JP2008091708A - 半導体発光モジュールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造歩留まりを向上することができる半導体発光モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光モジュールの製造方法では、半導体レーザチップ18をLD用サブマウント16上に実装することによって実装部品17を作製する。電流値を変化させながら25℃よりも高い温度で実装部品17の半導体レーザチップ18に電流を供給することによって半導体レーザチップ18から出射されるレーザ光Lの光出力を測定する。電流値と光出力の値との相関関係に基づいて実装部品17を選別する。実装部品17を選別する工程では、光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Psを超える場合に実装部品17が良品であると判断して、良品の実装部品17を用いて半導体レーザモジュール10を作製する。
【選択図】図3
【解決手段】半導体発光モジュールの製造方法では、半導体レーザチップ18をLD用サブマウント16上に実装することによって実装部品17を作製する。電流値を変化させながら25℃よりも高い温度で実装部品17の半導体レーザチップ18に電流を供給することによって半導体レーザチップ18から出射されるレーザ光Lの光出力を測定する。電流値と光出力の値との相関関係に基づいて実装部品17を選別する。実装部品17を選別する工程では、光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Psを超える場合に実装部品17が良品であると判断して、良品の実装部品17を用いて半導体レーザモジュール10を作製する。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体発光モジュールの製造方法に関する。
半導体レーザチップをサブマウント上に実装する前に、室温よりも高い一定温度において当該半導体レーザチップを通電させることによって加速劣化試験を行う方法が知られている(特許文献1参照)。この方法では、加速劣化により半導体レーザチップのスクリーニング試験を行っている。
特開平10−321685号公報
しかしながら、上述の方法では、半導体レーザチップをサブマウント上に実装する際の不良を検査することができない。その結果、半導体レーザチップをサブマウント上に実装することによって得られる実装部品の良品率が低下してしまうので、半導体発光モジュールの製造歩留まりが低くなってしまう。
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、製造歩留まりを向上することができる半導体発光モジュールの製造方法を提供することを目的とする。
上述の課題を解決するため、本発明の半導体発光モジュールの製造方法は、半導体発光素子を基板上に実装することによって実装部品を作製する工程と、電流値を変化させながら25℃よりも高い温度で前記実装部品の前記半導体発光素子に電流を供給することによって前記半導体発光素子から出射される光の光出力を測定する工程と、前記電流値と前記光出力の値との相関関係に基づいて前記実装部品を選別する工程とを含み、前記実装部品を選別する工程では、前記光出力の最大値が所定の閾値を超える場合に前記実装部品が良品であると判断して、良品の前記実装部品を用いて半導体発光モジュールを作製する。
本発明の半導体発光モジュールの製造方法では、半導体発光素子を基板に実装することに起因する不良品を除去することができる。その結果、実装後における半導体発光モジュールの製造歩留まりを向上することができる。
また、前記光出力を測定する工程では、40〜100℃で前記半導体発光素子に電流を供給することが好ましい。
この場合、温度が40℃未満の場合に比べて、良品の光出力の最大値と不良品の光出力の最大値との差が大きくなる。一方、温度が100℃を超える場合には半導体レーザチップの発光効率が急激に低下するので、100℃以下の温度で半導体レーザチップに電流を供給することが好ましい。40〜100℃の温度範囲で半導体レーザチップに電流を供給することによって実装部品を高精度に選別することができるので、実装後における半導体発光モジュールの製造歩留まりを更に向上することができる。また、40〜100℃で半導体発光素子に電流を供給する場合、半導体発光素子の発光効率が低下するので、発光によって半導体発光素子が受けるダメージを低減することができる。
