JP5502471B2 - ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器 - Google Patents

ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器 Download PDF

Info

Publication number
JP5502471B2
JP5502471B2 JP2009521519A JP2009521519A JP5502471B2 JP 5502471 B2 JP5502471 B2 JP 5502471B2 JP 2009521519 A JP2009521519 A JP 2009521519A JP 2009521519 A JP2009521519 A JP 2009521519A JP 5502471 B2 JP5502471 B2 JP 5502471B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
self
hologram pattern
film
forming
curing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009521519A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2009004789A1 (ja
Inventor
宗一 秋本
勝之 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Seikan Kaisha Ltd
Original Assignee
Toyo Seikan Kaisha Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Seikan Kaisha Ltd filed Critical Toyo Seikan Kaisha Ltd
Priority to JP2009521519A priority Critical patent/JP5502471B2/ja
Publication of JPWO2009004789A1 publication Critical patent/JPWO2009004789A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5502471B2 publication Critical patent/JP5502471B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/32Holograms used as optical elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0252Laminate comprising a hologram layer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0252Laminate comprising a hologram layer
    • G03H1/0256Laminate comprising a hologram layer having specific functional layer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/024Hologram nature or properties
    • G03H1/0244Surface relief holograms
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • G03H2001/0264Organic recording material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • G03H2001/0284Replicating a master hologram without interference recording by moulding
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2250/00Laminate comprising a hologram layer
    • G03H2250/40Printed information overlapped with the hologram
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00Recording materials or recording processes
    • G03H2260/30Details of photosensitive recording material not otherwise provided for
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)

