JP2006351847A - 半導体発光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 チップ状態の半導体発光素子が、電気絶縁体を介して放熱体に固定されてなる半導体発光装置において、発光点位置の経時的変動や、半導体発光素子の寿命低下の問題を防止する。
【解決手段】 チップ状態の半導体発光素子1が、例えばサブマウントを構成する電気絶縁体2を介して放熱体3上に固定されてなる半導体発光装置において、電気絶縁体の厚さtを、σ(t)/σ(0)≦2.5×10-2となる範囲に設定する。
【選択図】 図1
【解決手段】 チップ状態の半導体発光素子1が、例えばサブマウントを構成する電気絶縁体2を介して放熱体3上に固定されてなる半導体発光装置において、電気絶縁体の厚さtを、σ(t)/σ(0)≦2.5×10-2となる範囲に設定する。
【選択図】 図1
Description
本発明は半導体発光装置に関し、特に詳細には、チップ状態の半導体発光素子が電気絶縁体を介して放熱体上に固定されてなる半導体発光装置に関するものである。
従来、例えば特許文献1に示されるように、400nm近傍の波長のレーザービームを発する窒化物系化合物半導体レーザーが提供されている。
そして、この種の窒化物系化合物半導体レーザー等の半導体発光素子を実装する構造の一つとして、上記特許文献1にも示されているように、チップ状態の半導体発光素子をサブマウントに半田等で接着し、さらにこのサブマウントを放熱ブロック(キャリア、ステム等)に接着する、という構造が知られている。
また上記特許文献1には、チップ状態の半導体発光素子をサブマウントに対して、フェースダウン(ジャンクションダウン)構造で接着することも記載されている。なおこのフェースダウン構造とは、基板側ではなく、素子形成面側(pn接合側)を熱伝導率が大きい放熱用マウントに固定する構造である。
特開2004−096062号公報
ところで、チップ状態の半導体発光素子をサブマウントを介して放熱ブロック上に固定する構造においては、サブマウントと接合されることによって半導体発光素子の発光層に大きな内部応力が発生すると、発光点位置が変動したり、あるいは寿命が短縮するといった問題が生じて、素子の経時信頼性が損なわれる。前述の特許文献1には、このような問題の発生を防止する上では、サブマウントの厚さを200〜400μmの範囲に設定しておくことが望ましいとの記載がある。
しかし本発明者の研究によると、サブマウントの厚さを上記の範囲に設定しても、未だ半導体発光素子の経時信頼性を改善する余地が残っていることが判った。
本発明は上記の事情に鑑みて、発光点位置の経時的変動や、半導体発光素子の寿命低下の問題を十分に防止できる半導体発光装置を提供することを目的とする。
本発明による第1の半導体発光装置は、先に述べたようにチップ状態の半導体発光素子が、例えばサブマウント等を構成する電気絶縁体を介して放熱体上に固定されてなる半導体発光装置において、電気絶縁体の厚さが0.4mm以上とされていることを特徴とするものである。
また、本発明による第2の半導体発光装置は、同じくチップ状態の半導体発光素子が、電気絶縁体を介して放熱体上に固定されてなる半導体発光装置において、電気絶縁体が無い場合、電気絶縁体の厚さがtである場合に半導体発光素子の発光層に発生する内部応力をそれぞれσ(0)、σ(t)としたとき、電気絶縁体の厚さtが、σ(t)/σ(0)≦2.5×10-2となる範囲に設定されていることを特徴とするものである。
なお、本発明によるこれらの半導体発光装置においては、半導体発光素子が窒化物系半導体発光素子であり、電気絶縁体がAlNからなるものであり、そして放熱ブロックがCuあるいはCu合金からなるものであることが望ましい。
あるいは上記電気絶縁体は、シリコン、多結晶ダイヤモンド、窒化ホウ素、アルミナ、酸化ベリリュウムの何れかよりなるものも好適に用いることができ、その場合も、放熱体としてはCuあるいはCu合金からなるものを適用するのが望ましい。
本発明者は、チップ状態の半導体発光素子が、電気絶縁体を介して金属製放熱ブロック上に固定されてなる半導体発光装置において、電気絶縁体の厚さを種々に変えたとき、半導体発光素子の発光層に発生する内部応力がどのように変化するかを、計算機により有限要素法を用いて詳しくシミュレーションした。
