JP5427421B2

JP5427421B2 - タッチパネル

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Publication number: JP5427421B2
Application number: JP2009009367A
Authority: JP
Inventors: 孝中島; 信吉清水; 幸一近藤; 正伸羽山; 孝夫遠藤
Original assignee: Fujitsu Component Ltd
Current assignee: Fujitsu Component Ltd
Priority date: 2009-01-19
Filing date: 2009-01-19
Publication date: 2014-02-26
Anticipated expiration: 2029-01-19
Also published as: JP2010165322A; CN101782828B; KR20100084986A; US20100182277A1; TWI421743B; KR101108736B1; TW201030577A; CN101782828A; US8144128B2

Description

本発明は、タッチパネル及びタッチパネルによる座標位置検出方法に関する。

タッチパネルは、ディスプレイに直接入力をすることが可能な入力デバイスであり、ディスプレイの前面に設置して使用される。このタッチパネルは、ディスプレイにより視覚的にとらえた情報に基づき、直接入力することができることから、様々な用途において普及している。

このようなタッチパネルとしては、抵抗膜方式が広く知られている。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電膜が形成された上部電極基板及び下部電極基板において、各々の透明導電膜同士が対向するように設置し、上部電極基板の一点に力を加えることにより各々の透明導電膜同士が接触し、力の加えられた位置の位置検出を行うことができるものである。

抵抗膜方式のタッチパネルは、４線式と５線式とに大別することができる。４線式は、上部電極基板又は下部電極基板のどちらか一方にＸ軸の電極が設けられており、他方にＹ軸の電極が設けられている。一方、５線式は、下部電極基板にＸ軸の電極及びＹ軸の電極がともに設けられており、上部電極基板は、電圧を検出するためのプローブとして機能するものである（例えば、特許文献１、２）。

具体的に、図１及び図２に基づき５線式のタッチパネルについて説明する。図１は、５線式のタッチパネルの斜視図であり、図２は、５線式のタッチパネルの断面の概要図である。

５線式のタッチパネル２００は、上部電極基板となる一方の面に透明導電膜２３０の形成されたフィルム２１０と、下部電極基板となる一方の面に透明導電膜２４０の形成されたガラス２２０からなり、透明導電膜２３０及び透明導電膜２４０が対向するようにスペーサ２５０を介し設置されている。５線式のタッチパネル２００と不図示のホストコンピュータとはケーブル２６０により電気的に接続されている。

このような構成の５線式のタッチパネル２００では、図３（ａ）に示すように、透明導電膜２４０の端部の４辺に設けられた電極２４１、２４２、２４３、２４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧を印加し、透明導電膜２３０と透明導電膜２４０とが、接触点Ａ点において接触することにより、図３（ｂ）に示すように、透明導電膜２３０を介し電位Ｖａを検出し、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の座標位置を検出する方式である。

特開２００４−２７２７２２号公報特開２００８−２９３１２９号公報

ところで、上述した５線式のタッチパネルでは、一点における接触位置は検出することは可能であるが、複数点が同時に接触した場合には位置検出をすることができない。

即ち、図４（ａ）に示すように、透明導電膜２４０の４辺に設けられた電極２４１、２４２、２４３、２４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧を印加した場合において、透明導電膜２３０と透明導電膜２４０とが接触点Ａ点及びＢ点の２点において接触すると、Ａ点とＢ点の間の中間点における一点の座標位置が検出されてしまう。これは、図４（ｂ）に示すように、電位検出による位置検出方法であることから、接触点Ａ点及びＢ点の二点で接触した場合であっても、透明導電膜２３０を介し検出される電位はＶｃの１つだけであるため、接触点が一点であるものと判断してしまうためである。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、複数の接触点が同時に接触した場合においても、各々の接触位置を検出することができるとともに、接触位置が移動した場合においても、位置検出が可能なタッチパネル及びタッチパネルによる座標位置検出方法を提供することを目的とするものである。

本発明は、絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、を有するタッチパネルであって、前記上部導電膜は透明導電膜の形成されていない分割領域により複数の導電領域に分割されており、前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出することを特徴とする。

また、本発明は、前記分割領域が交差する部分において、前記上部導電膜は円形に除去されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記領域は、前記上部導電膜の中心より放射状に設けられた分割領域により分割されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部導電膜の中心部分において、前記上部導電膜は円形に除去されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部導電膜の中心部分に、前記導電領域が設けられていることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部導電膜の中心部分に設けられた前記導電領域は、前記上部導電膜の縁部に延びる引き出し導電領域を有することを特徴とする。

