JP5501684B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、絶縁膜が形成された後には、トレンチ内の空間に、炭素原料として不飽和炭化水素および有機シランの少なくとも一方を含む原料ガスを用いた100Pa以下の減圧下でのエピタキシャル成長によって、炭化珪素エピタキシャル層が形成される。このように100Pa以下の減圧下での成膜であるので、幅がたとえば1μm前後またはそれ以下であるような微細なトレンチに対しても、炭化珪素エピタキシャル層を制御性良く形成することができる。これによって、微細なトレンチに対して、炭化珪素エピタキシャル層で構成されるチャネル層または埋込み層などの半導体層を再現性良く形成することができる。このように微細な構造を制御性良く形成することができるので、素子特性の向上を図ることができる。
図1〜図4は、本発明の第1の参考形態における半導体装置1の製造方法を説明するための図である。図1〜図3に半導体装置1の製造途中の構造を示し、図4に半導体装置1を示す。本参考形態における半導体装置1は、炭化珪素(SiC)を用いたSiC半導体装置、より詳細にはSiCパワーデバイスである。図1〜図4では、半導体装置1のMOSFETとして動作する領域の素子構造の最小単位(以下「素子単位構造」という場合がある)、またはその製造途中の構造の断面を示している。以下、素子単位構造の製造途中の構造を含めて、「素子単位構造」という場合がある。本参考形態における半導体装置1の活性領域では、図1〜図4に示す素子単位構造が各図の紙面に向かって左右方向に折り返されて、たとえば櫛型構造または多角形構造を成すように連続している。
図5〜図10は、本発明の第1の実施の形態における半導体装置30の製造方法を説明するための図である。図5〜図9に半導体装置30の製造途中の構造を示し、図10に半導体装置30を示す。本実施の形態における半導体装置30は、前述の第1の参考形態の半導体装置1と同様に、SiCを用いたSiC半導体装置、より詳細にはSiCパワーデバイスである。図5〜図10には、半導体装置30またはその製造途中の構造におけるMOSFETとして動作する領域の素子単位構造の断面を示している。本実施の形態における半導体装置30の活性領域では、図5〜図10に示す素子単位構造が各図の紙面に向かって左右方向に折り返されて、たとえば櫛型構造または多角形構造を成すように連続している。
図11は、本発明の第2の参考形態における半導体装置30Aの素子単位構造を示す断面図である。本参考形態の半導体装置30Aは、第1の実施の形態の半導体装置30と構成が類似しているので、異なる部分についてのみ説明し、対応する部分については同一の参照符を付して、共通する説明を省略する。
Claims (5)
- 半導体層として炭化珪素層を備える半導体装置の製造方法であって、
前記炭化珪素層に形成されたトレンチの底および前記トレンチの底に近い領域に絶縁膜を形成しないで、前記トレンチの側面に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜を形成する工程の後に、前記トレンチ内の空間に、エピタキシャル成長によって炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程とを備え、
前記炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程では、
炭素原料として不飽和炭化水素および有機シランの少なくとも一方を含む原料ガスを用い、100Pa以下の減圧下で、前記エピタキシャル成長を行い、
前記絶縁膜を形成する工程では、
100Pa以下の減圧下で酸素活性種を供給することによる酸化および、100Pa以下の減圧下で酸素活性種およびシラン原料を供給することによる堆積の少なくとも一方によって、前記絶縁膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程では、
前記絶縁膜が形成されたトレンチを埋込むように、前記炭化珪素エピタキシャル層を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記絶縁膜を形成する工程と、前記炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程とを、真空一貫プロセスで行うことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁膜を形成する工程の前に、
前記トレンチの側面および底面に対して、エピタキシャル成長によって他の炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程をさらに備え、
前記他の炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程では、
炭素原料として不飽和炭化水素および有機シランの少なくとも一方を含む原料ガスを用い、100Pa以下の減圧下で、前記エピタキシャル成長を行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。 - 前記他の炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程と、前記絶縁膜を形成する工程と、前記炭化珪素エピタキシャル層を形成する工程とを、真空一貫プロセスで行うことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
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