JP5504531B2 - 金属元素の分離方法及び分離装置 - Google Patents
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Description
(1)希少金属元素等の複数の金属元素を含む原料に対して塩化揮発法により各金属元素を分離回収する場合、塩化揮発させる際の加熱温度の制御により、各金属元素の塩化揮発挙動を制御することができ、効率的に分離回収することができる。
(2)塩化揮発させる際の加熱処理を低温工程と高温工程とに分け、低温工程の後、高温工程を行うことで、原料中の金属元素を段階的に塩化揮発させることができ、効率的に金属元素を分離回収することができる。
(3)原料として光学ガラスを用いた場合、低温工程において光学ガラス中の希少金属元素の一部を塩化揮発させ、続いて高温工程で光学ガラス中の希少金属元素の一部(特に希土類元素の一部)を塩化揮発させることができ、光学ガラスに含まれる希少金属元素を選択分離することができる。
(4)塩化揮発させる際の加熱処理について、加熱保持時間を制御することで、より適切に金属元素を選択分離することができる。
第1の本発明は、複数の金属元素を含む原料を塩素雰囲気下で加熱し、原料から少なくとも一種類の金属元素を塩化物として揮発させる、第一加熱工程と、第一加熱工程の後、塩素雰囲気下で第一加熱工程よりも高い温度で原料を加熱し、原料から少なくとも一種類の金属元素を塩化物として揮発させる、第二加熱工程とを備える、金属元素の分離精製方法を提供して前記課題を解決するものである。
図1に、実施形態に係る本発明の金属元素の分離方法の各工程を示す。図1に示すように、本実施形態に係る金属元素の分離方法は、第一加熱工程(工程S1)及び第二加熱工程(工程S2)を備える。また、各加熱工程において揮発された塩化物は、第一回収工程(工程S11)や第二回収工程(S12)により固体として回収されることが好ましい。
工程S1は、複数の金属元素を含む原料を塩素雰囲気下で加熱し、当該原料から少なくとも一種類の金属元素を塩化物として揮発させる工程である。工程S1は、少なくとも塩素が流通している雰囲気下で行われ、特に塩素99vol%以上、より好ましくは99.4vol%以上の雰囲気下で行われることが望ましい。塩素濃度が高ければ高いほど、塩素化反応速度を大きくすることができる。工程S1の際は、系内において塩素ガス流通させ、系外へと連続的排出される形態とすることが好ましい。この場合の塩素の流通速度は特に限定されるものではない。尚、塩素雰囲気とするにあたり、一度不活性ガス等によって系内を清浄した後、塩素を流通させて塩素雰囲気としてもよい。
工程S2は、工程S1の後、塩素雰囲気下で工程S1よりも高い温度で原料を加熱し、当該原料から少なくとも一種類の金属元素を塩化物として揮発させる工程である。工程S2は、加熱温度を工程S1よりも高くする以外は、工程S1と同様とすればよい。
工程S11は、工程S1にて原料から揮発させた塩化物を冷却し、固体として回収する工程である。工程S11は、塩化揮発された金属元素(塩化物)を冷却して凝固させ、固体として回収可能な工程であれば特に限定されるものではない。工程S1にて塩化揮発された金属元素は、それぞれ異なる凝固温度を有しており、例えば、系内塩素流通方向の出側となるほど温度が低くなるように系内の冷却温度場を制御することで、系内の流通方向に対して、一定の分布をもって各金属元素(塩化物)を沈積させることができる。すなわち、系内の所定の箇所に、所定の金属元素(塩化物)を沈積させることができる。尚、工程S11は、沈積させた塩化物を固体としてそのまま回収するほか、溶媒等に溶解させて液体として回収する形態であってもよい。
工程S12は、工程S2にて原料から揮発させた塩化物を冷却し、固体として回収する工程である。工程S12は、上記工程S11と同様とすることができ、塩化揮発された金属元素(塩化物)を回収可能な工程であれば特に限定されるものではない。
