JP5515554B2 - 透明導電性薄膜の製造方法 - Google Patents
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Description
膜厚が1μm以上8μm以下の第1のハードコート層を設ける工程と、
膜厚が1.5μm以上10μm以下であり、前記第1のハードコート層と同じ有機物質であり、前記第1のハードコート層の膜厚より厚く、その差が0.5μm以上2.0μm以下である第2のハードコート層を設ける工程と、
前記第1のハードコート層の表面にマグネトロンスパッタリング法にて成膜した膜厚が5nm以上50nm以下で、屈折率が1.7以上2.8以下の金属酸化物層を設ける工程と、
前記金属酸化物層の表面にマグネトロンスパッタリング法にて成膜した膜厚が30nm以上100nm以下で、屈折率が1.3以上1.5以下の酸化珪素層を設ける工程と、
前記積層体の表面に酸化スズの含量3質量%以上15質量%以下のITOターゲットを用いてマグネトロンスパッタリング法にて成膜した膜厚が15nm以上40nm以下のITO層を設ける工程とを具備し、
前記ITO層をマグネトロンスパッタリング法にて成膜する際に、8.5W/cm 2 以上15W/cm 2 以下の高電力密度を印加することを特徴とする透明導電薄膜の製造方法である。
紫外線硬化型アクリル系樹脂であるユニディックV−9500(DIC社製)を用いて、188μmのPET両面にハードコート層(HC)塗工した。得られた第1のハードコート層(1)の膜厚は3μm、第2のハードコート層(2)の膜厚は4μmである。
三菱化学社製の表面抵抗測定装置Loresta HP/MCP−410を用いて抵抗値を4端子法で測定した。
150℃で1時間アニール前後シート抵抗値を測定して、その変化率を計算した。
アニール後、得られた透明導電薄膜は自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、D65、2度視野の条件下で、薄膜面について入射角5°における分光スペクトルを測定した。
アニール後、得られた透明導電薄膜はNippon DENSHOKU社製NDH−2000ヘーズメーターを使用して測定した。
アニール後、得られた透明導電薄膜は80℃、95%RHの環境下で、20日間放置した。その後、ガラス基板の上に両面テープで張り付け、透明導電薄膜の上から、ナイフで碁盤の目状に100個の切り込みを入れて、セロハン粘着テープを強く張り付けた後、90°方向に急速に剥し、透明導電薄膜剥離の有無を調べた。100目のうち剥離しない目の数をXで表示した。従って、剥離なし=100/100;剥離あり=X/100である。
アニール後の透明導電膜の裏面にポリアセタール製で先半径0.8mmのペン先を持つタッチペンを用いて、プロッターを用いて250g加重で、アからンまでのカタカナ文字を50万字筆記するテストを行った。それから、透明導電膜面のシート抵抗を測定する。ペン書き試験前後シート抵抗の変化率を計算した。
ハードコートフィルムを100mm×100mmの大きさに切断したサンプルを作製し、水平で平滑な台上にハードコート層を上にした状態で静置させた。台上から、ハードコートフィルム端部の浮き上がりを測定した:ITO面高い(+カール);HC面高い(−カール)と定義した。
(実施例1)において、ITO成膜電力密度は10.0W/cm2であり、それ以外は(実施例1)同様に操作して、透明導電薄膜を得た。(実施例2)の評価結果を(表1)に示した。
(実施例1)において、酸化ニオブと酸化珪素層なしで、ITO薄膜を直接に第1のハードコート層HC(1)の表面に成膜し、その以外は(実施例1)同様に操作し透明導電薄膜を得た。得られたサンプルはITO成膜電力密度が高いので、外観的に部分的に破損していることが観察された。よって、(比較例1)の評価は不可能になった。
(実施例1)において、酸化ニオブなしで、ITO薄膜を酸化珪素の表面に成膜し、それ以外は(実施例1)同様に操作し透明導電薄膜を得た。(比較例2)の評価結果を(表1)に示した。
(実施例1)において、電力密度が5.0W/cm2 の条件下で、ITO薄膜成膜した以外は(実施例1)同様に操作し、透明導電薄膜を得た。(比較例3)の評価結果を(表1)に示した。
(実施例1)において、電力密度を更に下げて、3.0W/cm2の条件下で、ITO薄膜成膜した以外は(実施例1)と同様に操作し透明導電薄膜を得た。(比較例4)の評価結果を(表1)に示した。
紫外線硬化型アクリル系樹脂であるユニディック V−9500(DIC社製)を用いて、188μmのPET両面にハードコート層(HC)塗工を行った。得られた第1のハードコート層(1)の膜厚は4μm、第2のハードコート層(2)の膜厚は4μmである。それ以外は(実施例1)と同様に操作し透明導電薄膜を得た。
2 第2のハードコート層
3 積層体
3−1 金属酸化物層
3−2 酸化珪素層
4 酸化インジウム・スズ(ITO)層
5 透明プラスチック基材
Claims (2)
- 透明プラスチック基材の両面に第1のハードコート層と第2のハードコート層が設けられ、前記第1のハードコート層の表面に金属酸化物層と酸化珪素層を順次に形成されている積層体の表面に、酸化インジウム・スズ(ITO)層を積層した透明導電薄膜の製造方法であって、
膜厚が1μm以上8μm以下の第1のハードコート層を設ける工程と、
膜厚が1.5μm以上10μm以下であり、前記第1のハードコート層と同じ有機物質であり、前記第1のハードコート層の膜厚より厚く、その差が0.5μm以上2.0μm以下である第2のハードコート層を設ける工程と、
前記第1のハードコート層の表面にマグネトロンスパッタリング法にて成膜した膜厚が5nm以上50nm以下で、屈折率が1.7以上2.8以下の金属酸化物層を設ける工程と、
前記金属酸化物層の表面にマグネトロンスパッタリング法にて成膜した膜厚が30nm以上100nm以下で、屈折率が1.3以上1.5以下の酸化珪素層を設ける工程と、
