されることになる。よって、本発明の電気光学装置によれば、第2基板内に
ルーバーが形成されないため、第2基板の表面平坦性に影響を与えないようにしつつ、か
つルーバーが形成されることによる視野角制御を透過率の低下を抑制し、輝度の低下及び
ばらつきを抑制した電気光学装置が得られる。
説明する。ただし、以下に示す実施形態は、本発明の電気光学装置の技術思想を具体化す
るために横電界方式のFFS(Fringe Field Switching)モードの液晶表示装置を例にと
って説明するものであって、本発明をこの実施形態に記載されたFFSモードの液晶表示
装置に特定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲に含まれるその他
の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明のた
めに用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとす
るため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例し
て表示されているものではない。
まず、図1を参照して、実施形態1の液晶表示装置10Aの構成について説明する。図
1に示すように、実施形態1の液晶表示装置10Aは、ガラス等からなる第1透明基板1
2上に各種配線等を形成したアレイ基板11(本発明の「第1基板」に対応)とガラス等
からなる第2透明基板29上にカラーフィルター層等を形成したカラーフィルター基板2
8A(本発明の「第2基板」に対応)が対向配置されている。そして、このアレイ基板1
1とカラーフィルター基板28Aはシール材36で貼り合わされており、このシール材3
6で形成された空間内に液晶43(図3参照)が封入されている。また、シール材36で
囲まれて液晶43が封入された部分が表示領域37となり、この表示領域37の外側が非
表示領域38(「額縁領域」とも言う)となっている。
ースの張出した部分が形成されるようにカラーフィルター基板28Aより若干サイズが大
きいものが使用されている。この張出した部分は、液晶43を駆動するためのドライバー
IC42等が配置される実装領域12aとなっている。また、実施形態1の液晶表示装置
10Aでは、液晶注入口39がシール材36により形成され、この液晶注入口39を封止
材40で封止した例を示している。
には、第1透明基板12の表面に例えばMo/Alの2層配線からなる複数の走査線13
が互いに平行になるように形成されている。また、この走査線13が形成された第1透明
基板12の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるゲ
ート絶縁膜15が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜15の表面のスイッチング
素子としての薄膜トランジスター(TFT:Thin Film Transistor)20が形成される領
域には例えばアモルファスシリコン層からなる半導体層16が形成されている。この半導
体層16が形成されている位置の走査線13の領域がTFT20のゲート電極Gを形成す
る。
らなるソース電極Sを含む信号線14及びドレイン電極Dが形成されている。この信号線
14のソース電極S部分及びドレイン電極D部分は、いずれも半導体層16の表面に部分
的に重なっている。また、このアレイ基板11の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸
化ケイ素等の透明絶縁材料からなるパッシベーション膜17が被覆されている。さらに、
このパッシベーション膜17の表面全体に例えば樹脂材料からなる層間膜21が被覆され
ており、ドレイン電極Dに対応する位置のパッシベーション膜17及び層間膜21にはコ
ンタクトホール26が形成されている。
域(以下「画素領域41」という)の層間膜21上に、例えばITO(Indium Thin Oxid
e)ないしIZO(Indium Zinc Oxide)からなる透明導電性材料で下電極22が形成され
ている。この下電極22はコンタクトホール26を介してドレイン電極Dと電気的に接続
されている。そのため、この下電極22は画素電極として作動する。さらに、この下電極
22上には電極間絶縁膜23が形成されている。この電極間絶縁膜23には、例えば窒化
ケイ素等の絶縁性が良好な透明絶縁材料が使用される。
のスリット25を有するITOないしIZOからなる透明導電性材料で上電極24が形成
されている。そして、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜(図示せず)が形成されて
いる。この上電極24は、表示領域37の全体に亘って形成されており、非表示領域38