Description

本発明は、フィルムその他の基材上に凹凸状のホログラムパターンを形成する方法、ホログラムパターン付きフィルムの製造方法、積層フィルム、及び容器に関する。
近年、装飾を目的として、容器、包装物その他の対象物の外面にホログラムパターンを備えたものが提案されている。このホログラムパターンは、平面内に記録された干渉縞のパターンを、エンボス状又はレリーフ状をなす微細な凹凸形状としたものであって、容器外面に直接形成し、又は、別途形成したパターンを容器外面に貼着する方法が検討されている。
ホログラムパターンを容器外面に直接形成する方法としては、凹凸状のホログラムパターンが形成された金属板を対象物たる容器表面に係合させるものが提案されている。また、ホログラムパターンを別途形成する方法としては、金属薄膜からなる母型に形成された凹凸状のホログラムパターンを、熱可塑性樹脂や紫外線硬化型樹脂に加圧成形し、樹脂を硬化させた後に、容器外面に接着するものが提案されている(特許文献1〜3)。
特開平10−329831号公報 特開平11−268746号公報 特開2000−128176号公報
しかしながら、従来のホログラムパターンの形成方法では、容器外面に直接形成する場合は、容器上にパターンを形成するたびに、凹凸状のホログラムパターンが形成された金属板を消費しなければならず、製造コストが高くならざるを得なかった。また、ホログラムパターンを別途形成する場合においても、パターンを形成するたびに金属薄膜からなる母型を高温下にさらし、かつ、加圧成形に用いるため、母型の寿命が短くなりやすく、母型製造のためのコストが高いことも相俟って、ホログラムパターンの形成のためのコストが高くなっていた。さらに、母型の製造、ホログラムパターンの形成、及び、ホログラムパターン付きフィルムの接着という工程が必要となるため、製造に時間がかかり、これが容器価格の高騰につながるおそれがあった。
また、ホログラムパターンを別途形成する場合には、加圧成形された熱可塑性樹脂や紫外線硬化型樹脂を硬化させるために、既存の容器製造ラインに加熱装置や紫外線照射装置その他の新たな設備を追加しなければならないことから、さらに製造コストが引き上げられるおそれがあった。
そこで本発明は、母型にかかるコストを抑えつつ、ホログラムパターンを形成するための製造コストを低減することのできる、ホログラムパターン形成方法、及びホログラムパターン付きフィルム製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法は、フィルム基材上に自己硬化型材料を塗布する塗布工程と、OPPフィルムからなる樹脂製母型に形成された凹凸状のホログラムパターン上に、塗布工程でフィルム基材上に塗布された硬化前の自己硬化型材料を重ね合わせた後、常温下で放置、又は、50°Cから80°Cに加熱することにより自己硬化型材料を硬化させる重ね合わせ工程と、重ね合わせ工程において自己硬化型材料にホログラムパターンが転写された自己硬化型材料付きフィルムと、樹脂製母型とを剥離する剥離工程と、を備え、フィルム基材の濡れ張力が33mN/m以上であり、前記樹脂製母型の濡れ張力が30mN/m未満であり、自己硬化型材料付きフィルムと樹脂製母型とを剥離する剥離強度は、樹脂製母型の幅15mmあたり100mN未満であることを特徴としている。
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、自己硬化型材料は、含まれる物質が気化することにより硬化する材料であるとよい。
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、自己硬化型材料は、含まれる物質間の化学反応により硬化する材料であることが好ましい。
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、自己硬化型材料はイソシアネートを含むとよい
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、剥離工程において剥離された自己硬化型材料に転写されたホログラムパターンの凹凸形状に沿って、反射性材料層を形成する工程を備えることが望ましい。
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、反射性材料はアルミニウムを含み、蒸着によって反射性材料層を形成することができる。
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、剥離工程において剥離された自己硬化型材料に転写されたホログラムパターンの凹凸形状に沿って、透過性高屈折率材料層を形成する工程を備えることが好ましい。
本発明のホログラムパターン付きフィルムの形成方法において、剥離工程において剥離された自己硬化型材料上の所定範囲に塗料を塗布する塗布工程を備えることが好ましい。
本発明の容器は、上述の剥離工程において剥離された、自己硬化型材料付きフィルムを貼着してなる容器であることが好ましい。
本発明によると、母型を樹脂で形成するとともに、自己硬化型材料に凹凸状のホログラムパターンを形成することにより、母型にかかる製造コストを低減することができるとともに、容器にホログラムパターンを成形するための製造コストの上昇を抑えることができる。また、自己硬化型材料として、汎用の接着剤を用いることができるため、材料コストを低減し、開発コストを抑えることができる。さらに、樹脂を硬化させるための加熱工程や紫外線照射工程がないため、ホログラムパターン形成に関わる材料の選択肢を広げることができ、これによっても製造コストを低減することができる。
本発明の実施形態に係るホログラムパターン形成方法によってホログラムパターンが形成された容器の構成を示す部分拡大断面図である。 本発明の実施形態に係るホログラムパターン形成方法の各工程における層構成を示す断面図である。 剥離強度試験の条件及び結果を示す表である。 剥離強度試験時の各層の配置を示す概略図である。