また、前記実装部品を選別する工程では、前記光出力の値がゼロになると共に前記光出力の最大値に対応する電流値よりも大きい電流値が所定の閾値を超える場合に前記実装部品が良品であると判断して、良品の前記実装部品を用いて半導体発光モジュールを作製することが好ましい。
これにより、実装部品を高精度に選別することができるので、実装後における半導体発光モジュールの製造歩留まりを更に向上することができる。
また、前記光出力を測定する工程では、前記半導体発光素子にパルス電流を供給することが好ましい。
この場合、連続電流を供給する場合に比べて、大きな電流を通電させることにより半導体発光素子が受けるダメージを低減することができる。その結果、実装後における半導体発光モジュールの製造歩留まりが更に向上する。
本発明によれば、製造歩留まりを向上することができる半導体発光モジュールの製造方法が提供される。
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。
図1は、半導体レーザモジュール(半導体発光モジュール)を模式的に示す側断面図である。図1には、XYZ空間座標系が示されている。図1に示される半導体レーザモジュール10は、ステムベース12と、ステムベース12上に設置されたステム14と、ステム14上にLD用サブマウント16(基板)を介して設置された半導体レーザチップ18(半導体発光素子)とを備える。ステムベース12及びステム14は、Z軸方向に沿って配列されている。ステム14、LD用サブマウント16及び半導体レーザチップ18は、Y軸方向に沿って配列されている。
ステムベース12は、例えば金属製である。ステム14は、例えば、銅や窒化銅等の放熱性金属からなる。ステムベース12及びステム14は、一体に形成されてもよい。LD用サブマウント16は、例えば、AlN、SiC、C−BN、ダイヤモンド等の高伝導性セラミックからなり、ヒートシンクとなる。これにより、半導体レーザチップ18を駆動する際の動作温度を下げて温度特性を良好なものとすることができる。
半導体レーザチップ18としては、例えば、GaInAsP層及びInP層を含む多重量子井戸構造を有するファブリペロー型半導体レーザ又はDFB型半導体レーザを用いることができる。半導体レーザチップ18は、例えば、縦400μm×横300μmの矩形形状を有する。半導体レーザチップ18の端面には、AR膜やHR膜といった端面コーティング膜が形成されていてもよい。
ステムベース12上には、PD用サブマウント20を介してモニタ用のフォトダイオード22が設置されている。ステムベース12、PD用サブマウント20及びフォトダイオード22は、Z軸方向に沿って配列されている。フォトダイオード22は、半導体レーザチップ18に対向配置されているので、半導体レーザチップ18から出射されるレーザ光を受ける。
ステムベース12には複数の貫通孔が形成されている。これらの貫通孔には、それぞれリードピン24が挿入されている。各貫通孔は、封止材25によって封止されている。リードピン24は、LD用リードピン24a、アース用リードピン24b及びPD用リードピン24cからなる。LD用リードピン24aと半導体レーザチップ18とは、例えば金ワイヤ等のワイヤ18aによって電気的に接続されている。PD用リードピン24cとフォトダイオード22とは、例えば金ワイヤ等のワイヤ22aによって電気的に接続されている。アース用リードピン24bは、例えば接地されたステムベース12に電気的に接続されている。
ステムベース12上には、半導体レーザチップ18及びフォトダイオード22等を覆うようにキャップ26が設けられている。キャップ26には、半導体レーザチップ18から出射されるレーザ光L(光)を受けるレンズ28が取り付けられている。半導体レーザチップ18は、キャップ26とフォトダイオード22との間に配置されている。
図2は、図1に示される半導体レーザモジュールの一部をZ軸方向から見たものを模式的に示す上面図である。図2に示されるように、半導体レーザチップ18は、半田32によってLD用サブマウント16に接続されている。LD用サブマウント16は、半田34によってステム14に接続されている。半田32及び半田34の材料としては、例えばAuSn、In、AuIn、AuSi等が挙げられる。LD用サブマウント16及び半導体レーザチップ18は、実装部品17を構成している。
半導体レーザチップ18は、n型半導体層18nと、p型半導体層18pと、n型半導体層18nとp型半導体層18pとの間に配置された活性層18mとを備える。n型半導体層18nは、例えばLD用サブマウント16側に配置される。これにより、p電極面積を小さくすることができるので、容量を低下させることができる。
図3は、実施形態に係る半導体発光モジュールの製造方法を模式的に示すフローチャートである。
