JP5428485B2 - 面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法およびそのプログラム - Google Patents
面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法およびそのプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5428485B2 JP5428485B2 JP2009103549A JP2009103549A JP5428485B2 JP 5428485 B2 JP5428485 B2 JP 5428485B2 JP 2009103549 A JP2009103549 A JP 2009103549A JP 2009103549 A JP2009103549 A JP 2009103549A JP 5428485 B2 JP5428485 B2 JP 5428485B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor laser
- current
- laser element
- burn
- emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/0014—Measuring characteristics or properties thereof
- H01S5/0021—Degradation or life time measurements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
- G01R31/2607—Circuits therefor
- G01R31/2632—Circuits therefor for testing diodes
- G01R31/2635—Testing light-emitting diodes, laser diodes or photodiodes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/04—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
- H01S5/042—Electrical excitation ; Circuits therefor
- H01S5/0425—Electrodes, e.g. characterised by the structure
- H01S5/04256—Electrodes, e.g. characterised by the structure characterised by the configuration
- H01S5/04257—Electrodes, e.g. characterised by the structure characterised by the configuration having positive and negative electrodes on the same side of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18308—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
- H01S5/18311—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement using selective oxidation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18386—Details of the emission surface for influencing the near- or far-field, e.g. a grating on the surface
- H01S5/18391—Aperiodic structuring to influence the near- or far-field distribution
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
請求項2において、前記負荷電流は、面発光型半導体レーザ素子から出射される光量が増加から低下に変化するときの駆動電流よりも大きく、面発光型半導体レーザ素子が過電流により故障するときの故障電流よりも小さい。
請求項3において、前記負荷電流は、面発光型半導体レーザ素子がレーザ発振できる最大駆動電流より大きく、面発光型半導体レーザ素子が過電流により故障するときの故障電流より小さい。
請求項4において、面発光型半導体レーザ素子は、室温付近の環境温度に置かれる。
請求項5において、バーンイン方法はさらに、複数の面発光型半導体レーザ素子が形成されたウエハを室温付近の環境温度で支持部材上に取り付けるステップと、ウエハ上の複数の面発光型半導体レーザ素子の各々について前記負荷電流の印加と前記電気光学特性の測定を実行するステップとを有する。
請求項6において、バーンイン方法はさらに、単一の面発光型半導体レーザ素子を実装した面発光型半導体レーザ装置を室温付近の環境温度で支持部材上に複数取り付けるステップと、前記複数の面発光型半導体レーザ装置の各々について前記負荷電流の印加と前記電気光学特性の測定を実行するステップとを有する。
請求項7において、前記電気光学特性を測定するステップは、面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加した状態で面発光型半導体レーザ素子の光出力特性を測定する。
請求項8において、前記負荷電流は、面発光型半導体レーザ素子がレーザ発振できる最大駆動電流より大きく、面発光型半導体レーザ素子が発振しない電流である。
請求項9において、面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与える負荷手段と、前記負荷手段により負荷を与えられた面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定する測定手段と、前記負荷手段および前記測定手段を制御する制御手段とを備えたバーンイン装置が実行するプログラムであって、前記負荷手段により第1の面発光型半導体レーザ素子に負荷電流を印加させるステップと、前記測定手段により第1の面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加するとき、前記第1の面発光型半導体レーザ素子に位置決めされた光量測定ユニットにより前記第1の面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定させるステップと、前記負荷手段により第2の面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与えるための負荷電流を印加する間に、前記光量測定ユニットを前記第2の面発光型半導体レーザ素子に移動させるステップと、前記測定手段により前記第2の面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加するとき、前記第2の面発光型半導体レーザ素子に位置決めされた光量測定ユニットにより前記第2の面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定するステップと、前記測定結果に基づき面発光型半導体レーザ素子の合否判定を行うステップとを有する。