図2(A)に、実施形態に係る本発明の金属元素の分離装置100を示す。図2(A)に示されるように、本発明の金属元素の分離装置100は、複数の金属元素を含む原料を供給する、原料供給手段1と、塩素源から原料に塩素を供給する、塩素供給手段と、塩素雰囲気下で原料を加熱処理し、当該原料から少なくとも一種類の前記金属元素を塩化物として揮発させる、第一加熱手段10と、第一加熱手段による加熱の後、残留した固体に対して、塩素雰囲気下で第一加熱手段10による加熱よりも高い温度にて加熱処理し、原料(残留固体)から少なくとも一種類の金属元素を塩化物として揮発させる、第二加熱手段20とを備えている。また、必要に応じて、第一加熱手段10と連通するように設けられた第一回収手段11、及び、第二加熱手段20と連通するように設けられた第二回収手段21を備えていてもよい。さらに、最終的に残留した固体を排出・回収するための排出手段31が備えられていてもよい。
原料供給手段1は、原料を加熱手段(図2(A)では第一加熱手段10)の内部へと供給する手段である。原料供給手段1の形態は、原料が適切に供給可能であり、加熱手段内部にて塩化揮発反応を適切に行うことができる形態であれば特に限定されるものではない。例えば、加熱手段の一部に設けられた供給口等とすることができる。原料は、作業者の手作業により投入されてもよいし、公知の供給装置等により連続的に供給されてもよい。
塩素供給手段2は、塩素源3から加熱手段内部へと塩素を供給する手段である。塩素供給手段2の形態は、加熱手段内部へと適切に塩素を供給して原料を塩化揮発させることができるような形態であれば特に限定されるものではない。例えば、塩素源3から高圧塩素ガスを噴出させ、加熱手段内部へと塩素ガスを送り込むような手段とすることができる。また、ポンプ等を用いて塩素ガスを供給しても良い。塩素供給手段2により反応系内が塩素雰囲気とされる。尚、系内の塩素ガスは、所定の速度で系内に流通させ、連続的に系外へと排出される形態であることが好ましい。
第一加熱手段10は、上記第一加熱工程S1を行うための加熱手段であり、塩素雰囲気下で原料を加熱することで、原料に含まれる金属元素の一部を塩化揮発させる手段である。第一加熱手段10内部に供給された原料は、第一加熱手段10の内部において塩素雰囲気下で加熱処理され、塩化揮発反応に供される。第一加熱手段10における塩化揮発反応の詳細や反応条件等は上記第一加熱工程S1で説明したものと同様であるので、説明を省略する。第一加熱手段10の形態は、特に限定されるものではなく、公知の加熱装置を用いることができ、例えば、固定床型、流動床型や移動床型の加熱炉等とすることができる。大量の混合物を連続的に加熱処理する観点からは、連続移動床型の加熱装置を用いることが好ましい。
第二加熱手段20は、上記第一加熱手段10によって原料に含まれる金属元素の一部を塩化揮発させた後、残留固体に対して、塩素雰囲気下で、第一加熱手段10における加熱よりも高い温度にて加熱処理を行う手段である。これにより、残留固体に含まれる金属元素の一部を塩化揮発させることができる。第二加熱手段20における塩化揮発反応の詳細や反応条件等は上記第二加熱工程S2で説明したものと同様であるので、説明を省略する。第二加熱手段20の形態は、特に限定されるものではなく、公知の加熱装置を用いることができ、例えば、固定床型、流動床型や移動床型の加熱炉等とすることができる。大量の混合物を連続的に加熱処理する観点からは、連続移動床型の加熱装置を用いることが好ましい。
