JP5477736B2 - 粒子線照射装置 - Google Patents
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Description
第1に、ビームのエネルギを変える、すなわち違う照射深さに切り換えるスライス切り換え時であり、第2に、例えば呼気時のみビームの照射を行う呼吸同期照射時の呼吸同期ゲートOFFの時(吸気時)である。
従来のスキャニング照射法では、ビームOFF中の線量モニタの出力も実際の線量による線量出力であるとして積算している。
これを回避するためには、ビームOFF中は線量の積算を停止する必要がある。
しかしながら、ビームOFF中だからといって積算をしないことはできない。通常、この照射期間内のビームOFFは、物理的にビームシャッタ(ビーム遮断体)をビームラインに挿入する等してビームを止めるわけではなく、加速器の出射機器を停止させる、若しくは、ビームを偏向させて照射装置および患者にビームを導かないようにするという方法が採られる。
そこで、リーク電流が無視できる程度に総スポット数を少なくし、かつビームOFF中でも照射量として積算している。
このように、リーク電流を実際の粒子線の出力と見誤って制御してしまうことにより、計画に対して線量不足の領域が生じてしまう。
本発明は上記実状に鑑み、線量不足の領域が発生してしまうことを防ぎつつ、精細な線量分布形成を可能とする粒子線照射装置の提供を目的とする。
図1(a)は、スキャニング照射装置1を示す構造概念図であり、図1(b)は、スキャニング照射装置1の構成要素間の信号のやり取りを示す関係概念図である。
実施形態のスキャニング照射装置(粒子線照射装置)1は、加速器6から供給される炭素の原子核等の細い粒子線のビームを三次元的にスキャンすることによって、患者Pの腫瘍部(照射対象)P1にスポット毎に照射する装置である。
図1(a)に示すスキャニング照射装置1は、加速器6から取り出された粒子線のビームb1の上下左右に配置されビームb1の水平(X)・鉛直(Y)方向の位置を変更するビーム位置変更手段2と、ビームb1の照射量を測る線量モニタ3と、レンジシフタ(吸収体)を挿入することによりビームb1のエネルギを変化させるエネルギ変更手段4と、これらの各構成要素等を制御することで患者Pの腫瘍部P1に照射野形成を行うための制御装置5(図1(b)参照)とを備え構成されている。
上記ビーム位置変更手段2は、例えば磁界によりビームb1の水平(X)・鉛直(Y)方向の位置を変更するX・Y方向用スキャニング電磁石2a、2b(図1(a)参照)が用いられる。
上述のスキャニング照射装置1は、患者Pの腫瘍部P1の照射対象位置(スポット位置)においてビームb1のエネルギのピークが現れるように照射する。
また、制御装置5には、通常の照射線量カウンタC1に加え、別途、腫瘍部P1へのビームb1の照射を行わないように設定される非照射時の腫瘍部P1への漏れ線量などの線量の測定エラーを防ぐことを目的に、ビームOFF時(非照射時)に線量モニタ3で計測した漏れ線量(照射量)(意図しない線量)を、線量モニタ3から送信される照射量を表す信号に基づき、積算する漏れ線量カウンタ(第2のカウンタ)C2を設けている。
また、制御装置5は、スキャニング照射の各種情報を記憶するためのRAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only memory)等の記憶部5aを有している。
次に、図1(a)に示すスキャニング照射装置1によるスキャニング照射の手順について、図2に従って説明する。
なお、図2は、スキャニング照射の処理手順を示す図であり、図3は、治療計画から導かれる照射パラメータファイルfの一例を示す図である。
スキャニング照射装置1によるスキャニング照射は、前記したように、制御装置5の制御により、図2に示す手順に従って行われる。
図3に示す照射パラメータファイルfのスポットNo.f1は、スポット位置の番号を表し、Xf2は、ビームb1に垂直な面におけるX軸(水平)方向の座標(mm)を表し、Yf3は、ビームb1に垂直な面におけるX軸(水平)に垂直な軸であるY軸(鉛直)方向の座標(mm)を表している。また、照射パラメータファイルfの照射量f4は、各スポット位置の照射量(Sv/h)を表し、エネルギf5は、各スポット位置の照射深さ(エネルギ)(eV)を表している。
図2を参照して、図2のS0において、制御装置5(図1(b)参照)がビームON指令を加速器6に送り、照射を開始する。
続いて、図2のS1において、制御装置5が、治療計画に基づく照射パラメータファイルf(図3参照)のエネルギf5に従い、ビームb1の照射深さ、すなわちエネルギを加速器6(図1(b)参照)、エネルギ変更手段4を用いて設定する。
ここで、照射線量カウンタC1の積算値(積算線量)は、制御装置5において、各スポット位置毎(図3に示す照射パラメータファイルfの各X(f2)の座標、Y(f3)の座標の位置毎)に取得される。