10 樹脂製母型
10a ホログラムパターン
20 原型
20a ホログラムパターン
30 基材
31 自己硬化型材料
31a ホログラムパターン
32 接着剤層
33 蒸着層
35 ホログラムパターン付きフィルム(積層フィルム)
40 容器(対象物)
50 表面保護層
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳しく説明する。
図1は、本実施形態に係るホログラムパターン形成方法によってホログラムパターン31aが形成された容器40の外周面40aの近傍の構成を示す部分拡大断面図である。図1に示すように容器40の外周面40aには、本実施形態に係るホログラムパターン形成方法によって製造されたホログラムパターン付きフィルム35(積層フィルム)が接着固定されている。本実施形態でのホログラムパターンの視認性を維持するために、ホログラムパターン31aの凹凸形状に沿って蒸着層33を形成し、更に表面保護層50も追加形成される。
本実施形態に係るホログラムパターン形成方法、及び、ホログラムパターン付きフィルム製造方法は、図2に示すように、(1)基材30上に自己硬化型材料31を塗布する塗布工程、(2)樹脂製母型10のホログラムパターン10a上に、硬化前の自己硬化型材料31を、基材30とともに、重ね合わせる工程、(3)重ね合わせ後にホログラムパターンが転写された自己硬化型材料31と、樹脂製母型10とを剥離する剥離工程、を備え、樹脂製母型10のホログラムパターン10aを基材30上の自己硬化型材料31へ転写し、これによってホログラムパターン31aを備えた基材30を製造するものである。ここで、図2は、本実施形態に係るホログラムパターン形成方法の各工程における層構成を示す断面図である。
以下に、各工程の詳細、並びに、ホログラムパターン形成方法、及び、ホログラムパターン付きフィルム製造方法に用いる材料について、詳細に説明する。
(1)塗布工程
塗布工程では、基材30に自己硬化型材料31を塗布する。塗布は、例えば、塗布ロールによる転写、スプレーによる噴霧、スピンコートによって行うことができる。基材30は、強度、膜厚の均一性の観点からPETフィルムを用いることが好ましい。また、基材30は、ホログラムパターンの形成対象物たる容器の種類や仕様に応じて、枚葉状、ロール状の何れの形態も使用できる。
自己硬化型材料31は、含まれる物質が気化(揮発)することによって硬化する材料、又は、含まれる物質間の化学反応により硬化する材料である。ここで、含まれる物質が気化することによって硬化する材料には、気化後の物質間の化学反応によって硬化する材料を含む。
自己硬化型材料31としては、硬化剤と樹脂を溶剤に溶かした2液硬化型接着剤が好ましい。このような2液硬化型接着剤の例としては、次の(1)から(3)の混合物を挙げることができる。
(1)樹脂:ポリエステル、ウレタン、エポキシ、ポリエステルポリウレタン、ポリエステルウレタンポリオール、ウレタンポリオール、エポキシポリオール、ポリエステルエポキシ
(2)硬化剤:脂肪族イソシアネート、芳香族イソシアネート
(3)溶剤:酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール
含まれる物質が気化することによって硬化する自己硬化型材料としては、溶剤が気化するものがあり、気化する溶剤としては、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノールがある。
さらに、樹脂と硬化剤は、次の組み合わせ(A)、(B)が好ましい。
(A)樹脂:ポリエステルウレタンポリオール
硬化剤:芳香族イソシアネート
(B)樹脂:ポリエステル
硬化剤:脂肪族イソシアネート
自己硬化型材料31の塗布は次のように行う。
2液タイプであって、含まれる物質が気化することによって硬化する自己硬化型材料の場合は、まず、樹脂と硬化剤を溶剤に溶かして基材30に塗布する。次に、自己硬化型材料31に温風を吹きかけて溶剤を気化させた後に、樹脂製母型10を重ね合わせる。ここで用いる温風の温度は、例えば40℃から90℃、より好ましくは50℃から80℃であって、100℃を超えるような高温は必要ない。溶剤が気化した自己硬化型材料31は、転写されたホログラムパターン31aを損なうことなく、樹脂製母型10から剥離することができる。その後、さらに加熱すると自己硬化型材料31は完全に硬化する。このように、含まれる物質としての溶剤を気化することによって、短時間で、自己硬化型材料31が一定の形状を保持した状態となるため、樹脂製母型10を長時間に渡って重ね合わせる必要がなくなり、製造効率を高めることが可能となる。なお、樹脂製母型10の剥離は、自己硬化型材料31が完全に硬化した後に行うこともできる。また、自己硬化型材料31の溶剤を気化させた後の塗布重量は0.1g/m 以上あればよく、より好ましくは0.3から10.0g/m であった。
一方、含まれる物質間の化学反応によって硬化する自己硬化型材料の場合は、含まれる物質が気化することによって硬化する場合と同様に、まず、樹脂と硬化剤を溶剤に溶かして基材30に塗布する。次に、自己硬化型材料31に温風を吹きかけて溶剤を気化させた後に、樹脂製母型10を重ね合わせて放置する。自己硬化型材料31の特性により、放置は、20℃から70℃、より好ましくは35℃から60℃にて、半日以上、より好ましくは1日から7日の間、行い、その後、樹脂製母型10を剥離する。さらに自己硬化型材料31を完全に硬化させるために加熱しても良い。なお、溶剤は自己硬化型材料31の基材30への塗布を容易ならしめるために添加するものであって、樹脂と硬化剤の混合のみで塗布可能な場合には必ずしも添加する必要はなく、添加しない場合には樹脂製母型10との重ね合わせ前に温風を吹きかけなくても良い。また、自己硬化型材料31の溶剤を気化させた後の塗布重量は0.1g/m 以上あればよく、より好ましくは、0.3から10.0g/m であった。