第一回収手段11は、上記第一加熱手段10によって塩化揮発された金属元素(塩化物)を冷却し、固体として回収する手段である。第一回収手段11の内部は、上記第一加熱手段10における加熱温度よりも低い温度に制御されており、気体として塩化揮発された金属元素(塩化物)は、当該第一回収手段11の内部にて凝固されて固体として沈積する。すなわち、少なくとも塩化揮発された金属元素(塩化物)の回収時には、気体の流通方向は、塩素源3から第一回収手段11に向かう方向となる。この場合、特に、第一回収手段11内部の冷却温度場が所定の分布となるように(例えば、系内の流通方向出側に向かうほど、温度が低くなるように)制御することで、塩化揮発された各金属元素(塩化物)を、元素の種類に応じて、異なる箇所に沈積させることができる。尚、第一回収手段11は、沈積させた塩化物を固体としてそのまま回収する形態のほか、溶媒等に溶解させて液体として回収する形態であってもよい。
第二回収手段21は、上記第二加熱手段20によって塩化揮発された金属元素(塩化物)を冷却し、固体として回収する手段である。第二回収手段12については、塩化揮発された金属元素(塩化物)を回収可能な手段であれば特に限定されるものではなく、例えば第一回収手段11と同様の形態とすることができる。
排出手段31は、上記第一加熱手段10及び第二加熱手段20による加熱処理の後、塩化揮発されることなく残留した固体成分を取り出す手段である。排出手段31の形態は特に限定されるものではなく、例えば加熱手段の側部に設けられた排出口とすることができる。残留固体の取り出しは、作業者の手作業であってもよいし、公知の排出装置等により連続的に排出されるような形態であってもよい。
上記試料A〜Dのうち、A及びBのスラッジに関しては、多量の蒸留水を加えて分散させ、濾紙(5A)を用いて吸引濾過を行った後に、十分に乾燥させることで粉末状の資料とした。C及びDの光学ガラス材に関しては、粉砕処理を行い、−200meshに篩い分けしたものを試料としてそれぞれ用いた。粉砕後の各試料に係るSEM写真図を図3に示す。また、粉砕後の各試料に係る粒度分布及び平均粒子径を、レーザー回折・散乱式粒度分析計(マイクロトラック、日機装株式会社製)で測定した。各試料の粒度分布について図4に示す。平均粒子径については下記の通りであった。
試料A:平均粒子径27.2μm
試料B:平均粒子径41.0μm
試料C:平均粒子径47.5μm
試料D:平均粒子径35.8μm
塩化揮発実験にかかる装置図を図5に示す。反応管としては、管長920mm、内径33mmの透明石英管103を用いた。反応器温度の測定及び制御は、Cl2による腐食を防止するために、電気炉104の外部より差し込み、石英管103に接触させた熱電対105により行った。
1.試料Aについて
1.1.温度の影響
試料Aを温度300〜1000℃の範囲で加熱(加熱保持時間は0分)した結果を図6に示す。La及びGdに関しては、800℃以上の温度にてわずかながら揮発が確認された。一方、Ti及びNbは約400℃から揮発が開始され、700℃においては90質量%が揮発された。その後も揮発率は上昇し、800℃以上においてほとんど全量が揮発されることがわかった。
上記のように、温度1000℃においてもLa及びGdの揮発はほとんど確認されなかった。そこで、Laを揮発させるために温度1000℃において0〜120分の保持を行った。結果を図7に示す。保持時間を15分とした場合、Laが約60質量%、そしてごくわずかながらGdも揮発した。その後、保持時間の増大に伴って量元素の揮発が進行し、保持時間を120分とした場合、ほぼ全量(約95質量%)のLaを揮発させることができた。一方で、Gdについては20質量%以下の揮発であった。
尚、Nb及びTiについては温度1000℃において完全に揮発していた。
試料Bを温度300〜1000℃の範囲で加熱(加熱保持時間は0分)した結果を図8に示す。試料Aと同様に、La及びGdに関しては、800℃以上の温度にてわずかながら揮発が確認された。一方、Ti及びNbは約400℃から揮発が開始され、温度の上昇に伴って揮発は進行したが、1000℃においても約90質量%の揮発率に留まった。これは、試料Bの平均粒子径が試料Aと比較して大きく、揮発が進行し難かったためと考えられる。