スキャニング照射の線量が照射パラメータファイルfの照射量f4に到達していないと判定した場合(図2のS4でNo)には、図2のS4において、ビームb1の照射を継続しつつ、制御装置5が照射量(線量)が照射パラメータファイルfの照射量f4に到達したか否かの判定を継続する。
スライスが終了しない場合(図2のS6でNo)には、図2のS4に移行する。
これを順次繰り返し、そのエネルギの最後のスポットが満了になったと判定された場合(図2のS6でYes)には、図2のS7において、スライス満了として、制御装置5の制御により、ビームOFFを行う。
現在のスライスが最終スライスでないと判定された場合(図2のS8でNo)には、図2のS1において、制御装置5が照射パラメータファイルf(図3参照)のエネルギf5に従い、加速器6(図1(b)参照)、エネルギ変更手段4に変更指令を送り、スポット照射のエネルギを変更し、図2のS2以下を繰り返す。
一方、図2のS8において、現在のスライスが最終スライスであると判定された場合(図2のS8でYes)には、照射を終了する。
以上が図2に示すスキャニング照射の手順であり、照射対象の腫瘍部P1に照射野形成が実現される。
次に、図1(a)に示すスキャニング照射装置1における照射対象(腫瘍部P1)へのビーム(b1)照射時の線量および照射対象へビームb1を照射しない非照射時の漏れ線量の計測について説明する。
スキャニング照射装置1では、ビームb1照射時の線量を、通常の照射中の線量を積算する図1(b)に示す照射線量カウンタC1で積算する一方、ビームb1を照射対象(腫瘍部P1)に照射しない非照射時の漏れ線量を、図1(b)に示す漏れ線量カウンタC2で積算することとしている。このように、これら二つのカウンタC1、C2をビーム(b1)照射時と非照射時との時間で使い分けることで、より正確な漏れ線量(意図しない線量)を取得することとしている。
一方、ビームb1の非照射時(照射対象の腫瘍部P1にビームb1を照射しない時)には、図1(b)に示す制御装置5から加速器6にビームOFFの指令がなされ、図4(a)に示すように、線量モニタ3の出力がゼロとなる。例えば、図2に示すS1のスライス選択(切換え)(エネルギ切換え設定)時、若しくは、呼吸同期照射の吸気時などに、制御装置5から加速器6にビームOFF信号を送信する(図4(a)に示す時刻t1)。
このディレイd1の幅(時間)は加速器6の性能、即ちビーム遮断時間に応じて定める。通常は、約1ms(ミリ秒)程度以下である。このようなディレイd1を設けることでより、照射線量カウンタC1、漏れ線量カウンタC2を用いて、それぞれより正確な線量の測定が可能になる。
その後、時刻t3において、制御装置5(図1(b)参照)が加速器6にビームON信号を送信すると、図4(a)に示すように、照射が開始(図4(a)に示す時刻t3)されるので、図4(c)に示すように、漏れ線量カウンタC2での線量の積算を停止する一方、図4(b)に示すように、通常の線量を積算する照射線量カウンタC1にて線量を積算する。
そこで、このリーク電流による信号の積算値を事前に測定しておき制御装置5の記憶部5aに記憶しておき、該リーク電流による信号の積算値に対して有意に、図4(c)に示す漏れ線量カウンタC2の積算線量が増えた場合は、ビーム出射機器などの異常であると判断して、制御装置5がインターロック信号を出力し、インターロックを作動する制御を行う。
図5(c)に示すように、時刻t5からのディレイd2の後、時刻t6から漏れ線量カウンタC2で線量モニタ3からの信号が積算される。
上記構成によれば、線量不足の領域が発生してしまうことを防ぎつつ、照射対象に対して精細な線量分布形成が可能となる。また、照射対象へのビームb1の照射時の線量を計る通常の線量積算の照射線量カウンタC1と、照射対象へビームb1を照射しない非照射時の漏れ線量を計る漏れ線量カウンタC2との2つのカウンタを備えるので、1つのカウンタの場合に比較してカウンタの故障の確率が低減でき、信頼性の向上が可能である。
3 線量モニタ
5a 記憶部
6 加速器
b1 ビーム(粒子線)
C1 照射線量カウンタ(第1のカウンタ)
C2 漏れ線量カウンタ(第2のカウンタ)
d1 ディレイ(所定時間)
d2 ディレイ(所定時間)
P1 腫瘍部(照射対象)
Claims (4)
- 加速器から送られる粒子線を照射対象に照射する粒子線照射装置であって、
前記照射対象に照射される粒子線の照射量を測定する線量モニタと、
前記粒子線を前記照射対象に照射中の前記粒子線の線量を、前記線量モニタから送信される前記照射量の信号に基づいて、積算する第1のカウンタと、
前記粒子線を前記照射対象に照射しないように設定される非照射時の意図せず前記照射対象に照射される前記粒子線の漏れ線量を、前記照射量の信号に基づいて、積算する第2のカウンタとを
備え、
前記第1のカウンタは、前記照射対象への前記粒子線の照射停止から所定時間、前記線量の積算を継続して前記所定時間の経過後に前記線量の積算を終了し、
前記第2のカウンタは、前記照射対象への前記粒子線の照射停止から前記所定時間経過後より前記粒子線の漏れ線量の積算を開始する
