JP5450358B2 - 封止成型方法 - Google Patents
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Description
〔1〕 封止樹脂を含有する封止樹脂層と蛍光体を含有する蛍光体層が積層された光半導体封止シートを光半導体素子の上に配置後、該光半導体封止シートを囲むように中間型を配置して、その上方から上型を用いてプレス封止成型する方法であって、前記中間型が該光半導体封止シートと面する側に溝部を有することを特徴とする封止成型方法、及び
〔2〕 封止樹脂を含有する封止樹脂層と蛍光体を含有する蛍光体層が積層された光半導体封止シートを光半導体素子の上に積層後、該光半導体封止シートを囲むように中間型を配置して、その上方から上型を用いてプレス成型する、光半導体装置の製造方法であって、前記中間型が該光半導体封止シートと面する側に溝部を有することを特徴とする、光半導体装置の製造方法
に関する。
態様A:LEDチップが一つ搭載された基板上に、セパレーター付き光半導体封止シートを封止樹脂層がLEDチップに対向するように配置し、該光半導体封止シートと同等の厚みと大きさを有する空孔をくり貫いた中間型を光半導体封止シートの周囲に配置し、上型を用いてプレス成型後、上型と中間型を取り除いて、セパレーターを剥離する態様(図5参照)
態様B:LEDチップが複数個搭載された基板上に、個々のLEDチップに対して、セパレーター付き光半導体封止シートを封止樹脂層がLEDチップに対向するようにそれぞれ配置し、該光半導体封止シートと同等の厚みと大きさを有する空孔をくり貫いた中間型を光半導体封止シートの周囲に配置し、上型を用いてプレス成型後、上型と中間型を取り除いて、セパレーターを剥離する態様(図6参照)
態様C:LEDチップが複数個搭載された基板上に、複数のLEDチップに対して1枚のセパレーター付き光半導体封止シートを封止樹脂層がLEDチップに対向するように配置し、該光半導体封止シートと同等の厚みと大きさを有する空孔をくり貫いた中間型を光半導体封止シートの周囲に配置し、上型を用いてプレス成型後、上型と中間型を取り除いて、セパレーターを剥離する態様(図7参照)
両末端シラノール型シリコーンオイル(信越化学工業社製、商品名「KF-9701」、平均分子量3000)600g(0.200mol)、及びアルミニウムイソプロポキシド8.22g(40.2mol)を、室温(25℃)で24時間攪拌混合した。その後、得られた混合物を遠心分離して不溶物を除去し、減圧下、50℃で2時間濃縮して、ポリアルミノシロキサンオイルを得た。得られたポリアルミノシロキサンオイル100重量部に対して、メタクリル型シランカップリング剤(信越化学工業社製、KBM-503)10重量部を添加して、減圧下、80℃で10分間攪拌して、メタクリル変性ポリアルミノシロキサン(シリカ非含有樹脂溶液)を得た。
封止樹脂層(封止樹脂層構成溶液)の調製例1において得られたメタクリル変性ポリアルミノシロキサンに、シリカ微粒子を50重量%となるように添加混合して、シリカ含有メタクリル変性ポリアルミノシロキサン(シリカ含有樹脂溶液)を得た。
シリコーンエラストマー(旭化成ワッカー社製、商品名「LR7665」、ジメチルシロキサン骨格誘導体)溶液に、黄色蛍光体(α-サイアロン)を粒子濃度26重量%となるように添加し1時間攪拌した。得られた溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(ニッパ社製、商品名「SS4C」、厚み50μm)上に100μmの厚みに塗工し、100℃で10分乾燥することにより、セパレーター上に積層された蛍光体層(セパレーター一体型蛍光体層)を得た。
(光半導体封止シート)
セパレーター一体型蛍光体層の上にシリカ非含有樹脂溶液を850μmの厚みに塗工し、135℃で10分乾燥することにより光半導体封止シートを得た(厚み1000μm)。得られたシートは8mm×8mmの大きさに切断して用いた。
50mm×50mm、高さ0.9mmのSUS製の中間型に、8.2mm×8.2mm、高さ0.9mmの穴を1個くり貫き、該穴の上部に幅2mm、溝の深さ200μm、高さ10mm、断面形状が楕円形の溝部を4個形成して用いた。
LEDチップが1個搭載された基板上に、得られた光半導体封止シートを封止樹脂層がLEDチップと対向するように配置し、中間型でこれを囲み、上型を配置し、160℃、0.1MPaの条件で5分間成型した。その後、封止樹脂層が室温下においても形状が変化しなくなるまで放置後、中間型、上型、セパレーターを順に剥離して、光半導体装置を製造した。