請求項10において、前記負荷手段は、面発光型半導体レーザ素子から出射される光量が増加から低下に変化するときの駆動電流よりも大きく、面発光型半導体レーザ素子が過電流により故障するときの故障電流よりも小さい負荷電流を印加する。
請求項11において、前記負荷手段は、面発光型半導体レーザ素子が発振しない負荷電流を印加する。
請求項3によれば、面発光型半導体レーザ素子を外部加熱してバーンインする方法と比較して、バーンインによる処理時間を更に短くすることができる。
請求項4によれば、面発光型半導体レーザ素子を高温にする加熱手段を有する場合と比較して低コストのバーンイン方法を提供することができる。
請求項5によれば、ウエハレベルの低コストのバーンイン方法を提供することができる。
請求項6、7によれば、面発光型半導体レーザ素子のバーンインと電気光学特性の測定を効率良く行うことができる。
請求項8によれば、ウエハ上の複数の面発光型半導体レーザ素子のバーンイン処理時間を更に短縮することができる。
請求項9、10によれば、面発光型半導体レーザ素子を外部加熱してバーンインするプログラムと比較して、バーンイン処理時間を短縮することができる。
請求項11によれば、面発光型半導体レーザ素子にレーザが発振するストレス電流を印加する場合と比較して、光量の測定精度の低下を防止することができる。
凹部状のモールド樹脂380と、モールド樹脂380の開口部を封止するように接着剤372で平板ガラス370が樹脂380に固定される。モジュールの内部にはVCSEL310が固定され、樹脂380の両側面からリードフレーム390、392が突出している。リードフレーム390、392は、ボンディングワイヤまたはその他の接続手段によってVCSEL310のp側およびn側電極にそれぞれ電気的に接続される。平板ガラス370と樹脂380によって形成された内部空間は、空気または窒素等の不燃ガスが充填される。
450の電極は、ボンディングワイヤによってフレキシブル基板440の配線パターンに接続されている。フレキシブル基板440の端部は、キャップ410より外部にまで延在し、外部引き出し電極460が形成されている。
200、200A、200B:バーンインシステム
210:電流源
212:ストレス用電源
214:測定用電源
220:電流駆動部
230、230A、230B:p側プローブピン
240、240A、240B:n側プローブピン
300A、300B、300C:モジュール
R:サーマルロールオーバ
Claims (11)
- 第1の面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与えるための負荷電流を印加するステップと、
前記第1の面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加するとき、前記第1の面発光型半導体レーザ素子に位置決めされた光量測定ユニットにより前記第1の面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定するステップと、
第2の面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与えるための負荷電流を印加する間に、前記光量測定ユニットを前記第2の面発光型半導体レーザ素子に移動させるステップと、
前記第2の面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加するとき、前記第2の面発光型半導体レーザ素子に位置決めされた光量測定ユニットにより前記第2の面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定するステップと、
前記測定結果に基づき面発光型半導体レーザ素子の合否判定を行うステップと、
を有する面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法。 - 前記負荷電流は、面発光型半導体レーザ素子から出射される光量が増加から低下に変化するときの駆動電流よりも大きく、面発光型半導体レーザ素子が過電流により故障するときの故障電流よりも小さい、請求項1に記載のバーンイン方法。
- 前記負荷電流は、面発光型半導体レーザ素子がレーザ発振できる最大駆動電流より大きく、面発光型半導体レーザ素子が過電流により故障するときの故障電流より小さい、請求項1に記載のバーンイン方法。
- 面発光型半導体レーザ素子は、室温付近の環境温度に置かれる、請求項1ないし3いずれか1つに記載のバーンイン方法。
- バーンイン方法はさらに、
複数の面発光型半導体レーザ素子が形成されたウエハを室温付近の環境温度で支持部材上に取り付けるステップと、
ウエハ上の複数の面発光型半導体レーザ素子の各々について前記負荷電流の印加と前記電気光学特性の測定を実行するステップと、
を有する請求項1ないし4いずれか1つに記載のバーンイン方法。 - バーンイン方法はさらに、
単一の面発光型半導体レーザ素子を実装した面発光型半導体レーザ装置を室温付近の環境温度で支持部材上に複数取り付けるステップと、
前記複数の面発光型半導体レーザ装置の各々について前記負荷電流の印加と前記電気光学特性の測定を実行するステップと、
を有する請求項1ないし4いずれか1つに記載のバーンイン方法。 - 前記電気光学特性を測定するステップは、面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加した状態で面発光型半導体レーザ素子の光出力特性を測定する、請求項1ないし6いずれか1つ記載のバーンイン方法。
- 前記負荷電流は、面発光型半導体レーザ素子がレーザ発振できる最大駆動電流より大きく、面発光型半導体レーザ素子が発振しない電流である、請求項1に記載のバーンイン方法。
- 面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与える負荷手段と、前記負荷手段により負荷を与えられた面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定する測定手段と、前記負荷手段および前記測定手段を制御する制御手段とを備えたバーンイン装置が実行するプログラムであって、
前記負荷手段により第1の面発光型半導体レーザ素子に負荷電流を印加させるステップと、
前記測定手段により第1の面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加するとき、前記第1の面発光型半導体レーザ素子に位置決めされた光量測定ユニットにより前記第1の面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定させるステップと、
前記負荷手段により第2の面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与えるための負荷電流を印加する間に、前記光量測定ユニットを前記第2の面発光型半導体レーザ素子に移動させるステップと、
前記測定手段により前記第2の面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加するとき、前記第2の面発光型半導体レーザ素子に位置決めされた光量測定ユニットにより前記第2の面発光型半導体レーザ素子の電気光学特性を測定するステップと、
前記測定結果に基づき面発光型半導体レーザ素子の合否判定を行うステップと、
を有するプログラム。 - 前記負荷手段は、面発光型半導体レーザ素子から出射される光量が増加から低下に変化するときの駆動電流よりも大きく、面発光型半導体レーザ素子が過電流により故障するときの故障電流よりも小さい負荷電流を印加する、請求項9に記載のプログラム。