また、本発明は、前記引き出し導電領域上には、絶縁膜が設けられていることを特徴とする。

また、本発明は、前記下部導電膜は、透明導電膜に代えて、光を透過しない導電膜であることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部導電膜は、透明導電膜に代えて、光を透過しない導電膜であることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部導電膜及び前記下部導電膜は、透明導電膜に代えて、光を透過しない導電膜であることを特徴とする。

また、本発明は、絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、を有するタッチパネルにおける座標位置検出方法であって、前記上部導電膜は複数の導電領域に分割されており、前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出することを特徴とする。

また、本発明は、前記タッチパネルにおける接触点が、複数点の接触であるか、単一点の接触であるかの判断を行い、前記複数点の接触であるとの判断がなされた場合には、前記記載の座標位置検出方法によりタッチパネルによる座標位置検出を行うことを特徴とする。

また、本発明は、前記接触位置が移動した場合に、移動位置、または、移動方向を検出することを特徴とする。

本発明によれば、複数の接触点が同時に接触した場合においても、各々の接触位置を検出することができるとともに、接触位置が移動した場合においても、位置検出が可能なタッチパネル及びタッチパネルによる座標位置検出方法を提供することができる。

従来の５線式のタッチパネルの斜視図従来の５線式のタッチパネルの断面概要図従来の５線式のタッチパネルにおける座標検出方法の説明図（１）従来の５線式のタッチパネルにおける座標検出方法の説明図（２）第１の実施の形態に係るタッチパネルの断面概要図第１の実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図第１の実施の形態に係るタッチパネルにおける座標検出方法の説明図図６における破線６Ａ−６Ｂにおいて切断した断面図第１の実施の形態に係る別のタッチパネルの上部電極基板の構成図（１）第１の実施の形態に係る別のタッチパネルの上部電極基板の構成図（２）第２の実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図第３の実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図図１２における破線１２Ａ−１２Ｂにおいて切断した断面図第４の実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図図１４における破線１４Ａ−１４Ｂにおいて切断した断面図第５の実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図第５の実施の形態に係るタッチパネルの導電領域の構成図第５の実施の形態に係るタッチパネルの別の導電領域の構成図（１）第５の実施の形態に係るタッチパネルの別の導電領域の構成図（２）図１９に示す導電領域の変形例の構成図第６の実施の形態に係る座標位置検出方法のフローチャート（１）第６の実施の形態に係る座標位置検出方法のフローチャート（２）第６の実施の形態に係る座標位置検出方法のフローチャート（３）第６の実施の形態に係る座標位置検出方法のフローチャート（４）第６の実施の形態に係る座標位置検出方法の説明図（１）第６の実施の形態に係る座標位置検出方法の説明図（２）

本発明を実施するための形態について、以下に説明する。

〔第１の実施の形態〕
本発明に係る第１の形態について説明する。図５は本実施の形態に係るタッチパネルの断面図であり、図６は本実施の形態に係るタッチパネルにおける上部電極基板の構成図である。

本実施の形態に係るタッチパネルは、上部電極基板となる一方の面に透明導電膜３０の形成されたフィルム１０と、下部電極基板となる一方の面に透明導電膜４０の形成されたガラス２０からなり、上部導電膜である透明導電膜３０及び下部導電膜である透明導電膜４０が対向するようにスペーサ５０を介し設置されている。尚、本実施の形態に係るタッチパネルと不図示のホストコンピュータとはケーブル６０により電気的に接続されている。

上部電極基板となるフィルム１０上に設けられた透明導電膜３０は、透明導電膜３０を除去することにより形成された分割領域７１ａ、７１ｂにより、導電領域３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄに分割されている。分割された導電領域３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄには、各々電極８１ａ、８１ｂ、８１ｃ、８１ｄが接続されており、各々の導電領域３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄにおいて、透明導電膜４０と接触した場合、各々の導電領域３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄにおける位置検出が可能である。このため、透明導電膜４０と透明導電膜３０との接触点が複数の場合、例えば、複数の導電領域において透明導電膜４０と接触した場合であっても、接触した導電領域を特定することができるとともに、透明導電膜４０における電位分布を検出することにより、より正確に座標位置も検出することが可能である。また、透明導電膜４０と透明導電膜３０との接触点を矢印に示す方向に移動させた場合において、接触点が移動したことを認識することができるとともに、透明導電膜４０における電位分布を検出することにより、移動した座標位置も検出することが可能である。尚、形成される分割領域の幅は、１ｍｍ以下であることが好ましい。タッチパネルにおいては、形成される分割領域の幅が広くなると、検出不能領域が多くなってしまい、タッチパネルとしての機能に支障をきたしてしまう。よって、タッチパネルに接触が想定されるものが指またはペン等であり。ペン等の先端は半径０．８ｍｍ程度であることから、分割領域の幅が１ｍｍ以下であれば、タッチパネルとしての機能に支障をきたさないものと考えられるからである。