3.1.温度の影響
試料Cを温度300〜1000℃の範囲で加熱(加熱保持時間は0分)した結果を図9に示す。Ti及びNbに関しては、これまでの試料と同様に約400℃から揮発が開始され、温度の上昇に伴って揮発は進行した。しかし、試料Bと同様に、900℃以上において約90質量%の揮発率に留まった。これは、試料Cの平均粒子径が試料Bと同様比較的大きく、揮発が進行し難かったためと考えられる。
Nb及びTiと、La及びGdとを2グループに分離することを目的とし、試料Cを温度700℃、保持時間0〜120分で加熱した結果を図10に示す。La及びGdに関しては、加熱保持時間を120分とした場合においても、揮発することなく固体として存在していることがわかる。一方、Nb及びTiの揮発率は保持時間の増加とともに増加し、120分保持でそのほとんど全量が揮発された。すなわち、加熱温度700℃で加熱保持時間120分以上とすることで、光学ガラス材料から、選択的にNb及びTiを揮発分離できることがわかった。
4.1.温度の影響
試料Dを温度300〜1000℃の範囲で加熱(加熱保持時間は0分)した結果を図11に示す。上記試料と同様に、Nbの揮発開始温度は約400℃であり、また、Taの揮発開始温度も約400℃であることがわかった。Nb及びTaは、加熱温度の上昇に伴って揮発率も増大した。TaCl5及びNbCl5の沸点はいずれも約250℃であり、双方の揮発挙動に大きな差は生じないものと予測されたが、実際は、600℃〜700℃において、その揮発挙動に差が出た。すなわち、Taの揮発がNbよりも遅いという結果となった。これは、Ta及びNbのイオン半径の違いによるものと考えられる。例えば、Kuniaki Murase et al. "Recovery of rare metals from scrap of rare earth intermetallic material by chemical vapour transport" Journal of Alloys and Compounds 217 (1995) 218-225においては、イオン半径が大きい元素ほど、塩素化反応速度が遅いことが示されている。TaはNbよりもイオン半径が大きく、これにより揮発率に差が出たものと考えられる。
Ta及びNbと、La及びGdとの2グループに分離することを目的とし、試料Dを温度700℃、加熱保持時間0〜120分で加熱した結果を図12に示す。La及びGdに関しては、加熱保持時間を120分とした場合においても、揮発することなく固体として存在していることがわかる。一方、Nb及びTaの揮発率は保持時間の増加とともに増加し、120分保持でそのほとんど全量が揮発された。すなわち、加熱温度700℃で加熱保持時間120分以上とすることで、光学ガラス材料から、選択的にNb及びTaを揮発分離できることがわかった。
各試料を加熱した際、各成分の揮発に伴って反応器出口に揮発生成物が沈着した。各試料について、それぞれ最も揮発が進行した条件(試料A:加熱温度1000℃、加熱保持時間120分、試料C及び試料D:加熱温度1000℃)における、反応器出口の沈着物について、組成分析を行った。得られた分析結果を表2に示す。
以上の結果から、光学ガラス材から目的元素を回収する場合には、下記のようなプロセスが有効であると考えられる。
試料A〜Cには、La、Gd、Nb及びTiが含有されている。試料A〜Cから各元素を分離回収するためには、図13(A)で示されるプロセスが有効であると考えられる。すなわち、まず、塩素雰囲気下で、温度700℃で加熱し、加熱保持時間を120分として、試料からNb及びTiを分離回収する。その後、改めて温度1000℃で加熱し、加熱保持時間を120分として、試料からLaを分離回収する。残留固体にはGdが含まれ、これについても回収する。このようなプロセスにより、Nb及びTiの混合物と、Laと、Gdとの3グループに分離することが可能である。