まず、半導体レーザチップ18を作製する(工程S1)。半導体レーザチップ18は例えば以下のようにして作製される。まず、シリコンウェハ等の半導体ウェハに微細加工法を用いて2次元的に配置された複数の素子を形成する。次に、半導体ウェハを切断することによって、複数の素子が1次元的に配列されたバーを得る。次に、このバーに対して端面コーティングを行う。次に、バーを切断することによって複数の半導体レーザチップ18を得る。
工程S1の後、半導体レーザチップ18の光出力特性を検査することによって、半導体レーザチップ18の良品と不良品とを選別する(工程S2)。工程S2では、半導体レーザチップ18の光出力特性が良好な場合には次の工程に進み、不良の場合には不良となった半導体レーザチップ18を除去する(工程S8)。例えば、半導体レーザチップ18にプローブを接触させ、電流を供給することによって、閾値電流等の電流−光出力特性が所望の特性か否かを検査する。
工程S2の後、半導体レーザチップ18をLD用サブマウント16上に実装することによって実装部品17を作製する(工程S3)。例えば、LD用サブマウント16上に予め蒸着された半田32に半導体レーザチップ18を接続する(ダイボンド)。ここで、LD用サブマウント16とステム14との間に半田34を配置して、この半田34によってLD用サブマウント16とステム14とを接続してもよい。例えば半田32及び半田34がAuSnからなる場合、半田32及び半田34を280℃に加熱することによって、ステム14、LD用サブマウント16及び半導体レーザチップ18を同時に固定することができる。
続いて、例えば超音波ワイヤボンド法を用いて、ワイヤ18aを半導体レーザチップ18に接続させる。さらに、フォトダイオード22をPD用サブマウント20上に実装する。その後、ワイヤ22aをフォトダイオード22に接続させる。
工程S3の後、電流値を変化させながら25℃(室温)よりも高い温度で実装部品17の半導体レーザチップ18に電流を供給することによって半導体レーザチップ18から出射されるレーザ光Lの光出力(パワー)を測定する(工程S4)。レーザ光Lを例えばフォトダイオード等の光出力計測装置に入射させることによって、レーザ光Lを光出力を計測することができる。半導体レーザチップ18に電流を供給する時の温度は、40〜100℃が好ましく、70〜100℃が特に好ましい。また、半導体レーザチップ18には直流の連続電流又はパルス電流を供給することができる。
工程S4の後、工程S4によって得られる電流値と光出力との相関関係(I−L特性)に基づいて実装部品17を選別する(工程S10)。工程S10では、光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Psを超えるか否かを判断する(工程S5)。閾値Psは、例えば後述するスクリーニング試験を事前に行って、スクリーニング試験の結果と上記I−L特性とを比較することによって予め算出されてもよい。一実施例において、閾値Psは18mWである。光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Psを超える場合には、実装部品17が良品であると判断して、次の工程S6に進む。光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Ps以下の場合には、実装部品17が不良品であると判断して、不良となった実装部品17を除去する(工程S8)。工程S5により、良品である第1グループの実装部品17と、不良品である第2グループの実装部品17とが得られる。
工程S10では、光出力P0の値がゼロになる電流値Inopが所定の閾値Isを超えるか否かを判断してもよい(工程S6)。電流値Inopは、光出力の最大値Pmaxに対応する電流値Imaxよりも大きい。閾値Isは、例えば後述するスクリーニング試験を事前に行って、スクリーニング試験の結果と上記I−L特性とを比較することによって予め算出されてもよい。一実施例において、閾値Isは290mAである。電流値Inopが所定の閾値Isを超える場合には、実装部品17が良品であると判断して、次の工程S7に進む。電流値Inopが所定の閾値Is以下の場合には、実装部品17が不良品であると判断して、不良となった実装部品17を除去する(工程S8)。工程S6により、良品である第1グループの実装部品17と、不良品である第2グループの実装部品17とが得られる。