ことを特徴とする粒子線照射装置。 - 前記第2のカウンタにより積算される前記非照射時の漏れ線量が所定の異常判定量を超えた場合、インターロックを作動させて、前記照射対象に対しての前記粒子線の照射を遮断する制御を行う制御部を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。 - 前記所定の異常判定量は、予め測定された前記非照射時の前記第2のカウンタに入力されるリーク電流を差し引いた量である
ことを特徴とする請求項2に記載の粒子線照射装置。 - 前記第2のカウンタで積算される前記漏れ線量は、記憶部に記憶される
ことを特徴とする請求項1から請求項3のうちの何れか一項に記載の粒子線照射装置。
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Cited By (15)
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---|---|---|---|---|
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US11624815B1 (en) | 2013-05-08 | 2023-04-11 | Ultrahaptics Ip Ltd | Method and apparatus for producing an acoustic field |
US11656686B2 (en) | 2014-09-09 | 2023-05-23 | Ultrahaptics Ip Ltd | Method and apparatus for modulating haptic feedback |
US11714492B2 (en) | 2016-08-03 | 2023-08-01 | Ultrahaptics Ip Ltd | Three-dimensional perceptions in haptic systems |
US11715453B2 (en) | 2019-12-25 | 2023-08-01 | Ultraleap Limited | Acoustic transducer structures |
US11727790B2 (en) | 2015-07-16 | 2023-08-15 | Ultrahaptics Ip Ltd | Calibration techniques in haptic systems |
US11742870B2 (en) | 2019-10-13 | 2023-08-29 | Ultraleap Limited | Reducing harmonic distortion by dithering |
US11816267B2 (en) | 2020-06-23 | 2023-11-14 | Ultraleap Limited | Features of airborne ultrasonic fields |
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US11842517B2 (en) | 2019-04-12 | 2023-12-12 | Ultrahaptics Ip Ltd | Using iterative 3D-model fitting for domain adaptation of a hand-pose-estimation neural network |
US11883847B2 (en) | 2018-05-02 | 2024-01-30 | Ultraleap Limited | Blocking plate structure for improved acoustic transmission efficiency |
US11886639B2 (en) | 2020-09-17 | 2024-01-30 | Ultraleap Limited | Ultrahapticons |
US11921928B2 (en) | 2017-11-26 | 2024-03-05 | Ultrahaptics Ip Ltd | Haptic effects from focused acoustic fields |
US11955109B2 (en) | 2016-12-13 | 2024-04-09 | Ultrahaptics Ip Ltd | Driving techniques for phased-array systems |
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9889319B2 (en) | 2014-04-10 | 2018-02-13 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam irradiation apparatus |