試料Dには、La、Gd、Ta及びNbが含有されている。試料Dから各元素を分離回収するためには、図13(B)で示されるプロセスが有効であると考えられる。すなわち、まず、塩素雰囲気下で、温度700℃で加熱し、加熱保持時間を120分として、試料からTa及びNbを分離回収する。その後、改めて温度1000℃で加熱し、加熱保持時間を120分として、試料からLaを分離回収する。残留固体にはGdが含まれ、これについても回収する。このようなプロセスにより、Ta及びNbの混合物と、Laと、Gdとの3グループに分離することが可能である。また、Ta及びNbの混合物については、塩化揮発挙動の違いを利用してそれぞれを分離することも可能と考えられる。
10 第一加熱手段
11 第一回収手段
20 第二加熱手段
21 第二回収手段
31 排出手段
50 加熱手段
100 分離装置
Claims (15)
- 複数の金属元素を含む原料を塩素雰囲気下で加熱し、前記原料から少なくとも一種類の前記金属元素を塩化物として揮発させる、第一加熱工程と、
前記第一加熱工程の後、塩素雰囲気下で該第一加熱工程よりも高い温度で前記原料を加熱し、該原料から、前記第1加熱工程において揮発させた金属元素とは異なる少なくとも一種類の前記金属元素を塩化物として揮発させる、第二加熱工程と、
を備える、金属元素の分離方法。 - 前記第一加熱工程にて前記原料から揮発させた前記塩化物を冷却し、固体として回収する第一回収工程と、
前記第二加熱工程にて前記原料から揮発させた前記塩化物を冷却し、固体として回収する第二回収工程と、
をさらに備える、請求項1に記載の金属元素の分離方法。 - 前記金属元素に希土類元素が含まれる、請求項1または2に記載の金属元素の分離方法。
- 前記第一加熱工程における加熱が700℃以下である、請求項3に記載の金属元素の分離方法。
- 前記第二加熱工程における加熱が700℃よりも高く1000℃以下である、請求項3又は4に記載の金属元素の分離方法。
- 前記第一加熱工程及び/又は前記第二加熱工程における加熱保持時間が120分以上である、請求項3〜5のいずれかに記載の金属元素の分離方法。
- 前記原料が光学ガラスである、請求項1〜6のいずれかに記載の金属元素の分離方法。
- 複数の金属元素を含む原料を供給する、原料供給手段と、
前記原料に塩素を供給する、塩素供給手段と、
塩素雰囲気下で前記原料を加熱し、該原料から少なくとも一種類の前記金属元素を塩化物として揮発させる、第一加熱手段と、
塩素雰囲気下で前記第一加熱手段による加熱よりも高い温度で前記原料を加熱し、該原料から、前記第1加熱工程において揮発させた金属元素とは異なる少なくとも一種類の前記金属元素を塩化物として揮発させる、第二加熱手段と、
を備える、金属元素の分離装置。 - 前記第一加熱手段にて前記原料から揮発させた前記塩化物を冷却し、固体として回収する第一回収手段と、
前記第二加熱手段にて前記原料から揮発させた前記塩化物を冷却し、固体として回収する第二回収手段と、
をさらに備える、請求項8に記載の金属元素の分離装置。 - 1の加熱手段が前記第一加熱手段及び前記第二加熱手段として機能する、請求項8又は9に記載の金属分離装置。
- 前記金属元素に希土類元素が含まれる、請求項8〜10のいずれかに記載の金属元素の分離装置。
- 前記第一加熱手段における加熱が700℃以下である、請求項11に記載の金属元素の分離装置。
- 前記第二加熱手段における加熱が700℃よりも大きく1000℃以下である、請求項11又は12に記載の金属元素の分離装置。
- 前記第一加熱手段及び/又は前記第二加熱手段による加熱保持時間が120分以上である、請求項11〜13のいずれかに記載の金属元素の分離装置。
- 前記原料が光学ガラスである、請求項8〜14のいずれかに記載の金属元素の分離装置。
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