において共通配線(図示省略)と電気的に接続されている。そのため、上電極24は共通
電極として作動する。
透明基板29の表面に透明材料層30Aが所定の厚さに形成され、この透明材料層30A
には、平面視でアレイ基板11の信号線14と平行に重畳するように光吸収材料からなる
ルーバー31Aが透明材料層30Aと略同じ厚さで形成されている(図4参照)。また、
アレイ基板11の走査線13及びTFT20に対応する位置を被覆するように遮光層32
が形成されている。なお、透明材料層30A及びルーバー31Aの厚さは、例えばこの遮
光層32の厚さの10倍〜15倍程度である。
、青(図4参照)の3色からなるカラーフィルター層33が形成されている。さらに、遮
光層32及び、カラーフィルター層33の表面を被覆するように透明樹脂からなるオーバ
ーコート層34が形成されている。また、オーバーコート層34の表面には、カラーフィ
ルター基板28Aの表面全体に亘り、配向膜(図示省略)が形成されている。また、アレ
イ基板11及び、カラーフィルター基板28Aの外面にはそれぞれ偏光板27、35が設
けられている。
ル材36を塗布し貼り合わせを行う。その後、シール材36で形成した液晶注入口39か
ら液晶43を注入し、液晶注入口39を封止材40で封止し、実装領域12aにドライバ
ーIC42等を設置することで、実施形態1の液晶表示装置10Aとなる。
成されたことによる視野角の制御の効果を、従来例と比較しながら説明する。なお、図1
1に示す従来例としての液晶表示装置10'は、ルーバー31'が形成される位置が異なる
のみで、他の構成は実施形態1の液晶表示装置10Aと共通しているので、共通する構成
部分には同一の参照符号を付し、詳細な説明は省略する。
なるルーバー31Aは、カラーフィルター基板28Aの第2透明基板29と遮光層32の
間に、平面視でアレイ基板11に形成された信号線14と平行に重畳するように、形成さ
れている。さらに、ルーバー31Aは信号線14と同様に等間隔に形成されている。なお
、実施形態1の液晶表示装置10Aは、ルーバー31Aが信号線14と平行、すなわち基
板に対して縦方向に形成されているので、左右方向への透過光が遮られることになるので
、左右方向の視野角を制御することができるようになる。
ラーフィルター基板28'に形成されたルーバー31'は、間に透明材料層30'を挟んで
、画素領域41の間の間隔を考慮せずに形成されている。そのため、ルーバー31'は画
素領域41の表面の一部に重畳して形成される場合が生じることになる。そうなると、透
過光44'は画素領域41の表面の一部に重畳して形成されるルーバー31'により遮られ
ることで透過率が低下し、表示画面の輝度を低下させ、鮮明な表示が困難となってしまう
。さらに、ルーバー31'は画素領域41の表面に不規則に形成されるから、ルーバー3
1'が画素領域41の表面に形成されている部分、形成されていない部分、さらには一部
分だけ形成されている部分とでは透過率が異なり、その結果、輝度にバラツキが生じるこ
とになる。これは、完成された表示画面側に視野角調整フィルムを設置した場合でも同様
である。
と画素領域41の間との間隔が一致するようにし、ルーバー31Aは画素領域41の表面
には形成されない状態としている。そのため、透過光44がルーバー31Aにより遮られ
ることを抑制し透過率の低下を抑制しつつ左右方向の視野角の制御をすることができる。
また、ルーバー31Aは各画素領域41の間に等間隔に規則正しく形成されるので、画素
領域41ごとに透過率が異なることを抑制することができ、輝度のばらつきを抑制するこ
ともできる。
板28Aの内部に形成された、いわゆるインセルルーバーであるので、外部からの物理的
接触等によりルーバー31Aの破損を抑制することができる。さらにまた、実施形態1の
液晶表示装置10Aでは、ルーバー31Aとカラーフィルター層33との間に遮光層32
が形成されているので、隣接する画素領域41からの光漏れによる混色を抑制することが
できる。
しておき、その後でルーバー31Aが形成されている構造となっている場合、遮光層32
とカラーフィルター層33との距離が離れてしまっている。そうすると、ルーバー31A
が延在する方向と直交する方向(実施形態1においては走査線13が延在する方向)では
、ルーバー31A自体が遮光層としても機能するため、隣接する画素での混色が生じない
。一方、ルーバー31Aが延在する方向と平行な方向(実施形態1においては信号線14
が延在する方向)では、遮光層32がカラーフィルター層33から離れてしまって存在し
ているので、遮光層32に到達するまでの間に光が隣接する画素間で混色してしまうこと
になる。しかしながら、本実施形態1のように、ルーバー31Aとカラーフィルター層3
3との間に遮光層32が形成されている構成、言いかえればルーバー31Aよりも液晶層
33側に遮光層32及びカラーフィルター層33が存在しているため、このような混色の
問題を抑制することもできる。
過率の低下や輝度のバラツキを抑制した液晶表示装置を得ることができる。また、従来例
のように、視野角調整フィルムを使用しなくてよいので安価な液晶表示装置を提供するこ
とができる。
次に、実施形態2の液晶表示装置10Bを、図5を参照して説明する。なお、実施形態
2の液晶表示装置10Bは、実施形態1の液晶表示装置10Aに対して、ルーバーの形成
される向きが異なるのみなので、共通する部分には同一の符号を付し、詳細な説明は省略
する。
なるルーバー31Bは、間に透明材料層30Bを挟んで、カラーフィルター基板28Bの
第2透明基板29と遮光層32の間にアレイ基板11に形成された走査線13と平行に重
畳するように形成されている。さらに、ルーバー31Bは、走査線13と同様に等間隔に
形成されている。なお、実施形態2の液晶表示装置10Bは、ルーバー31Bが走査線1
3と平行、すなわち基板に対して横方向に形成されているので、透過光の上下方向への透
過が遮られることになるので、上下方向の視野角を制御することができるようになる。な
お、他の構成は実施形態1の液晶表示装置10Aと同様である。
10Aと同様に、ルーバー31Bの形成される位置と画素領域41の間との間隔が一致す
るようにルーバー31Bが形成されるので、ルーバー31Bは画素領域41の表面に形成
されなくなるため、透過光がルーバー31Bにより遮られることを抑制し透過率の低下を
抑制しつつ上下方向の視野角の制御をすることができる。また、ルーバー31Bは各画素
領域41の間に等間隔に規則正しく形成されるので、画素領域41ごとに透過率が異なる
ことを抑制することができ、輝度のばらつきを抑制することもできる。なお、実施形態2
の液晶表示装置においても、ルーバー31Bがインセルルーバーであること、及び、カラ
ーフィルター基板28Bに遮光層32が形成されていること等により、実施形態1の液晶
表示装置10Aと同様の効果も奏することができる。
次に、実施形態3の液晶表示装置10Cについて、図6を参照して説明する。なお、実
施形態3の液晶表示装置10Cは、実施形態1の液晶表示装置10Aに対して、ルーバー
の形成される間隔が異なるのみなので、共通する部分には同一の符号を付し、詳細な説明
は省略する。
なるルーバー31Cは、間に透明材料層30Cを挟んで、カラーフィルター基板28Cの
第2透明基板29と遮光層32の間にアレイ基板11に形成された信号線14と平行に重
畳するように形成されている。さらに、ルーバー31Cは、信号線14に対して間欠的に
形成されている。なお、実施形態3の液晶表示装置10Cは、ルーバー31Cが信号線1
4と平行、すなわち基板に対して縦方向に形成されているので、透過光の左右方向への透
過が遮られることになるので、左右方向の視野角を制御することができるようになる。ま
た、ルーバー31C同士の形成される間隔は、実施形態1の液晶表示装置10Aに比べ、
間隔が開いて形成されることになる。
る間隔を調整することにより、視野角の広狭を調整することができ、要求される視野角に
応じた液晶表示装置の設計の幅を広げることができる。さらに、実施形態3の液晶表示装
置10Cも実施形態1の液晶表示装置10Aと同様に、ルーバー31Cが画素領域41の
表面に形成されておらず、また、間欠的に等間隔に形成されているので、透過光が遮られ
ることが抑制され、輝度の低下及び輝度のばらつきを抑制することができる。また、ルー
バー31Cがインセルルーバーであること、及び、カラーフィルター基板28Cに遮光層
32が形成されていること等により、実施形態1の液晶表示装置10Aと同様の効果も奏
することができる。
次に、実施形態4の液晶表示装置10Dについて、図7を参照して説明する。なお、実
施形態4の液晶表示装置10Dは、実施形態1の液晶表示装置10Aに対して、ルーバー
の形成される間隔が異なるのみなので、共通する部分には同一の符号を付し、詳細な説明
は省略する。
表示装置10Aと同様に光吸収材料からなるルーバー31Dは、間に透明材料層30Dを
挟んで、カラーフィルター基板28Dの第2透明基板29と遮光層32の間にアレイ基板
11に形成された信号線14と平行に重畳するように形成されている。それに加え、実施
形態4の液晶表示装置10Dでは、ルーバー31Dは信号線14と重畳して形成されたル
ーバー31D同士の間にも形成されている。なお、実施形態4の液晶表示装置10Dは、
ルーバー31Dが信号線14と平行、すなわち基板に対して縦方向に形成されているので
、透過光の左右方向への透過が遮られることになるので、左右方向の視野角を制御するこ
とができるようになる。また、ルーバー31Dの形成される間隔は、実施形態1の液晶表
示装置10Aに比べ、狭めて形成されることになる。
実施形態1の液晶表示装置10Aより多く形成することになるので、形成されるルーバー
31Dの高さを低くしても実施形態1の液晶表示装置10Aと同様の視野角の制御を行う
ことができる。さらに、ルーバー31Dの高さが低く形成されることで、ルーバー31D
の破損をさらに抑制することができる。また、実施形態4の液晶表示装置10Dでは、ル
ーバー31Dが画素領域41と重畳して形成されることになるが、この画素領域のルーバ
ー31Dは各画素領域41に対して等間隔に形成されることになり、各画素領域41の透
過率はやや低下するものの透過光が遮られる割合がすべての画素領域41で略同じとなる
ため、輝度のばらつきをさらに抑制することができる。さらに、ルーバー31Dを低く形
成できるので、薄型化の液晶表示装置に対応することができる。また、ルーバー31Dが
インセルルーバーであること、及び、カラーフィルター基板28Dに遮光層32が形成さ
れていること等により、実施形態1の液晶表示装置10Aと同様の効果も奏することがで
きる。
次に、実施形態5の液晶表示装置に10Eついて、図8を参照して説明する。なお、実
施形態5の液晶表示装置10Eは、実施形態1の液晶表示装置10Aに対して、ルーバー
31Eの形成される部分が異なるのみなので、共通する部分には同一の符号を付し、詳細
な説明は省略する。
なるルーバー31Eは、間に透明材料層30Eを挟んで、カラーフィルター基板28Eの
第2透明基板29と遮光層32の間にアレイ基板11に形成された信号線14及び走査線
13と平行に重畳するように形成されている。すなわち、ルーバー31Eはマトリクス状
に形成されている。そのため、実施形態5の液晶表示装置10Eは、ルーバー31Eが信
号線14及び走査線13と平行、すなわち第2透明基板29に対して縦方向及び横方向に
形成されているので、左右方向及び上下方向への透過光が遮られることになるので、左右
方向及び上下方向の視野角を制御することができるようになる。
置10Aと同様に、透過光が遮られることが抑制され、輝度の低下を抑制しつつ、輝度の
ばらつきを抑制することができ、しかも、上下左右方向の視野角を制御した液晶表示装置
10Eとなる。また、ルーバー31Eがインセルルーバーであること、及び、カラーフィ
ルター基板28Eに遮光層32が形成されていること等により、実施形態1の液晶表示装
置10Aと同様の効果も奏することができる。なお、実施形態5の液晶表示装置10Eで
は、ルーバー31Eは1つの画素領域を取り囲むように形成した場合を説明したが、これ
に限らず、複数の画素領域を取り囲むようにしてもよい。このようにすることで、視野角
の広狭を変更することができ、要求される視野角に応じて視野角の制御を行うことができ
る。
次に、実施形態6の液晶表示装置10Fについて、図9を参照して説明する。実施形態
6の液晶表示装置10Fは、ルーバー31Fがカラーフィルター基板28Fの液晶43と
接する側と反対側の面、すなわち、カラーフィルター基板28Fの外側の面に形成されて
いる。なお、その他の部分は実施形態1の液晶表示装置10Aと共通するので、共通する
部分には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
なるルーバー31Fは、間に透明材料層30Fを挟んで、カラーフィルター基板28Fの
液晶43と接する側と反対側の面(第2透明基板29において液晶43が存在している面
とは反対側の面)、即ち、カラーフィルター基板28Fの外側の面にアレイ基板11に形
成された信号線14と平行に重畳するように形成されている。さらに、ルーバー31Fは
、信号線14と同様に等間隔に形成されている。なお、実施形態6の液晶表示装置10F
は、ルーバー31Fが信号線14と平行、すなわち基板に対して縦方向に形成されている
ので、透過光の左右方向への透過が遮られることになるので、左右方向の視野角を制御す
ることができるようになる。
ーフィルター基板28Fの外側の面に形成される、いわゆるオンセルルーバーとなる。そ
のため、カラーフィルター基板28Fは従来と変わりなく製造されることになり、ルーバ
ー31Fはこのカラーフィルター基板28F上に形成されることになる。
ー31Fが形成されないため、カラーフィルター基板28Fの表面平坦性に影響を与えな
いようにしつつ、かつルーバー31Fが形成されることによる視野角の制御を透過率の低
下を抑制し輝度の低下及びばらつきを抑制することができる。
次に、実施形態7の液晶表示装置10Gについて、図10を参照して説明する。実施形
態7の液晶表示装置10Gは、ルーバー31Gが上記実施形態5の液晶表示装置10Eと
同様に信号線14及び走査線13と平行に重畳するようにマトリクス状に形成されており
、カラーフィルター基板28Gに遮光層32が形成されていないものである。なお、その
他の構成は実施形態1の液晶表示装置10Aと共通するので、共通する部分には同一の符