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002058750A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Toshiba Corp | 荷電ビーム照射方法および装置、ならびにコンピュータが読取り可能な記憶媒体 |
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11624815B1 (en) | 2013-05-08 | 2023-04-11 | Ultrahaptics Ip Ltd | Method and apparatus for producing an acoustic field |
US11768540B2 (en) | 2014-09-09 | 2023-09-26 | Ultrahaptics Ip Ltd | Method and apparatus for modulating haptic feedback |
US11656686B2 (en) | 2014-09-09 | 2023-05-23 | Ultrahaptics Ip Ltd | Method and apparatus for modulating haptic feedback |
US11830351B2 (en) | 2015-02-20 | 2023-11-28 | Ultrahaptics Ip Ltd | Algorithm improvements in a haptic system |
US11727790B2 (en) | 2015-07-16 | 2023-08-15 | Ultrahaptics Ip Ltd | Calibration techniques in haptic systems |
US11714492B2 (en) | 2016-08-03 | 2023-08-01 | Ultrahaptics Ip Ltd | Three-dimensional perceptions in haptic systems |
US11955109B2 (en) | 2016-12-13 | 2024-04-09 | Ultrahaptics Ip Ltd | Driving techniques for phased-array systems |
US11921928B2 (en) | 2017-11-26 | 2024-03-05 | Ultrahaptics Ip Ltd | Haptic effects from focused acoustic fields |
US11883847B2 (en) | 2018-05-02 | 2024-01-30 | Ultraleap Limited | Blocking plate structure for improved acoustic transmission efficiency |
US20210381765A1 (en) * | 2018-09-09 | 2021-12-09 | Ultrahaptics Ip Ltd | Ultrasonic-Assisted Liquid Manipulation |
US11740018B2 (en) * | 2018-09-09 | 2023-08-29 | Ultrahaptics Ip Ltd | Ultrasonic-assisted liquid manipulation |
US11842517B2 (en) | 2019-04-12 | 2023-12-12 | Ultrahaptics Ip Ltd | Using iterative 3D-model fitting for domain adaptation of a hand-pose-estimation neural network |
US11742870B2 (en) | 2019-10-13 | 2023-08-29 | Ultraleap Limited | Reducing harmonic distortion by dithering |
US11715453B2 (en) | 2019-12-25 | 2023-08-01 | Ultraleap Limited | Acoustic transducer structures |
US11816267B2 (en) | 2020-06-23 | 2023-11-14 | Ultraleap Limited | Features of airborne ultrasonic fields |
US11886639B2 (en) | 2020-09-17 | 2024-01-30 | Ultraleap Limited | Ultrahapticons |
US12001610B2 (en) | 2023-07-05 | 2024-06-04 | Ultrahaptics Ip Ltd | Three-dimensional perceptions in haptic systems |
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