以上のような2液硬化型接着剤を用いると、高温加熱や紫外線の照射が不要となるとともに、硬化後の耐熱性、耐熱水性、接着性が高いため好ましい。例えば耐熱性が高いと、飲料用を含めた食品の缶詰及びパウチに代表される、レトルト殺菌が必要な容器へ、形成されたホログラムパターン付きフィルムを使用することができる。なお、自己硬化型材料31は、高温加熱や紫外線の照射が不要であって、放置によって反応が進行して硬化するものであれば、2液タイプ以外の自己硬化型材料を用いることができる。
ここで、後の重ね合わせ工程で自己硬化型材料31を重ね合わせる樹脂製母型10の形成について説明する。樹脂製母型10は、あらかじめ凹凸状のホログラムパターン20aが形成された原型20を、母型材料の表面に対して、加熱下で押圧(熱圧成形)することにより形成する。これにより、原型20に形成された微細な凹凸状のホログラムパターン20aが、樹脂製母型10の表面にホログラムパターン10aとして転写される。樹脂製母型10は、例えば、OPPフィルム、ナイロン(商標)フィルム、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを用いることができるが、剥離性の観点からはOPPフィルムが好ましい。また、樹脂製母型10は、ホログラムパターンの形成対象物たる容器の種類や仕様に応じて、枚葉状、ロール状の何れの形態も使用できる。
樹脂製母型10の形成に用いる原型20は、公知の方法で形成することができ、例えば次のように形成する。まず、フォトレジストを塗布した乾板にレーザー干渉膜を露光して、その干渉縞の濃度に応じた凹凸のレジストパターンを形成する。次に、これに金属を蒸着して薄膜を形成して導電性を持たせ、その上にニッケルをメッキする。最後に、このメッキ層を剥離することにより、ニッケル上に微細な凹凸状のホログラムパターンが精密に転写された原型20が形成される。
(2)重ね合わせ工程
つづいて、樹脂製母型10に基材30上の自己硬化型材料31を重ね合わせて樹脂製母型10に形成されたホログラムパターン10aを自己硬化型材料31上に転写する。重ね合わせは、樹脂製母型10に形成された凹凸状のホログラムパターン10a上に、基材30上に塗布された硬化前の自己硬化型材料31が接した状態で、樹脂製母型10と基材30を互いに押圧することによって行う。押圧の圧力は、ホログラムパターンの解像度、樹脂製母型10及び自己硬化型材料31の材料特性に応じて設定する。樹脂製母型10に基材30を押圧することによって、樹脂製母型10のホログラムパターン10aが自己硬化型材料31上にホログラムパターン31aとして転写される。
自己硬化型材料31が、含まれる物質が気化することによって硬化する材料である場合は、温風を吹きかけて溶剤を気化させた自己硬化型材料31に、樹脂製母型10を重ね合わせる。溶剤を気化させた自己硬化型材料31は、残った物質間の化学反応によって硬化が完了するまでは、一定の形状を保持しつつ、重ね合わせた樹脂製母型10のホログラムパターン10aに対応した凹凸形状を定着可能な状態である。
一方、自己硬化型材料31が、含まれる物質間の反応によって硬化する材料である場合は、樹脂製母型10と自己硬化型材料31とを重ね合わせた状態を保持すると、自己硬化型材料31が硬化し、樹脂製母型10のホログラムパターン10aに対応した微細な凹凸形状が自己硬化型材料31にホログラムパターン31aとして定着する。なお、重ね合わせ工程は、常温下で行うことができるが、自己硬化型材料31の特性や、製造工程における重ね合わせ工程に許容可能な時間によっては、加熱下で行うこともできる。また、重ね合わせにおいては、例えば、樹脂製母型10と基材30を、加温したローラ対間に通すようにすると、より確実に樹脂製母型10のホログラムパターン10aを自己硬化型材料31上に転写することができるとともに、自己硬化型材料31の硬化反応を促進して重ね合わせ工程にかかる時間を削減することができる。なお、この場合のローラ対の温度は、例えば40℃から90℃、より好ましくは50℃から80℃であって、100℃を超えるような高温は必要ない。
(3)剥離工程
剥離工程においては、重ね合わせ工程において硬化した自己硬化型材料31を、基材30とともに、樹脂製母型10から剥離する。これにより、上面にホログラムパターン31aが形成された自己硬化型材料31が基材30上に積層された構成のホログラムパターン付きフィルムを取り出すことができる。なお、剥離後の樹脂製母型10は、繰り返し使用が可能である。
ここで、基材30及び樹脂製母型10の濡れ張力と剥離性との関係について行った剥離強度試験について、図3、図4を参照しつつ説明する。
図3は、剥離強度試験の条件及び結果を示す表であり、図4は、剥離強度試験時の各層の配置を示す概略図である。また、図3の(a)欄及び(b)欄は、図4の(a)及び(b)に、それぞれ対応する試験結果を示している。なお、図4においては、自己硬化型材料31の図示を省略している。
各層に用いた材料は以下の通りである(図3)。積層フィルムは幅15mmの短冊状とした。
(1)基材30:PETフィルム(厚さ12μm、濡れ張力33mN/m、36mN/m)
(2)自己硬化型材料31:LX963/KW75(大日本インキ化学工業株式会社製)
この自己硬化型材料31は、上記の(A)の組合せ、すなわち、樹脂:ポリエステルウレタンポリオールと硬化剤:芳香族イソシアネートの組み合わせにあたる。また、塗布を容易ならしめるために、溶剤として酢酸エチルを使用した。溶剤を気化させた後の塗布重量は3.6g/m とした。
(3)樹脂製母型10:OPPフィルム(厚さ20μm、濡れ張力23mN/m、30mN/m)、PETフィルム(厚さ12μm、濡れ張力33mN/m、36mN/m)の4種類
すなわち、基材30は、いずれも濡れ張力が33mN/m以上であり、樹脂製母型10は、30mN/m未満のものと、30mN/m以上のものと、を含む。
自己硬化型材料31中の硬化剤の割合は、2.5、5、10、20、30(単位PHR(per hundred resin))とし、55°C3日間の条件で硬化させた。