ここで、図4を参照して、工程S4〜工程S6について詳細に検討する。図4は、電流値と光出力との相関関係を模式的に示すグラフである。図4に示されるグラフにおいて、縦軸は光出力P0(mW)を示す。横軸は電流値I(mA)を示す。グラフ中の曲線D1〜D4は、85℃で半導体レーザチップ18に電流を供給した場合の実験結果を示す。曲線E1〜E3は、25℃で半導体レーザチップ18に電流を供給した場合の実験結果を示す。
図4に示されるように、曲線D1及びD2では、光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Psを超える。よって、曲線D1及びD2は、実装部品17が良品であることを示している。一方、曲線D3及びD4では、光出力の最大値Pmaxが所定の閾値Ps以下である。よって、曲線D3及びD4は、実装部品17が不良品であることを示している。
これに対して曲線E1〜E3では、光出力の最大値の差が小さいので、実装部品17を選別することは困難である。
また、曲線D1及びD2では、電流値Inopが所定の閾値Isを超える。よって、曲線D1及びD2は、実装部品17が良品であることを示している。一方、曲線D3及びD4では、電流値Inopが所定の閾値Is以下である。よって、曲線D3及びD4は、実装部品17が不良品であることを示している。
なお、半導体レーザチップ18に電流を供給する時の温度を25℃とすると、光出力の最大値Pmaxは最大規格PEを超える。一方、半導体レーザチップ18に電流を供給時の温度を85℃とすると、光出力の最大値Pmaxは最大規格PEを超えない。
工程S6の後、必要に応じてキャップ26をステムベース12に実装する。キャップ26の実装は、工程S3の後に実施してもよい。
工程S10の後、必要に応じて、半導体レーザモジュール10を一定の温度で長時間通電させることによってスクリーニング試験(加速劣化試験)を行う(工程S7)。工程S7では、スクリーニング試験の結果が所望の特性を示す場合には、半導体レーザモジュール10が良品であると判断して、次の工程に進む。一方、スクリーニング試験の結果が所望の特性を示さない場合には、半導体レーザモジュール10が不良品であると判断して、不良となった半導体レーザモジュール10を除去する(工程S8)。工程S7の後、必要に応じて最終的な特性を検査する。この検査の後、製品となる良品の半導体レーザモジュール10が出荷される。
スクリーニング試験は、例えば以下のように実施される。85℃で半導体レーザチップ18に150mAの電流を48時間供給する。電流を供給する前後において半導体レーザチップ18の閾値電流をそれぞれ測定する。この閾値電流の差が所定値未満の場合に良品として、それ以外の場合に不良品とする。図5は、スクリーニング試験結果の具体例を示すグラフである。図5に示されるグラフにおいて、横軸は通電させている時間(hour)を示す。縦軸は閾値電流RIth(相対値)を示す。グラフ中のデータ群GDでは、長時間経過してもRIthが殆ど変化していない。よって、データ群GDは、実装部品が良品であることを示している。一方、データ群NGでは、時間の経過と共にRIthが増加している。よって、データ群NGは、実装部品が不良品であることを示している。
以上説明したように、本実施形態の半導体発光モジュールの製造方法では、工程S3、工程S4及び工程S10を実施する。このため、半導体レーザチップ18をLD用サブマウント16に実装することに起因する不良品を除去することができる。その結果、実装後における半導体レーザモジュール10の製造歩留まりを向上することができる。
本実施形態の半導体発光モジュールの製造方法において良品と不良品とが選別されるメカニズムは、例えば次のように考えられる。工程S4において半導体レーザチップ18は発熱する。半導体レーザチップ18の実装が不良の場合には、半導体レーザチップ18からLD用サブマウント16への放熱が不十分となる。このため、半導体レーザチップ18の温度が異常に上昇するので、良品に比べて、本実施形態の製造方法を用いることで半導体レーザの特性劣化が顕著となる。このような半導体レーザチップ18の実装不良は、半導体レーザ素子の寿命劣化の原因となる。また、半導体レーザチップ18の実装時の不良以外に、ダイボンドやワイヤボンド等の製造工程中においても、半導体レーザチップ18が不良となることが考えられる。例えば、ダイボンドやワイヤボンド等の製造工程中に端面コーティング膜の特性が変化して不良となった場合も、半導体レーザチップ18に電流を通電した際に、半導体レーザチップ18の温度が異常に上昇する場合がある。このような不良品の実装部品17も本実施形態の製造方法を用いることで選別することができる。このような端面コーティング膜の特性変化に基づく半導体レーザチップ18の不良も、半導体レーザ素子の寿命を著しく劣化させる原因となる。