図７は、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、接触点Ａ点と接触点Ｂ点との２点において透明電極３０と透明電極４０とが接触した場合の様子を示す。尚、下部電極基板におけるガラス２０上の透明導電膜４０の４辺に設けられた電極４１、４２、４３、４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧が印加される。図に示されるように、接触点Ａ点は、透明電極３０の導電領域３１ｃにおいて、透明導電膜４０と接触しており、接触点Ｂ点は、透明電極３０の導電領域３１ａにおいて、透明導電膜４０と接触している。このため、接触点Ａ点と接触点Ｂ点とは、導電領域３１ｃ及び導電領域３１ａにおいて別々に独立して検出される。よって、本実施の形態におけるタッチパネルでは、複数点で接触した場合であっても各々の接触点を同時に検出することが可能である。

図８は、図６における上部電極基板において破線６Ａ−６Ｂにおいて切断した断面図である。図に示されるように、透明電極膜３０は、透明導電膜３０が除去された分割領域７１ａにより、導電領域３１ｃ、３１ｄに分離されている。分割領域７１ａ及び７１ｂの形成方法は、透明導電膜３０にレーザ光を照射し、レーザ光の照射された部分の透明導電膜３０を熱により除去する方法、透明導電膜３０上にフォトレジストを塗布し、露光装置により露光、現像を行うことにより導電領域３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄのみレジストパターンを形成し、ドライエッチング又はウエットエッジングにより、レジストパターンの形成されていない領域の透明導電膜３０を除去する方法、更には、透明導電膜３０における分割領域７１ａ及び７１ｂに形成される領域上にエッチングペーストを印刷等し除去する方法等により形成することが可能である。尚、本実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板においては、フィルム１０の透明導電膜３０が形成されている側と反対側に、ハードコート層１１が形成されている。

また、図９に示すように、本実施の形態におけるタッチパネルは、上部電極基板であるフィルム１０の対角線上に分割領域７２ａ及び７２ｂを形成してもよい。この分割領域７２ａ及び７２ｂにより、透明導電層３０には、導電領域３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄが形成される。尚、導電領域３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄには、各々電極８２ａ、８２ｂ、８２ｃ、８２ｄが接続されている。これにより矢印の示す様に接触点が移動した場合において、接触点の移動の検出を行うことができる。タッチパネルの用途により、このような形状に導電領域を形成することが好ましい場合があるからである。

更に、図１０に示すように、本実施の形態におけるタッチパネルは、上部電極基板であるフィルム１０の対角線上及びフィルム１０の辺に沿って分割領域７３ａ、７３ｂ、７３ｃ、７３ｄを形成してもよい。この分割領域７３ａ、７３ｂ、７３ｃ、７３ｄにより、透明導電層３０には、導電領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅ、３３ｆ、３３ｇ、３３ｈが形成される。尚、導電領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅ、３３ｆ、３３ｇ、３３ｈには、各々電極８３ａ、８３ｂ、８３ｃ、８３ｄ、８３ｅ、８３ｆ、８３ｇ、８３ｈが接続されている。これにより矢印の示す様に接触点が移動した場合において、接触点の移動の検出を行うことができる。導電領域の分割数を増やすことにより、より精度の高い座標位置検出が可能となる。