以上の条件で形成した積層フィルムにおいて、図4(a)に示すように、樹脂製母型10の一端を壁60に固定し、これに対応する基材30の一端に錘62を下げて放置することによって試験を行った。錘62はフィルムに剥離又は破断が起きるまで、順次重いものに変更し、このときの錘62の重量によって剥離強度を測定した。また、図4(b)に示すように、基材30の一端を壁60に固定し、これに対応する樹脂製母型10の一端に錘62を下げて放置することによって試験を行った。
測定の結果は、図3の(a)欄及び(b)欄に示すとおりであって、基材30の濡れ張力が33mN/m以上のとき、樹脂製母型10を、濡れ張力が30mN/m未満のOPPフィルムにしたモデルでは、破断することなく樹脂製母型10を剥離できた。剥離界面は全てOPPフィルムと自己硬化型材料31の境界面であった。これに対して、樹脂製母型10を、濡れ張力が30mN/m以上のOPPフィルム又はPETフィルムにしたモデルでは、フィルムが破断し、又は、きわめて大きな剥離強度を要した。したがって、樹脂製母型10の濡れ張力が小さい方が剥離性がよいことが分かった。
また、自己硬化型材料31から樹脂製母型10を剥離する剥離強度は、樹脂製母型10の幅15mmあたり100mN未満であると、樹脂製母型10を損傷させるおそれが小さいので好ましい。
次に、ホログラムパターン付きフィルム35、及び、ホログラムパターン付きフィルム35を貼着する対象物の外観デザインの向上、ホログラムパターン31aの耐久性向上その他の目的のために、ホログラムパターン31a上に蒸着を行うことが好ましい。蒸着は、ホログラムパターン31aの凹凸状のパターンに沿った層33を形成するものであって、例えば、反射性材料層、透過性高屈折率材料層を形成する。ホログラムパターン31aの凹凸状のパターンに沿って層を形成することによって、自己硬化型材料31上のホログラムパターン31aによる視覚効果を維持しつつ、外観デザインの向上や耐久性の向上を図ることができる。なお、ホログラムパターン31aの凹凸状のパターンを埋めてしまうことなく、パターンに沿って層を形成することができれば蒸着以外の方法(例えばスパッタリング)で層形成を行うことができる。以下に、ホログラムパターン31a上に形成する蒸着層について説明する。
反射性材料層は、自己硬化型材料31へ入射した光をホログラムパターン31aのパターン形状に応じて反射させるものであって、ホログラムパターン付きフィルム35、及び、ホログラムパターン付きフィルム35を貼着する対象物の外観デザインの向上に特に寄与し得るものである。反射性材料層に用いることのできる物質としては、例えばアルミニウム、ニッケル、銀がある。
一方、透過性高屈折率材料層を設けると、ホログラムパターン31aが周辺環境に影響を受けるのを防ぐことができる。さらに、例えばホログラムパターン付きフィルム35を容器表面に貼着した場合に、容器に触れる人の手についた油分その他の物質により、ホログラムパターン31aの凹凸が埋められてしまうこと、又は、ホログラムパターン31a表面が汚染されてしまうことを防止することができる。透過性高屈折率材料層に用いることのできる物質としては、蒸着後においてもホログラムパターン31aの視認性が損なわれない程度に、自己硬化型材料31の屈折率よりも20%以上、より好ましくは30%以上大きな屈折率を備える物質が好ましく、例えば、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、硫化亜鉛、ジルコニウム化合物、酸化インジウム錫(ITO)がある。
アルミニウムやニッケルの反射性材料層や、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、硫化亜鉛、ジルコニウム化合物、又は、酸化インジウム錫の透過性高屈折率材料層を、自己硬化型材料31に形成するには、蒸着が好ましい。蒸着により、ホログラムパターン31aの凹凸形状に沿って、反射性材料層や透過性高屈折率材料層の薄膜を形成した場合には、手垢による汚染や結露などの水分付着の周辺環境の影響によるホログラムパターンの視認性低下はほとんどない。反射性材料層や透過性高屈折率材料層の薄膜を形成した場合、自己硬化型材料31と同程度の屈折率の表面保護層50を付与(図1)しても、ホログラムパターンの視認性低下はほとんどない。
以上の工程で製造されたホログラムパターン付きフィルム35は、対象物たる容器40に貼着される。貼着は、例えば、基材30の自己硬化型材料31とは反対側の面に接着剤層32を形成して、この接着剤層32によって容器40の外周面へ接着することによって行う。容器40としては、例えば、缶体、プラスチック製容器、紙製容器、アルミを含む容器が挙げられる。なお、ホログラムパターン付きフィルム35は、容器以外の対象物(例えば包装物、書籍)に対して貼着することもできる。
また、自己硬化型材料31上の必要な範囲について、ホログラムパターン31aと同程度の屈折率を備えた物質(例えば塗料)を積層することによって凹凸状のパターンを埋めると、その範囲のホログラム効果を意図的に消すことができる。この現象を利用すると、ホログラムパターン31aを形成する領域を自在に設計できる。
以上のように構成されたことから、上記実施形態によれば、次の効果(1)〜(3)を奏する。
(1)母型を樹脂で形成することにより、母型にかかる製造コストを低減することができる。
(2)自己硬化型材料31にホログラムパターンを形成することにより、加熱装置や紫外線照射装置その他の新たな設備を導入する必要がなくなるため、製造コストの上昇を招くことがない。
(3)自己硬化型材料31を用いるため、ホログラムパターンを形成する材料の選択肢を広げることができる
本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。
以上のように、本発明に係るホログラムパターン形成方法、及びホログラムパターン付きフィルム製造方法は、容器、包装物その他の対象物の装飾に有用である。