このシミュレーションに供した半導体発光装置の概略斜視形状を図1に示し、またその一部の平面形状と拡大斜視形状をそれぞれ図2および図3に示す。図中、1が窒化物系化合物半導体レーザー素子の一つであるGaN系半導体レーザー素子(発振波長:400〜410nm)、2が電気絶縁体であるAlNからなるサブマウント、3がCuからなる放熱ブロックである。ここで図1および図2には、主要部の寸法をmmで表示してある。図3に示す通りGaN系半導体レーザー素子1は、その発光部SをAlNサブマウント2側に向けた、いわゆるフェースダウン構造で該AlNサブマウント2に接合した。なお、GaN系半導体レーザー素子1とAlNサブマウント2は厚さ2μmのAu80Sn20半田(融点:280℃)により、またAlNサブマウント2とCu放熱ブロック3は厚さ10μmのAu80Sn20半田によりそれぞれ接合されている。また、シミュレーションに用いた上記各要素の定数を下の表1に示す。なお、この表1中、「活性層⊥」「活性層‖」はそれぞれ、活性層に直角な方向、活性層に平行な方向、ということを示している。ここで、内部応力σ(0)は、活性層内に発生する内部応力の最大絶対値を示す。またこの内部応力σ(0)は、GaN系半導体レーザー素子1とAlNサブマウント2との線膨張係数差に相当する内部応力が、それらを接合するロウ材が固化する温度(280℃)から室温(25℃)に戻ったときに発生するとして計算したものである。
以上説明した各要素の寸法および定数を用いて、有限要素法によりGaN系半導体レーザー素子1の発光層全域の熱応力(内部応力)をAlNサブマウント2の厚さt毎に求め、各厚さtにおける最大応力σ(t)を求めた。そして、t=0のときにGaN系半導体レーザー素子1の発光層に発生する最大内部応力をσ(0)とし、規格化内部応力σ(t)/σ(0)を求めた。このシミュレーション結果を図4に示し、またその一部を拡大したものを図5に示す。
これらの図4および図5から分かるように、AlNサブマウント2の厚さtが0.4mm以上の範囲では、GaN系半導体レーザー素子1の発光層における内部応力が極めて小さくなる。本発明による第1の半導体発光装置では、この知見に基づいて電気絶縁体の厚さを0.4mm以上とするものであり、それにより半導体発光素子の発光層における内部応力を極めて小さく抑えて、発光点位置の経時的変動や、半導体発光素子の寿命低下の問題を十分に防止可能となる。
また上述の知見から、本発明による第2の半導体発光装置では、電気絶縁体の厚さtを、σ(t)/σ(0)≦2.5×10-2となる範囲に設定するものであり、そのようにした場合も上記と同様に、半導体発光素子の発光層における内部応力を極めて小さく抑えて、発光点位置の経時的変動や、半導体発光素子の寿命低下の問題を十分に防止可能となる。
一方、図4に「構成1」、「構成2」、「構成3」として示してある半導体発光装置、つまりAlNサブマウント2の厚さtを各々0.1mm、0.4mm、8.25mmとした半導体発光装置を複数ずつ作製し、それらの経時信頼性を寿命試験によって評価した。この寿命試験に先立ち、室温→200℃(30分)→室温の温度サイクル試験を実施して、このときの応力変化による素子疲労を与えた。この寿命試験では、環境温度25℃において、各半導体発光装置のGaN系半導体レーザー素子1を出力50mWとするAPC(Automatic Power Control)をかけて所定時間駆動し、その駆動時間内における単位時間当たりの駆動電流上昇値を求め、その値から、駆動電流が10%上昇するところの時間を外挿推定して、これを寿命とした。
この寿命試験の結果を図6に示す。なお同図においては、厚さtを横軸とし、また「構成1」の半導体発光装置の平均寿命を1として、それに対する相対的な素子寿命とその寿命分散を縦軸に示してある。この図6に示される通り、AlNサブマウント2の厚さt=0.4mm、8.25mmである「構成2」「構成3」の半導体発光装置は、AlNサブマウント2の厚さt=0.1mmである「構成1」の半導体発光装置に比べ、平均寿命が約5倍向上、寿命分散は減少と、熱処理後の素子信頼性が著しく向上した。上記t=0.4mm、8.25mmは、σ(t)/σ(0)≦2.5×10-2となる範囲にも含まれるのに対し、t=0.1mmはσ(t)/σ(0)=2.5×10-1であるので、本発明によりGaN系半導体レーザー素子1の発光層における内部応力が低く抑えられることが裏付けられた。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図7は、本発明の一実施の形態による半導体発光装置10の正面形状を示すものである。図示されるようにこの半導体発光装置10は、窒化物系化合物半導体レーザー素子の一つである例えばGaN系半導体レーザー素子1がチップ状態で、電気絶縁体であるAlNサブマウント2を介してCu放熱ブロック3上に実装されてなるものである。