号を付し、詳細な説明は省略する。
Fが、間に透明材料層30Gを挟んで、マトリクス状に形成されており、実施形態5の液
晶表示装置10Eで説明したような遮光層32は形成されていない。しかし、ルーバー3
1Gは、光吸収材料で形成されているため、透過光を遮ることができる。そのため、実施
形態7の液晶表示装置10Gによれば、ルーバー31Gを信号線14及び走査線13と平
行に重畳するようにマトリクス状に形成するので、混色を抑制する等の遮光層の役割をル
ーバー31Gが果たすことができる。そのため、実施形態7の液晶表示装置10Fによれ
ば、遮光層を形成する必要がなくなるので、安価に作製し得る電気光学装置を提供するこ
とができる。さらに、ルーバー31Gは、視野角制御の役割を果たすため、ルーバーをマ
トリクス状に形成した上記実施形態5の液晶表示装置10Eと同様の作用効果も奏するこ
とができるようになる。
た場合を説明したが、これに限らず、ルーバーは、走査線と平行に形成されていてもよく
、さらには、マトリクス状に形成されていてもよい。
、これに限らずIPS(In-Plane Switching)モードの液晶表示装置でもよく、さらには
、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、MVA(Multi
-domain Vertical Alignment)モード等の縦電界方式の液晶表示装置にも適用できる。た
だし、本発明においてはルーバーを形成する工程が必要となる。そのため、横電界方式の
ように一方の基板に画素電極及び共通電極を形成する工程であれば、他方の基板において
ルーバーを形成する工程とは別に画素電極或いは共通電極を形成する工程が更に必要にな
る、ということがないので、一方の基板と他方の基板との製造工程時間の平準化を図るこ
とができるので好ましい。
学装置である、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、無機EL表示装置、発
光ダイオード(LED)表示装置、電界放出型表示装置等、種々のものに適用することが
できる。なお上記実施形態における液晶表示装置では、アレイ基板とカラーフィルター基
板からなる一対の基板を用いた電気光学装置について説明したが、上述の他の電気光学装
置において基板を一つしか用いない場合であっても、画素領域を有する電気光学装置にル
ーバーを適用すればよい。
a:実装領域 13:走査線 14:信号線 15:ゲート絶縁膜 16:半導体層 1
7:パッシベーション膜 20:TFT 21:層間膜 22:下電極 23:電極間絶
縁膜 24:上電極 25:スリット 26:コンタクトホール 27:偏光板 28A
〜28G、28':カラーフィルター基板 29:第2透明基板 30A〜30G、3
0':透明材料層 31A〜31G、31':ルーバー 32:遮光層 33:カラーフィ
ルター層 34:オーバーコート層 35:偏光板 36:シール材 37:表示領域
38:非表示領域 39:液晶注入口 40:封止材 41:画素領域 42:ドライバ
ーIC 43:液晶 S:ソース電極 D:ドレイン電極 G:ゲート電極
Claims (5)
- 基板上に形成された複数の走査線及び信号線と、前記走査線及び信号線によって区画された複数の画素領域とを備える電気光学装置において、
互いに対向配置された第1基板及び第2基板を有し、
前記第1基板には、前記複数の走査線及び信号線が形成され、
前記第2基板の前記第1基板と対向する側には、前記画素領域の境界と、前記画素領域と平面視で重畳すると共に前記画素領域に対して等間隔となる位置と、にルーバーが等間隔に形成されている、
電気光学装置。 - 前記ルーバーは、前記走査線もしくは前記信号線の少なくとも一方と平面視で平行に形成されている、
請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記ルーバーは、前記走査線及び信号線と平面視で平行となるようにマトリクス状に形成されている、
請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記第1基板及び第2基板間には液晶層が挟持されており、
前記ルーバーは前記第2基板を構成する透明基板の表面に形成されていると共に、
前記ルーバー間には透明材料層が配置され、
前記ルーバーの表面には遮光部材が配置され、
さらに、前記透明材料層の表面及び前記遮光部材の表面にはカラーフィルター層が形成されている、
請求項2または3に記載の電気光学装置。 - 前記ルーバーは、前記第2基板に設けられる前記透明材料層と前記遮光部材との間に形成されている、
請求項4に記載の電気光学装置。
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