Claims (9)

  1. フィルム基材上に自己硬化型材料を塗布する塗布工程と、
    OPPフィルムからなる樹脂製母型に形成された凹凸状のホログラムパターン上に、前記塗布工程で前記フィルム基材上に塗布された硬化前の自己硬化型材料を重ね合わせた後、常温下で放置、又は、50°Cから80°Cに加熱することにより前記自己硬化型材料を硬化させる重ね合わせ工程と、
    前記重ね合わせ工程において前記自己硬化型材料に前記ホログラムパターンが転写された前記自己硬化型材料付きフィルムと、前記樹脂製母型とを剥離する剥離工程と、を備え、
    前記フィルム基材の濡れ張力が33mN/m以上であり、前記樹脂製母型の濡れ張力が30mN/m未満であり、
    前記自己硬化型材料付きフィルムと前記樹脂製母型とを剥離する剥離強度は、前記樹脂製母型の幅15mmあたり100mN未満であることを特徴とするホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  2. 前記自己硬化型材料は、含まれる物質が気化することにより硬化する材料である請求項1に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  3. 前記自己硬化型材料は、含まれる物質間の化学反応により硬化する材料である請求項1に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  4. 前記自己硬化型材料はイソシアネートを含む請求項1に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  5. 前記剥離工程において剥離された前記自己硬化型材料に転写されたホログラムパターンの凹凸形状に沿って、反射性材料層を形成する工程を備える請求項1に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  6. 前記反射性材料はアルミニウムを含み、蒸着によって前記反射性材料層を形成する請求項5に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  7. 前記剥離工程において剥離された前記自己硬化型材料に転写された前記ホログラムパターンの凹凸形状に沿って、透過性高屈折率材料層を形成する工程を備える請求項1に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  8. 前記剥離工程において剥離された前記自己硬化型材料上の所定範囲に塗料を塗布する塗布工程を備える請求項に記載のホログラムパターン付きフィルムの形成方法。
  9. 請求項1に記載の前記剥離工程において剥離された、前記自己硬化型材料付きフィルムを貼着してなる容器
JP2009521519A 2007-07-03 2008-07-01 ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器 Active JP5502471B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009521519A JP5502471B2 (ja) 2007-07-03 2008-07-01 ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007175056 2007-07-03
JP2007175056 2007-07-03
PCT/JP2008/001714 WO2009004789A1 (ja) 2007-07-03 2008-07-01 ホログラムパターン形成方法、ホログラムパターン付きフィルム製造方法、積層フィルム、及び容器
JP2009521519A JP5502471B2 (ja) 2007-07-03 2008-07-01 ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009004789A1 JPWO2009004789A1 (ja) 2010-08-26
JP5502471B2 true JP5502471B2 (ja) 2014-05-28