前記積層体の表面に酸化スズの含量3質量%以上15質量%以下のITOターゲットを用いてマグネトロンスパッタリング法にて成膜した膜厚が15nm以上40nm以下のITO層を設ける工程とを具備し、
前記ITO層をマグネトロンスパッタリング法にて成膜する際に、8.5W/cm 2 以上15W/cm 2 以下の高電力密度を印加することを特徴とする透明導電薄膜の製造方法。 - 前記金属酸化物層と酸化珪素層の積層体と、前記ITO層の成膜温度が−10℃以上50℃以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009217177A JP5515554B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 透明導電性薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009217177A JP5515554B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 透明導電性薄膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011065937A JP2011065937A (ja) | 2011-03-31 |
JP5515554B2 true JP5515554B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=43951970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009217177A Expired - Fee Related JP5515554B2 (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 透明導電性薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5515554B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104240799A (zh) * | 2014-09-28 | 2014-12-24 | 张家港康得新光电材料有限公司 | Ito透明导电膜 |
CN108998772A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-12-14 | 中国航发北京航空材料研究院 | 一种复合透明导电薄膜及其制备方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104081473A (zh) * | 2011-11-28 | 2014-10-01 | 日东电工株式会社 | 透明导电膜的制造方法 |
KR101392050B1 (ko) * | 2012-01-06 | 2014-05-07 | (주)엘지하우시스 | 시인성이 우수한 양면 투명 전도성 필름 및 그 제조 방법 |
KR20130141746A (ko) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | (주)엘지하우시스 | 내휨성 있는 투명 도전성 필름 및 그의 제조방법 |
JP6291593B2 (ja) * | 2014-11-07 | 2018-03-14 | Jx金属株式会社 | Itoスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにito透明導電膜の製造方法 |
JP7373284B2 (ja) * | 2019-02-06 | 2023-11-02 | 日東電工株式会社 | 導電フィルム、導電フィルム巻回体およびその製造方法、ならびに温度センサフィルム |
CN111505748A (zh) * | 2020-05-27 | 2020-08-07 | 江苏日久光电股份有限公司 | 一种调光膜及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0566411A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-19 | Ricoh Co Ltd | 透明導電性フイルムおよび透明導電性フイルムの製造方法 |
JPH11286066A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フイルム |
JP2001001441A (ja) * | 1999-06-23 | 2001-01-09 | Teijin Ltd | 透明導電積層体及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-09-18 JP JP2009217177A patent/JP5515554B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104240799A (zh) * | 2014-09-28 | 2014-12-24 | 张家港康得新光电材料有限公司 | Ito透明导电膜 |
CN108998772A (zh) * | 2018-07-20 | 2018-12-14 | 中国航发北京航空材料研究院 | 一种复合透明导电薄膜及其制备方法 |
CN108998772B (zh) * | 2018-07-20 | 2020-08-11 | 中国航发北京航空材料研究院 | 一种复合透明导电薄膜及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011065937A (ja) | 2011-03-31 |
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