JP5429134B2 - ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法 - Google Patents
ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims description 14
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 80
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 54
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 claims description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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Description
図1は、この発明を実施するための実施の形態1におけるガスレーザ発振器の構成を示すものである。図1において、レーザ発振器の筐体11内部に、レーザ発振光軸1を挟んで一対の放電電極2、3が対向して配置され、またこれらの電極間の放電空間6の両端には、前記レーザ発振光軸1上に一対の共振器ミラー4、5が対向して配置されており、これらにより共振器が構成されている。共振器ミラー4,5は、筐体11の側面にて保持され、下側の放電電極3は上下方向に伸縮自在な第1の電極支持部材12と第2の電極支持部材13を介して、レーザ発振光軸方向の両端部を筐体10に保持されている。この2つの電極支持部材12,13の高さをそれぞれ調整することで、レーザ発振光軸1に対する下側の電極3の傾きを調整する。ここでの傾きとは、2つの放電電極の対向する面(図1においては、下側の電極3の上面若しくは上側の電極2の下面)とレーザ発振光軸1との傾きとなる。上側の電極2は、図示しない部材を介して下側の電極3により支持されている。
よって、
となるように電極の傾け量θを設定することで、共振器ミラー4の中心から上側の電極2の中央部に向かって出発する軸外光路については、寄生発振を防ぐことができる。例えば、C=15mm、Lr=2000mm、WAP=10mm、LAP=100mmであったとすると、電極2、3をレーザ発振光軸1に対して0.74mrad以上傾けることにより、上記の場合の寄生発振を完全に防ぐことが可能である。
この式よりθの最大値を求め、放電電極2,3の組み立て精度等を考慮したマージンを加味した値を設計値とし、放電電極2,3の傾け量は、この設計値以下とすることで、製品としてレーザビームが放電電極に当たることを防止できる。
図5は、この発明を実施するための実施の形態2における放電電極2、3をレーザ発振光軸1に対して所定寸法傾けて配置するための電極配置位置の調整方法の概念図である。また、図6は、電極位置調整用治具21、22の概要を示す図である。図5に示したように、レーザ発振器の外部に可視光源25を設置し、可視光源25から出射された可視光26を、部分反射鏡である共振器ミラー4からレーザ発振器内部に入射する。そして、可視光26の中心がアパーチャ7、8の中心を通るように可視光26の光路を調整する。これにより、可視光26の光路とレーザ発振光軸1が一致する。
2 上側の放電電極
3 下側の放電電極
4 共振器ミラー(部分反射ミラー)
5 共振器ミラー(全反射ミラー)
6 放電空間
7、8 アパーチャ
9 軸外光路
11 筐体
12 第1の電極支持部材
13 第2の電極支持部材
14,15 アパーチャ支持部材
16 アクリル板
17 本来のレーザ発振光軸上のレーザビームパターン
18 軸外光路によるレーザビームパターン
21 第1の電極位置調整治具
22 第2の電極位置調整治具
23 穴
24 印
25 可視光源
26 可視光
31、32 支持板
33 レーザビーム通過穴
34 長穴
35 ネジ
Claims (4)
- レーザ媒質ガスを放電励起する一対の放電電極と、
前記一対の放電電極の間の放電空間を挟んで対向して配置される全反射ミラーと部分反射
ミラーとからなる一対の共振器ミラーと、
前記一対の共振器ミラーの放電空間側に配置され発振領域を限定するアパーチャとを備え
、
前記アパーチャの穴の中心にて規定されるレーザ発振光軸に対し、寄生発振が発生しない
ように前記一対の放電電極を所定の角度傾け、
前記放電電極は放電空間側の面が互いに平行であることを特徴とする
ガスレーザ発振器。 - レーザ媒質ガスを放電励起する一対の放電電極と、
前記一対の放電電極の間の放電空間を挟んで対向して配置される全反射ミラーと部分反射
ミラーとからなる一対の共振器ミラーと、
前記一対の共振器ミラーの放電空間側に配置され発振領域を限定するアパーチャとを備え
たガスレーザ発振器において、
前記アパーチャの穴の中心にて規定されるレーザ発振光軸に対して、前記一対の放電電極
の傾き角度を変化させ、寄生発振が発生しない角度を求める工程と、
当該角度に基づいて、レーザ発振光軸に対する前記一対の放電電極の傾き角度を調整する
工程とを備え、
前記放電電極の放電空間側の面を互いに平行とすることを含むガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法。 - レーザ媒質ガスを放電励起する一対の放電電極と、
前記一対の放電電極の間の放電空間を挟んで対向して配置される全反射ミラーと部分反射
ミラーとからなる一対の共振器ミラーと、
前記一対の共振器ミラーの放電空間側に配置され発振領域を限定するアパーチャとを備え
たガスレーザ発振器において、
前記アパーチャの穴の中心にて規定されるレーザ発振光軸に対して、前記一対の放電電極
の傾き角度を変化させ、寄生発振が発生しない角度を予め求め、当該角度に基づいて、レ
ーザ発振光軸に対する前記一対の放電電極の傾き角度を調整し、
前記放電電極の放電空間側の面を互いに平行とすることを含むガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法。 - レーザ媒質ガスを放電励起する一対の放電電極と、
前記一対の放電電極の間の放電空間を挟んで対向して配置される全反射ミラーと部分反射
ミラーとからなる一対の共振器ミラーと、
前記一対の共振器ミラーの放電空間側に配置され発振領域を限定するアパーチャとを備え
たガスレーザ発振器において、
前記アパーチャの穴の中心にて規定されるレーザ発振光軸に対する前記一対の放電電極の
傾き角度を、寄生発振が発生しないように調整し
前記放電電極の放電空間側の面を互いに平行とすることを含むガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010242027A JP5429134B2 (ja) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010242027A JP5429134B2 (ja) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012094750A JP2012094750A (ja) | 2012-05-17 |
JP5429134B2 true JP5429134B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=46387756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010242027A Active JP5429134B2 (ja) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5429134B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017075735A1 (zh) * | 2015-11-03 | 2017-05-11 | 徐海军 | 负极板两端支撑在平行支架上的射频激光器 |
CN108205184B (zh) * | 2017-12-28 | 2019-09-20 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种集成化摆镜装调方法 |
JP2022124072A (ja) | 2021-02-15 | 2022-08-25 | 住友重機械工業株式会社 | ガスレーザ発振器 |
CN113791396A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-12-14 | 长沙湘计海盾科技有限公司 | 基于光谐振腔的大规模激光雷达阵列微单元及制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8610693U1 (ja) * | 1986-04-18 | 1987-08-13 | Rofin-Sinar Laser Gmbh, 2000 Hamburg, De | |
JP2757198B2 (ja) * | 1989-01-30 | 1998-05-25 | 三菱電機株式会社 | ガスレーザ装置 |
JPH0629592A (ja) * | 1991-06-10 | 1994-02-04 | Komatsu Ltd | 放電励起レ−ザ装置 |
JPH07142795A (ja) * | 1993-11-17 | 1995-06-02 | Okuma Mach Works Ltd | レーザ発振装置 |
JPH08139390A (ja) * | 1994-11-09 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | ガスレーザ装置 |
JPH09307158A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ発振装置 |
-
2010
- 2010-10-28 JP JP2010242027A patent/JP5429134B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012094750A (ja) | 2012-05-17 |
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