さらに、本実施形態の半導体発光モジュールの製造方法では、製造工程の早い時期において不良品の実装部品17を除去することができるので、不良による部材の廃却損、実装後の無駄な検査時間等を削減することができる。よって、製造コストを低減できる。
また、通常の加速劣化試験を行うよりも短時間で実装部品17を選別することができるので、加速劣化試験を行わずに半導体レーザモジュール10の長期信頼性を検査することができる。さらに、非破壊で実装部品17を選別することができるので、全数検査が可能である。
工程S4では、40〜100℃で半導体レーザチップ18に電流を供給することが好ましい。この場合、温度が40℃未満の場合に比べて、良品の光出力の最大値Pmaxと不良品の光出力の最大値Pmaxとの差が大きくなる。一方、温度が100℃を超える場合には半導体レーザチップ18の発光効率が急激に低下するので、100℃以下の温度で半導体レーザチップ18に電流を供給することが好ましい。40〜100℃の温度範囲で半導体レーザチップ18に電流を供給することによって実装部品17を高精度に選別することができるので、実装後における半導体レーザモジュール10の製造歩留まりを更に向上することができる。また、この40〜100℃の温度範囲において、温度が高くなると半導体レーザチップ18の発光効率が低下し、半導体レーザチップ18からの光出力が低下するので、発光により半導体レーザチップ18が受けるダメージを低減することができる。
工程S10では、電流値Inopが所定の閾値Isを超える場合に実装部品17が良品であると判断して、良品の実装部品17を用いて半導体レーザモジュール10を作製することが好ましい。これにより、実装部品17を高精度に選別することができるので、実装後における半導体レーザモジュール10の製造歩留まりを更に向上することができる。
工程S4では、半導体レーザチップ18にパルス電流を供給することが好ましい。この場合、連続電流を供給する場合に比べて、大きな電流を通電させることにより半導体レーザチップ18が受けるダメージを低減することができる。その結果、実装後における半導体レーザモジュール10の製造歩留まりが更に向上する。パルス電流のパルス幅(電流を供給する時間)は1μs以上であることが好ましい。パルス幅が狭すぎると、半導体レーザチップ18の実装不良等による半導体レーザチップ18の温度の異常な上昇が起こらないからである。したがって、パルス電流のパルス幅を1μs以上とすることで、良品の光出力の最大値Pmaxと不良品の光出力の最大値Pmaxとの差を十分にとることができ、不良品の選別が可能となる。
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。
例えば、半導体発光モジュールは、半導体レーザモジュールに限定されず、LEDモジュール等であってもよい。
また、工程S2,S7を実施しなくてもよく、工程S5の前に工程S6を実施してもよい。いずれの場合であっても、本実施形態と同様の作用効果が得られる。
10…半導体レーザモジュール(半導体発光モジュール)、16…LD用サブマウント(基板)、17…実装部品、18…半導体レーザチップ(半導体発光素子)、L…レーザ光(光)。
Claims (4)
- 半導体発光素子を基板上に実装することによって実装部品を作製する工程と、
電流値を変化させながら25℃よりも高い温度で前記実装部品の前記半導体発光素子に電流を供給することによって前記半導体発光素子から出射される光の光出力を測定する工程と、
前記電流値と前記光出力の値との相関関係に基づいて前記実装部品を選別する工程と、
を含み、
前記実装部品を選別する工程では、前記光出力の最大値が所定の閾値を超える場合に前記実装部品が良品であると判断して、良品の前記実装部品を用いて半導体発光モジュールを作製する、半導体発光モジュールの製造方法。 - 前記光出力を測定する工程では、40〜100℃で前記半導体発光素子に電流を供給する、請求項1に記載の半導体発光モジュールの製造方法。
- 前記実装部品を選別する工程では、前記光出力の値がゼロになると共に前記光出力の最大値に対応する電流値よりも大きい電流値が所定の閾値を超える場合に前記実装部品が良品であると判断して、良品の前記実装部品を用いて半導体発光モジュールを作製する、請求項1又は2に記載の半導体発光モジュールの製造方法。
- 前記光出力を測定する工程では、前記半導体発光素子にパルス電流を供給する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体発光モジュールの製造方法。
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