(光半導体封止シート)
実施例1と同様の光半導体封止シート(8mm×8mm)を4枚用いた。
80mm×80mm、高さ0.9mmのSUS製の中間型に、8.2mm×8.2mm、高さ0.9mmの穴を4個くり貫き、各穴の上部に幅2mm、溝の深さ400μm、高さ10mm、断面形状が楕円形の溝部を1個形成して用いた。
LEDチップが4個搭載された基板上に、得られた光半導体封止シートを封止樹脂層がLEDチップと対向するようにそれぞれ配置し、中間型でこれを囲み、上型を配置し、160℃、0.1MPaの条件で5分間成型した。その後、封止樹脂層が室温下においても形状が変化しなくなるまで放置後、中間型、上型、セパレーターを順に剥離して、光半導体装置を製造した。
(光半導体封止シート)
実施例1と同様にして調製した光半導体封止シートを、20mm×20mmの大きさに切断して用いた。
50mm×50mm、高さ0.9mmのSUS製の中間型に、22mm×22mm、高さ0.9mmの穴を1個くり貫き、該穴の上部に幅2mm、溝の深さ200μm、高さ10mm、断面形状が楕円形の溝部を4個形成して用いた。
LEDチップが4個搭載された基板上に、得られた光半導体封止シートを封止樹脂層がLEDチップ全てを覆うように配置する以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
実施例1において、シリカ非含有樹脂溶液を用いる代わりに、シリカ含有樹脂溶液を用いた以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
実施例1において、中間型に形成される空孔1個あたりの溝部の個数を4個から1個に変更する以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
実施例1において、中間型に形成される空孔の大きさを8.2mm×8.2mmから10mm×10mmに変更する以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
LEDチップが1個搭載された基板上に、ポッティング樹脂として、シリコーン樹脂3mgをLEDチップ及びその周辺ワイヤー部に滴下して保護を行う以外は、実施例1と同様にして光半導体装置を製造した。
実施例1において、中間型に形成される溝部の深さを200μmから400μmに変更する以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
実施例1において、中間型に形成される溝部の位置が上部から下部に変更する以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
実施例1において、溝部が形成されていない中間型を用いる以外は、実施例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
比較例1において、中間型に形成される空孔の大きさを8.2mm×8.2mmから11mm×11mmに変更する以外は、比較例1と同様にして、光半導体装置を製造した。
成型後の光半導体装置において、樹脂漏れが確認されるか否かを目視により観察し、樹脂漏れが大量に確認される場合を「×」、僅かに確認される場合を「△」、確認されない場合を「○」とした。
2 溝部
3 上型
4 セパレーター
5 封止樹脂層
6 光半導体素子
7 基板
8 蛍光体層
9 溝部にはみ出して除去される樹脂
10 成型されたはみ出した樹脂
11 パッケージ外部にはみ出した樹脂
Claims (2)
- 封止樹脂を含有する封止樹脂層と蛍光体を含有する蛍光体層が積層された光半導体封止シートを光半導体素子の上に配置後、該光半導体封止シートを囲むように中間型を配置して、その上方から上型を用いてプレス封止成型する方法であって、前記中間型が該光半導体封止シートと面する側に溝部を有することを特徴とする封止成型方法。
- 封止樹脂を含有する封止樹脂層と蛍光体を含有する蛍光体層が積層された光半導体封止シートを光半導体素子の上に積層後、該光半導体封止シートを囲むように中間型を配置して、その上方から上型を用いてプレス成型する、光半導体装置の製造方法であって、前記中間型が該光半導体封止シートと面する側に溝部を有することを特徴とする、光半導体装置の製造方法。
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