この実装は、詳しくは下記の通りにしてなされる。まず図8に示すように、AlNサブマウント2の下表面にAu/Pt/Tiメタライズ層4が形成され、またその上表面には電極配線機能層としてのAu/Pt/Tiメタライズ層5および、濡れ改善層および高さ調整層としての段差を有するAu/Pt/Tiメタライズ層6が形成される。ここで、本発明でいうところのサブマウントの厚さは、上記各層4〜6は含まない厚さ、つまり図8のt寸法である。
上記のように段差を有するAu/Pt/Tiメタライズ層6は、例えば一様に厚く該メタライズ層6を形成した後、低くする部分をイオンミリングのようなドライプロセスあるいはエッチャントによるウェットプロセスによって除去する方法や、さらには、低くする方の層の高さ分だけメタライズした後、低くする部分をマスキングした上で再度メタライズする方法等を適用して形成することができる。
次いでAu/Pt/Tiメタライズ層6の高い部分と低い部分に、それぞれパッド状のAuSn半田(例えばAu80Sn20半田)7,7を配置する。これらのパッド状AuSn半田7,7は例えば150×500μmの大きさに形成され、互いに例えば10μmの間隔を置いて配置される。そしてこれらのAuSn半田7,7の上に、一例として概略400×600×100μmのサイズで、表面に電極層1a、1bが形成されているチップ状GaN系半導体レーザー素子1を配置し、330℃に加熱してAuSn半田7,7を融解させることにより、該GaN系半導体レーザー素子1を電極層1a、1b側からAlNサブマウント2に接着固定する。
次いで、上表面にAu/Niメッキ層8および濡れ改善層としてのAu/Pt/Tiメタライズ層9が形成されているCu放熱ブロック3の上にAuSn半田11を配置し、その上にAu/Pt/Tiメタライズ層4を下にしてAlNサブマウント2を配置し、310℃に加熱してAuSn半田11を融解させることにより、AlNサブマウント2をCu放熱ブロック3に接着固定する。以上により、GaN系半導体レーザー素子1がAlNサブマウント2を介してCu放熱ブロック3に固定される。
本実施の形態においてGaN系半導体レーザー素子1は、GaNからなる基板側が上に位置する向きに配置され、素子形成面側(pn接合側)がCu放熱ブロック3に固定されて、いわゆるフェースダウン構造で実装がなされる。
またこの構造において、GaN系半導体レーザー素子1の発光点は、図7においてQで示す、AlNサブマウント2側に突出したリッジ部内にある。そしてAuSn半田7、Au/Pt/Tiメタライズ層6およびAu/Pt/Tiメタライズ層5には、それらを分割する溝12が形成され、GaN系半導体レーザー素子1はその発光部の直下に上記溝12が位置するように接着される。
なおGaN系半導体レーザー素子1のn側電極を、Au/Pt/Tiメタライズ層6の高い部分に対面する位置に形成するとともに、Au/Pt/Tiメタライズ層6の高い部分と低い部分とを互いに絶縁された状態に形成して、それらの両部分にそれぞれn側電極、p側電極を導通させるようにしてもよい。また、電極配線機能を持たせるAu/Pt/Tiメタライズ層5以外のメタライズ層4,6および9は、Au/Pt/Tiに代えてPt/Tiから形成してもよい。
本実施の形態の半導体発光装置10においてAlNサブマウント2の厚さtは、前述の0.4mmとされている。それにより、GaN系半導体レーザー素子1の発光層における内部応力が低く抑えられ、また素子寿命が改善されることは、先に述べた通りである。
また本実施の形態の半導体発光装置10は、AlNサブマウント2に対してGaN系半導体レーザー素子1がフェースダウン構造で固定されていることにより、GaN系半導体レーザー素子1の基板側をAlNサブマウント2に固定する場合と比べて該素子1の発光部がサブマウント2に、ひいては放熱ブロック3に対してより近接して位置するので、良好に放熱がなされるものとなる。