- 前記負荷手段は、面発光型半導体レーザ素子が発振しない負荷電流を印加する、請求項9または10に記載のプログラム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009103549A JP5428485B2 (ja) | 2009-04-22 | 2009-04-22 | 面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法およびそのプログラム |
US12/605,414 US8624614B2 (en) | 2009-04-22 | 2009-10-26 | Burn-in method for surface emitting semiconductor laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009103549A JP5428485B2 (ja) | 2009-04-22 | 2009-04-22 | 面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法およびそのプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010258052A JP2010258052A (ja) | 2010-11-11 |
JP5428485B2 true JP5428485B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=42992505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009103549A Active JP5428485B2 (ja) | 2009-04-22 | 2009-04-22 | 面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法およびそのプログラム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8624614B2 (ja) |
JP (1) | JP5428485B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4645655B2 (ja) * | 2008-02-04 | 2011-03-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 光伝送モジュール |
CN102570291B (zh) * | 2011-12-20 | 2014-10-08 | 西安炬光科技有限公司 | 一种传导制冷型高功率半导体激光器及其制备方法 |
US8759859B2 (en) * | 2012-03-08 | 2014-06-24 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light-emitting element, self-scanning light-emitting element array, optical writing head, and image forming apparatus |
JP6692646B2 (ja) * | 2016-01-19 | 2020-05-13 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光素子および該素子構成を含むウェハにおける品質管理方法 |
US10203366B2 (en) * | 2016-06-30 | 2019-02-12 | Mellanox Technologies, Ltd. | Transducer reliability testing |
JP2018207008A (ja) * | 2017-06-07 | 2018-12-27 | 住友電気工業株式会社 | 面発光半導体レーザを作製する方法 |
DE102019107138A1 (de) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren und vorrichtung zum elektrischen kontaktieren von bauelementen in einem halbleiterwafer |
TWI704360B (zh) * | 2019-07-09 | 2020-09-11 | 致茂電子股份有限公司 | 覆晶式面射型雷射二極體之晶圓測試裝置 |
CN115189219A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-10-14 | 河南仕佳光子科技股份有限公司 | 一种获得边发射激光器芯片最优老化条件的方法及采用该条件筛选芯片的方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06232227A (ja) | 1993-02-04 | 1994-08-19 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JPH08111443A (ja) * | 1994-10-07 | 1996-04-30 | Ricoh Co Ltd | 半導体素子の信頼性評価方法及び装置 |
US5600257A (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-04 | International Business Machines Corporation | Semiconductor wafer test and burn-in |
US6137305A (en) * | 1998-10-26 | 2000-10-24 | Lucent Technologies Inc. | Method and apparatus for testing laser bars |
US6259264B1 (en) * | 1999-08-30 | 2001-07-10 | Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. | Apparatus and method for testing semiconductor laser chips |
DE60229954D1 (de) | 2001-08-13 | 2009-01-02 | Finisar Corp | Verfahren zur durchführung des einbrennens elektronischer vorrichtungen auf nicht vereinzelte halbleiterscheiben |
JP2005259885A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Seiko Epson Corp | 光素子ウェハおよびその製造方法、光素子ウェハのバーンイン装置、ならびに光素子ウェハのバーンイン方法 |
US7564882B2 (en) * | 2004-07-30 | 2009-07-21 | Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Integrated circuit having on-chip laser burn-in circuit |