Family

ID=40225854

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009521519A Active JP5502471B2 (ja) 2007-07-03 2008-07-01 ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20100181004A1 (ja)
EP (1) EP2166418B1 (ja)
JP (1) JP5502471B2 (ja)
KR (1) KR101482811B1 (ja)
CN (1) CN101689038B (ja)
WO (1) WO2009004789A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012153111A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Toyo Seikan Kaisha Ltd ホログラムパターン付きフィルム及びホログラムパターン付きフィルムの製造方法
JP2012220918A (ja) * 2011-04-14 2012-11-12 Kyowa Lamicoat:Kk アルミホイル製ホログラムシート材の製造方法、及び、アルミホイル製ホログラムシート材
JP5505663B2 (ja) * 2012-02-03 2014-05-28 東洋製罐株式会社 ホログラムパターン付きフィルム及びそのフィルムを用いたホログラム容器
KR101872247B1 (ko) 2015-12-30 2018-06-29 주식회사 민토시스 3d 입체 홀로그램 영상 디스플레이 용기
KR101995752B1 (ko) 2018-07-09 2019-07-03 한국기계연구원 나노마이크로 기반 회절광학소자 및 이의 형성방법

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58144877A (ja) 1982-02-23 1983-08-29 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムの複製方法
JPS61176968A (ja) * 1985-01-31 1986-08-08 Dainippon Printing Co Ltd 多重記録体
JPS61190369A (ja) * 1985-02-20 1986-08-25 Toppan Printing Co Ltd ホログラム転写箔
JPS61206976U (ja) 1985-06-17 1986-12-27
JPS63247784A (ja) * 1987-04-02 1988-10-14 Toppan Printing Co Ltd 表面にホログラムを有する成形品
JPH0232946A (ja) * 1988-07-21 1990-02-02 Ueno Hiroshi ホログラム付容器の製法
JPH05221200A (ja) 1992-02-18 1993-08-31 Toppan Printing Co Ltd レリーフパターンの複製方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0201323B1 (en) * 1985-05-07 1994-08-17 Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha Article incorporating a transparent hologramm
JP2877968B2 (ja) * 1991-01-28 1999-04-05 大日本印刷株式会社 情報記録方法及び情報記録媒体
US5300169A (en) * 1991-01-28 1994-04-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Transfer foil having reflecting layer with fine dimple pattern recorded thereon
WO1993016864A1 (en) * 1992-02-25 1993-09-02 Toray Industries, Inc. Biaxially oriented, laminated polyester film
AU8659298A (en) * 1997-07-15 1999-02-10 Spencer & Associates, Inc. Scratch-resistant, self-laminated printed materials and methods for making same
WO1999016608A1 (en) * 1997-10-01 1999-04-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Embossed oriented polymer films
JP3747426B2 (ja) * 1998-01-23 2006-02-22 大和製罐株式会社 ホログラム付き缶体
CZ286152B6 (cs) * 1998-03-13 2000-01-12 Miroslav Ing. Csc. Vlček Transparentní a semitransparentní difrakční prvky
EP2309339B1 (en) * 1999-01-19 2016-11-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Relief hologram or diffraction grating sheet and forgery-preventing sheet comprising the same
JP4774627B2 (ja) * 2001-05-18 2011-09-14 大日本印刷株式会社 エンボス加工方法
US7420005B2 (en) * 2001-06-28 2008-09-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photocurable resin composition, finely embossed pattern-forming sheet, finely embossed transfer sheet, optical article, stamper and method of forming finely embossed pattern
JP2003281791A (ja) * 2002-03-22 2003-10-03 Toshiba Corp 片面2層光ディスク及びその製造方法及び装置
US20040126669A1 (en) * 2002-08-15 2004-07-01 Ruschmann Henry W. Method for producing holographic iridescent film
KR100686999B1 (ko) * 2003-11-14 2007-02-27 기와 가가쿠 고교 가부시키가이샤 시큐리티용 재귀성 반사 시트 및 그 제조방법