なお、GaN系半導体レーザー素子1が上述のようにして接着されたAlNサブマウント2を、Cu放熱ブロック3の上に1列に並べて接着することにより、複数のGaN系半導体レーザー素子1が並設されてなるアレイレーザー装置を形成することもできる。図9には、そのようなアレイレーザー装置の一例として、GaN系半導体レーザー素子1が7個並設されてなるものを示す。
このようなアレイレーザー装置において各GaN系半導体レーザー素子1から射出された光ビームを例えば合波用光学系に結合させるような構成においては、発光点位置の経時的変動が有ると、それによって結合効率が低下してしまう。そこで、発光点位置の経時的変動を前述の通りにして抑制できる本発明の構成をこの種のアレイレーザー装置に適用すれば、結合効率が低下することを防止できる。
また本発明は、窒化物系化合物半導体発光素子としてGaN系半導体レーザー素子1等の窒化物系化合物半導体レーザーを用いる場合に限らず、発光ダイオード(LED)を含むその他の窒化物系化合物半導体発光素子を用いる場合にも同様に適用可能である。さらに、銅のみからなる前述の放熱ブロック3に代えて、テルル銅、銅タングステン(CuW)からなる放熱ブロック等を採用することもできる。
さらに本発明は、例えば特開2002−202442号公報に示されているように、パッケージの中に複数の半導体発光素子および、それらから発せられたレーザービームを1本の光ビームに合波結合する光学要素を収容してなる合波レーザーモジュールにおいて、パッケージの底板あるいはその上に接合されたベース板の上に放熱ブロックを接合し、その放熱ブロック上にチップ状態の半導体発光素子を固定したような構造に対しても適用可能である。すなわち、そのような構造において、上記パッケージの底板あるいはその上に接合されたベース板を上記銅、テルル銅あるいは銅タングステン等の金属から形成して放熱体とし、その上に接合される放熱ブロックおよびサブマウントをAlN等の電気絶縁体から形成し、その電気絶縁体の厚さtを0.4mm以上とすれば、既に述べた通りの本発明による効果を得ることができる。
また、電気絶縁体はAlNに限ることなくシリコン(Si)、多結晶ダイヤモンド(C)、窒化ホウ素(BN)、アルミナ(Al2O3)、酸化ベリリュウム(BeO)を用いてそれらの厚みtをσ(t)/σ(0)≦2.5×10-2の範囲に設定すれば同様な効果を達成できる。
1 GaN系半導体レーザー素子
2 AlNサブマウント
3 Cu放熱ブロック
4、5、6、9 Au/Pt/Tiメタライズ層
8 Au/Niメッキ層
7、11 AuSn半田
10 半導体発光装置
2 AlNサブマウント
3 Cu放熱ブロック
4、5、6、9 Au/Pt/Tiメタライズ層
8 Au/Niメッキ層
7、11 AuSn半田
10 半導体発光装置
Claims (5)
- チップ状態の半導体発光素子が、電気絶縁体を介して放熱体上に固定されてなる半導体発光装置において、
前記電気絶縁体の厚さが0.4mm以上とされていることを特徴とする半導体発光装置。 - チップ状態の半導体発光素子が、電気絶縁体を介して放熱体上に固定されてなる半導体発光装置において、
前記電気絶縁体が無い場合、前記電気絶縁体の厚さがtである場合に前記半導体発光素子の発光層に発生する内部応力をそれぞれσ(0)、σ(t)としたとき、
前記電気絶縁体の厚さtが、σ(t)/σ(0)≦2.5×10-2となる範囲に設定されていることを特徴とする半導体発光装置。 - 前記半導体発光素子が窒化物系半導体発光素子であり、前記電気絶縁体がAlNからなるものであり、前記放熱体がCuあるいはCu合金からなるものであることを特徴とする請求項1または2記載の半導体発光装置。
- 前記電気絶縁体が、シリコン、多結晶ダイヤモンド、窒化ホウ素、アルミナ、酸化ベリリュウムの何れかよりなることを特徴とする請求項1または2記載の半導体発光装置。
- 前記放熱体がCuあるいはCu合金からなるものであることを特徴とする請求項4記載の半導体発光装置。
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2005
- 2005-06-16 JP JP2005176360A patent/JP2006351847A/ja not_active Withdrawn
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