JP5471222B2 - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
[発明の実施の形態1]
[発明の実施の形態2]
10 露光装置
20,40 グレースケールマスク
21,41 グレースケールパターン
22,42 転写1回分の転写元領域
23,43 転写元部
24,44 非転写元部
30,50 レジスト層
31,51 レジスト層の必要範囲
32,52 転写1回分の被転写範囲
33,53 転写先部
34,54 非転写先部
Claims (6)
- グレースケールマスクに形成されたグレースケールパターンを、光学基材上に設けたレジスト層に、被転写範囲をずらしながら複数回転写して、前記レジスト層の必要範囲への転写を行い、その後、前記レジスト層の現像を行って該レジスト層に光学素子の表面形状に対応した形状を形成する工程を有する光学素子の製造方法において、
前記グレースケールマスクにおける前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域は、前記レジスト層に前記グレースケールパターンを転写する転写元部と、前記レジスト層に前記グレースケールパターンを転写しない非転写元部とが混在した構成となっており、
当該構成の前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域による前記レジスト層における転写1回分の被転写範囲は、前記転写元部に対応して前記グレースケールパターンが転写される転写先部と、前記非転写元部に対応して前記グレースケールパターンが転写されない非転写先部とが混在した構成となり、
前記レジスト層に前記グレースケールパターンを前記被転写範囲をずらしながら複数回転写する際に、以前の回の転写時に転写1回分の転写元領域における前記非転写元部が対応して前記グレースケールパターンが転写されていない前記レジスト層の非転写先部に、その後の回の転写時に転写1回分の転写元領域における前記転写元部が対応して当該非転写先部に前記グレースケールパターンが転写されて転写先部となり、これを順次行うことで、前記レジスト層の前記必要範囲全体への前記グレースケールパターンの転写を行うことを特徴とすることを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域には、前記非転写元部によって複数の前記転写元部が互いに隔てられた構成となっている箇所を有することを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。
- 前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域には、前記非転写元部によって複数の線状の前記転写元部が互いに隔てられた構成となっている箇所を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の光学素子の製造方法。
- 前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域には、前記非転写元部によって複数の点状の前記転写元部が互いに隔てられた構成となっている箇所を有することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一つに記載の光学素子の製造方法。
- 前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域には、前記非転写元部によって前記転写元部が不規則的な虫食い状の構成となっている箇所を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一つに記載の光学素子の製造方法。
- 前記グレースケールパターンの転写1回分の転写元領域には、前記非転写元部によって前記転写元部が規則的な形状となっている箇所を有することを特徴とする請求項1乃至5の何れか一つに記載の光学素子の製造方法。
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