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58144877A (ja) 1982-02-23 1983-08-29 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムの複製方法
JPS61176968A (ja) * 1985-01-31 1986-08-08 Dainippon Printing Co Ltd 多重記録体
JPS61190369A (ja) * 1985-02-20 1986-08-25 Toppan Printing Co Ltd ホログラム転写箔
JPS61206976U (ja) 1985-06-17 1986-12-27
JPS63247784A (ja) * 1987-04-02 1988-10-14 Toppan Printing Co Ltd 表面にホログラムを有する成形品
JPH0232946A (ja) * 1988-07-21 1990-02-02 Ueno Hiroshi ホログラム付容器の製法
JPH05221200A (ja) 1992-02-18 1993-08-31 Toppan Printing Co Ltd レリーフパターンの複製方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101689038A (zh) 2010-03-31
EP2166418A4 (en) 2011-03-30
KR101482811B1 (ko) 2015-01-14
WO2009004789A1 (ja) 2009-01-08
CN101689038B (zh) 2012-02-08
JPWO2009004789A1 (ja) 2010-08-26
EP2166418A1 (en) 2010-03-24
US20100181004A1 (en) 2010-07-22
EP2166418B1 (en) 2012-10-24
KR20100028049A (ko) 2010-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5502471B2 (ja) ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器
US20100163173A1 (en) Heat bonding film, method of manufacturing the same and heat bonding method
CN105706242B (zh) 用于oled装置的纳米结构
JP6053932B2 (ja) 微細構造を最終基板に転写するプロセス
EP2467257B1 (en) Decorative film to be attached to outside surface of home appliance and method for manufacturing the same
JP2869963B2 (ja) 接着ラベル
CN104203038B (zh) 金属箔指甲贴花
WO2016191663A1 (en) Pressure-sensitive label
US20100221645A1 (en) Film having hologram pattern and container having hologram pattern
JP5396327B2 (ja) 台紙なしラベルおよび台紙なしラベルの製造方法
TW201532811A (zh) 模內轉印箔及其製造方法、以及加飾成形品及其製造方法
US20160351082A1 (en) Pressure-Sensitive Label
WO2018235301A1 (ja) 接着剤インクを用いた転写方法、転写物、及び転写装置
JP5266541B2 (ja) ホログラムパターン付きフィルム及びホログラムパターン付き容器
CN102211441A (zh) 辊模、制造辊模的方法及采用辊模形成薄膜图案的方法
JP6011905B2 (ja) ラベルの製造方法
WO2003107308A1 (ja) シート状シールおよびその貼付方法、文字板、文字板の製造方法および時計
CN104203572A (zh) 模内转移膜和制造所述膜的方法
WO2012169998A1 (en) High-definition demetalization process
JP2021529701A (ja) 基板を装飾するシステム及び方法
TWI496694B (zh) 燙金捲材以及燙金捲材的製作方法
TW201602979A (zh) 離膜防偽貼紙及其製法
TW200415034A (en) Transfer member
JP2009226682A (ja) 積層フィルム及び容器
TWI234514B (en) Hologram heat shrink film and method for making same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110622

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110629

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121212

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130125

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130410

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20130513

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130531

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130610

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20130617

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20130802

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140313

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5502471

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150