US7439731B2 (en) * | 2005-06-24 | 2008-10-21 | Crafts Douglas E | Temporary planar electrical contact device and method using vertically-compressible nanotube contact structures |
US8178364B2 (en) * | 2005-10-31 | 2012-05-15 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Testing method of surface-emitting laser device and testing device thereof |
US7268570B1 (en) * | 2006-06-27 | 2007-09-11 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for customized burn-in of cores on a multicore microprocessor integrated circuit chip |
JP2008227463A (ja) * | 2007-02-13 | 2008-09-25 | Seiko Epson Corp | 発光素子の検査方法および検査装置、ならびにバーンイン方法およびバーンイン装置 |
US8294484B1 (en) * | 2007-05-31 | 2012-10-23 | Finisar Corporation | Pulse voltage age acceleration of a laser for determining reliability |
US7795896B2 (en) * | 2008-08-13 | 2010-09-14 | Finisar Corporation | High-power optical burn-in |
JP2010151794A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-07-08 | Panasonic Corp | 電子部品試験装置 |
US8446161B2 (en) * | 2009-03-17 | 2013-05-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of self monitoring and self repair for a semiconductor IC |
US8384405B2 (en) * | 2011-04-20 | 2013-02-26 | Tdk Corporation | Method for performing burn-in test |
-
2009
- 2009-04-22 JP JP2009103549A patent/JP5428485B2/ja active Active
- 2009-10-26 US US12/605,414 patent/US8624614B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8624614B2 (en) | 2014-01-07 |
US20100273278A1 (en) | 2010-10-28 |
JP2010258052A (ja) | 2010-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5428485B2 (ja) | 面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法およびそのプログラム | |
JP4645655B2 (ja) | 光伝送モジュール | |
JP4877471B2 (ja) | 面発光半導体レーザの製造方法 | |
US20190052048A1 (en) | Compact laser device | |
CN102177625B (zh) | 大功率光老化 | |
US20090110014A1 (en) | Small form factor transmitter optical subassembly (tosa) having functionality for controlling the temperature, and methods of making and using the tosa | |
US20010006526A1 (en) | Semiconductor laser devices | |
JP2021121025A (ja) | バーンイン装置 | |
JP3119246B2 (ja) | 光送信器 | |
US6830940B1 (en) | Method and apparatus for performing whole wafer burn-in | |
JP7482785B2 (ja) | 面発光レーザ装置の駆動方法および面発光レーザ装置 | |
JPH10321685A (ja) | 半導体素子の試験方法および試験装置 | |
CN101034791B (zh) | 具有集成光电二极管的激光器组件 | |
JP2008227463A (ja) | 発光素子の検査方法および検査装置、ならびにバーンイン方法およびバーンイン装置 | |
JP2002280430A (ja) | 温度測定方法およびそれを用いた試験方法ならびに半導体試験装置と特性予測方法 | |
US20110003403A1 (en) | Testing method of surface-emitting laser device and testing device thereof | |
JP2013050342A (ja) | 半導体素子の検査方法、検査装置および検査システム | |
JP4501404B2 (ja) | 半導体発光素子の評価方法 | |
JP2006135245A (ja) | 半導体レーザ装置の製造方法および半導体レーザ装置 | |
JP2008091708A (ja) | 半導体発光モジュールの製造方法 | |
JP2007292591A (ja) | 信頼性試験用基板ユニット、信頼性試験装置及び信頼性試験方法 | |
GB2501509A (en) | Laser device | |
JP2001066222A (ja) | 光素子アレイの試験方法 | |
JP2008166319A (ja) | エージング処理方法およびエージング処理装置 | |
JP2000315835A (ja) | 半導体レーザ装置及びその検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130604 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130723 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130723 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130917 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20131010 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131010 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5428485 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |