JP5472726B2 - 配線基板、電子部品パッケージ及びこれらの製造方法 - Google Patents
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Description
(1) 基材上に設けられた導体パターンを備える複数の配線層と、これらの複数の配線層を電気的に絶縁する基材とを有する配線基板において、前記複数の配線層のうち、最も外側の配線層では、前記導体パターンが、電子部品を搭載する電極と、前記電極を取り囲む枠状導体とを有し、前記枠状導体の内側では、導体パターンが設けられていない部分の基材上に、白色顔料を含有する樹脂組成物である反射材が前記導体パターンの間隙を充填するように形成され、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とが面一とされ且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面が前記反射材から露出される配線基板。
(2) 上記(1)において、反射材が、熱硬化性樹脂と、白色顔料とを含有する樹脂組成物である配線基板。
(3) 上記(1)又は(2)において、反射材の厚さが、10μm〜50μmである配線基板。
(4) 上記(1)から(3)の何れかにおいて、導体パターン上に金めっき又は銀めっきによる反射層が形成される配線基板。
(5) 上記(1)から(4)の何れかにおいて、導体パターンと反射材が、何れも420±10nm〜800±10nmの何れかの波長の光に対して70%以上の反射率を有する配線基板。
(6) 上記(1)から(5)の何れかにおいて、反射材の表面が、平均粗さRaで0.3μm〜7μmの凹凸を有する配線基板。
(7) 上記(1)から(6)の何れかにおいて、最も外側の配線層の反射材に、上方に開口した凹部が設けられる配線基板。
(8) 上記(1)から(7)の何れかの配線基板を用い、導体パターンに形成された電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記電極及び電子部品を封止して形成した電子部品パッケージ。
(9) 複数の配線層のうち最も外側の配線層に、電子部品を搭載する電極と、前記電極を取り囲む枠状導体とを有する導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンが設けられていない部分の基材上に、前記導体パターンの間隙を充填するように、白色顔料を含有する樹脂組成物である反射材を形成する工程と、前記導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程と、を有する配線基板の製造方法。
(10) 上記(9)又は(10)において、さらに、導体パターン上に金めっき又は銀めっきによる反射層を形成する工程と、を有する配線基板の製造方法。
(11) 上記(9)又は(10)において、さらに、反射材に、上方に開口した凹部を形成する工程と、を有する配線基板の製造方法。
(12) 複数の配線層のうち最も外側の配線層に、電子部品を搭載する電極と、前記電極を取り囲む枠状導体とを有する導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンが設けられていない部分の基材上に、前記導体パターンの間隙を充填するように、白色顔料を含有する樹脂組成物である反射材を形成する工程と、前記導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程と、前記導電パターンの電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記導体パターン及び電子部品を封止する工程と、を有する電子部品パッケージの製造方法。
(13) 上記(12)において、導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程の後に、導体パターン上に金めっき又は銀めっきによる反射層を形成する工程と、前記導電パターンの電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記導体パターン及び電子部品を封止する工程と、を有する電子部品パッケージの製造方法。
(14) 上記(12)において、導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程の後に、前記反射材に、上方に開口した凹部を形成する工程と、前記導電パターンの電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記導体パターン及び電子部品を封止する工程と、を有する電子部品パッケージの製造方法。
図5の工程(d)、(e)において、レーザ孔内を含む基材8の全面に、厚さ15μmの電気銅めっきを形成し、基材8の表面に形成された導体パターン2の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、約19μmであった。また、図6の工程(g)において、研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約14μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図5の工程(d)、(e)において、レーザ孔内を含む基材8の全面に、厚さ30μmの電気銅めっきを形成し、基材8の表面に形成された導体パターン2の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、約33μmであった。また、図6の工程(g)において、研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約28μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図5の工程(d)、(e)において、レーザ孔内を含む基材8の全面に、厚さ50μmの電気銅めっきを形成し、基材8の表面に形成された導体パターン2の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、約53μmであった。また、図6の工程(g)において、研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約47μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図6の工程(g)において、反射材4表面のバフロールを用いた機械研磨の際に、バフロールとして#600、#800、#1000、#2000をこの順に用いた。研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約18μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図6の工程(g)において、反射材4表面のバフロールを用いた機械研磨の際に、バフロールとして#600、#800をこの順に用いた。研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約20μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図6の工程(h)に示すように、導体パターン全体に対して無電解ニッケル−金めっきと電解金めっきを行い、反射層7を形成した。研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約20μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板を作製した。
図6の工程(f)において、導体パターン2を含む基材8の表面全体に、印刷で塗布する液状の反射材4として、反射材Bを用いた。この反射材Bは、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)として脂環式エポキシ樹脂であるセロキサイド2021P(ダイセル化学工業株式会社製、商品名)100質量部と、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500F、日立化成工業株式会社製)120質量部と、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)410質量部と、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部とを混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件でロール混練して作製した。得られた白色の液状反射材4の粘度は、25℃で8Pa・sであった。また、図6の工程(g)において、研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約18μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして配線基板1を作製した。
図6の工程(f)において、導体パターン2を含む基材8の表面全体に、印刷で塗布する液状の反射材4として、反射材Cを用いた。この反射材Cは、トリグリシジルイソシアヌレート(商品名:TEPIC−S、日産化学工業株式会社製)50質量部と、セロキサイド2021P(ダイセル化学工業株式会社製、商品名)50質量部と、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(商品名:HN−5500F、日立化成工業株式会社製)135質量部と、酸化チタン(商品名:FTR−700、堺化学工業株式会社製)440質量部と、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート(商品名:PX−4ET、日本化学工業株式会社製)1.5質量部とを混合し、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件でロール混練し、白色の液状反射材4を作製した。得られた白色の液状反射材4の粘度は、25℃で12Pa・sであった。また、図6の工程(g)において、研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約21μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図6の工程(f)において、導体パターン2及び基材8上に反射材4を塗布せず、基材8が露出したままとした。導体パターン2の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約23μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図5の工程(d)、(e)において、レーザ孔21内を含む基材8の全面に、厚さ10μmの電気銅めっきを形成し、基材8の表面に形成された導体パターン2の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、約13μmであった。また、図6の工程(g)において、研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約8μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図6の工程(f)において、導体パターン2を含む基材8の表面全体に、液状の反射材4を印刷により塗布した。液状の反射材4は、反射材Aを用いた。次に、熱風循環炉内で150℃、2時間加熱硬化して導体パターン2を含む基材8の表面全体に反射材4を形成した。次に、図6の工程(g)において、研磨を行なわず、熱硬化したままとした。このため、導体パターン2を含む基材8の表面全体に反射材4が形成され、導体パターン2は露出しなかった。また、導体パターン2の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、約23μmであり、その近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約24μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図6の工程(g)において、反射材4表面のバフロールを用いた機械研磨の際に、バフロールとして#600、#800、#1000、#1500、#2000をこの順に用いた。研磨後の導体パターン2及びその近傍の反射材4の厚さは、配線基板1の四隅と中央の平均で、何れも約18μmであった。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
図8に示すように、内層用の基材16上の内層の配線層22にレーザを受ける導体パターン26を設け、上方に開口した凹部24を設ける位置の基材8上の配線層14に窓孔25を形成しておき、レーザー加工機を用いて、コンフォーマル工法により、反射材4と基材8を貫通し、導体パターン26に到る凹部24を形成した。これ以外は、実施例1と同様にして、配線基板1を作製した。
導体パターン及びその近傍の反射材の厚さは、断面を観察して測定し、配線基板の四隅と中央の5点について平均値を求めた。
表面粗さは、JIS C 6481において規定される平均粗さRaであり、触針式表面粗さ計サーフテストSV−400(株式会社ミツトヨ社製、商品名)を用いて測定した。
反射材及び反射層の反射率は、420±10nm〜800±10nmを含む波長域について、分光測色計(商品名:CM−508d、ミノルタ株式会社製)を用いて測定した。また、この測定結果から、420±10nm、460±10nm、550±10nm、660±10nm、800±10nmの波長での反射率を読み取った(表1には、それぞれの波長を、420、460、550、660、800と表記した)。
反射材を形成した基板上に、封止用エポキシ樹脂組成物を円柱状(直径3.6mm)に成形し、Dage Precision Industries社製ボンドテスターを用いて密着強度を測定した。
Claims (14)
- 基材上に設けられた導体パターンを備える複数の配線層と、これらの複数の配線層を電気的に絶縁する基材とを有する配線基板において、
前記複数の配線層のうち、最も外側の配線層では、前記導体パターンが、電子部品を搭載する電極と、前記電極を取り囲む枠状導体とを有し、
前記枠状導体の内側では、導体パターンが設けられていない部分の基材上に、白色顔料を含有する樹脂組成物である反射材が前記導体パターンの間隙を充填するように形成され、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とが面一とされ且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面が前記反射材から露出される配線基板。 - 請求項1において、
反射材が、熱硬化性樹脂と、白色顔料とを含有する樹脂組成物である配線基板。 - 請求項1又は2において、
反射材の厚さが、10μm〜50μmである配線基板。 - 請求項1から3の何れかにおいて、
導体パターン上に金めっき又は銀めっきによる反射層が形成される配線基板。 - 請求項1から4の何れかにおいて、
導体パターンと反射材が、何れも420±10nm〜800±10nmの何れかの波長の光に対して70%以上の反射率を有する配線基板。 - 請求項1から5の何れかにおいて、
反射材の表面が、平均粗さRaで0.3μm〜7μmの凹凸を有する配線基板。 - 請求項1〜6の何れかにおいて、
最も外側の配線層の反射材に、上方に開口した凹部が設けられる配線基板。 - 請求項1から7の何れかの配線基板を用い、導体パターンに形成された電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記電極及び電子部品を封止して形成した電子部品パッケージ。
- 複数の配線層のうち最も外側の配線層に、電子部品を搭載する電極と、前記電極を取り囲む枠状導体とを有する導体パターンを形成する工程と、
前記導体パターンが設けられていない部分の基材上に、前記導体パターンの間隙を充填するように、白色顔料を含有する樹脂組成物である反射材を形成する工程と、
前記導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程と、を有する配線基板の製造方法。 - 請求項9において、
さらに、導体パターン上に金めっき又は銀めっきによる反射層を形成する工程と、を有する配線基板の製造方法。 - 請求項9又は10において、
さらに、反射材に、上方に開口した凹部を形成する工程と、を有する配線基板の製造方法。 - 複数の配線層のうち最も外側の配線層に、電子部品を搭載する電極と、前記電極を取り囲む枠状導体とを有する導体パターンを形成する工程と、
前記導体パターンが設けられていない部分の基材上に、前記導体パターンの間隙を充填するように、白色顔料を含有する樹脂組成物である反射材を形成する工程と、
前記導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程と、
前記導電パターンの電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記導体パターン及び電子部品を封止する工程と、を有する電子部品パッケージの製造方法。 - 請求項12において、
導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程の後に、
さらに、導体パターン上に金めっき又は銀めっきによる反射層を形成する工程と、
前記導電パターンの電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記導体パターン及び電子部品を封止する工程と、を有する電子部品パッケージの製造方法。 - 請求項12において、
導体パターンと反射材とを一括で研磨することで、前記反射材の表面と前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面とを面一とし且つ前記導体パターンである前記電極及び枠状導体の表面を前記反射材から露出する工程の後に、
前記反射材に、上方に開口した凹部を形成する工程と、
前記導電パターンの電極に電子部品を搭載し、封止材を用いて前記導体パターン及び電子部品を封止する工程と、を有する電子部品パッケージの製造方法。
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