〔第２の実施の形態〕
次に、本発明に係る第２の実施の形態について説明する。図１１は、本実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図である。本実施の形態におけるタッチパネルの上部電極基板における透明導電膜３０は、直線状に形成された分割領域７４ａ、７４ｂ、７４ｃ、７４ｄの他に、中心部分に円形の透明導電膜除去領域９１を設けた構成のものである。分割領域７４ａ、７４ｂ、７４ｃ、７４ｄが交差する中心部分においては、導電領域が細かくなるため位置検出が困難になることから、透明導電膜除去領域９１を設けることにより、位置検出の揺らぎを防止するためである。尚、分割領域７４ａ、７４ｂ、７４ｃ、７４ｄにより、導電領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、３４ｈが形成されており、各々の導電領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、３４ｈには、各々電極８４ａ、８４ｂ、８４ｃ、８４ｄ、８４ｅ、８４ｆ、８４ｇ、８４ｈが接続されている。これにより矢印の示す様に接触点が移動した場合において、接触点の移動の検出を行うことができる。尚、上記以外のタッチパネルの構成については、第１の実施の形態と同様である。

〔第３の実施の形態〕
次に、本発明に係る第３の実施の形態について説明する。図１２は、本実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図である。本実施の形態におけるタッチパネルの上部電極基板における透明導電膜３０は、直線状に形成された分割領域７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄの他に、分割領域７５ｅを設けることにより中心部分に円形の導電領域３５ｋ及び導電引き出し領域３５ｊを形成した構成のものである。分割領域７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄが交差する中心部分においては、導電領域が細かくなるため位置検出が困難になることから、分割領域７５ｅにより形成される導電領域３５ｋを設けることにより、位置検出の揺らぎを防止することができる。

図１３は、図１２における上部電極基板において破線１２Ａ−１２Ｂにおいて切断した断面図である。図に示されるように、透明電極膜３０は、透明導電膜３０が除去された分割領域７５ｅにより、導電領域３５ｂ、３５ｃ、導電引き出し領域３５ｊに分離されている。尚、本実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板においては、フィルム１０の透明導電膜３０が形成されている側と反対側に、ハードコート層１１が形成されている。

本実施の形態におけるタッチパネルの上部電極基板には、透明導電膜３０を除去することにより形成された分割領域７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄ、７５ｅにより、導電領域３５ａ、３５ｂ、３５ｃ、３５ｄ、３５ｅ、３５ｆ、３５ｇ、３５ｈ、３５ｋ及び３５ｊが形成されており、各々の導電領域３５ａ、３５ｂ、３５ｃ、３５ｄ、３５ｅ、３５ｆ、３５ｇ、３５ｈ、３５ｋ（及び３５ｊ）には、各々電極８５ａ、８５ｂ、８５ｃ、８５ｄ、８５ｅ、８５ｆ、８５ｇ、８５ｈ、８５ｋが接続されており、各々の導電領域３５ａ、３５ｂ、３５ｃ、３５ｄ、３５ｅ、３５ｆ、３５ｇ、３５ｈ、３５ｋにおいて検出される電位等を独立して検出することが可能である。これにより矢印の示す様に接触点が移動した場合において、接触点の移動の検出を行うことができる。尚、上記以外のタッチパネルの構成については、第１の実施の形態と同様である。

〔第４の実施の形態〕
次に、本発明に係る第４の実施の形態について説明する。図１４は、本実施の形態に係るタッチパネルの上部電極基板の構成図である。図１５は、図１４における上部電極基板において破線１４Ａ−１４Ｂにおいて切断した断面図である。本実施の形態におけるタッチパネルの上部電極基板における透明導電膜３０は、縦横に形成された分割領域７６により、導電領域３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄ、３６ｅ、３６ｆ、３６ｇ、３６ｈ、３６ｉ、３６ｊ、３６ｋ、３６ｌに分割されている。各々の導電領域３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄ、３６ｅ、３６ｆ、３６ｇ、３６ｈ、３６ｉ、３６ｊ、３６ｋ、３６ｌには、各々電極８６ａ、８６ｂ、８６ｃ、８６ｄ、３６ｅ、８６ｆ、８６ｇ、８６ｈ、８６ｉ、８６ｊ、８６ｋ、８６ｌが接続されており、各々の導電領域３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄ、３６ｅ、３６ｆ、３６ｇ、３６ｈ、３６ｉ、３６ｊ、３６ｋ、３６ｌにおいて検出される電位等を独立して検出することが可能である。導電領域３６ｆ及び３６ｇは、上部電極基板の中央部に位置することから、導電引き出し領域３６ｍ及び３６ｎが形成されており導電領域３６ｆ及び３６ｇと接続されている。尚、導電引き出し領域３６ｍ及び３６ｎの上には、絶縁層９２ａ及び９２ｂが形成されており、対抗して設けられる透明電極４０との接触を防ぐように構成されている。これにより接触点が移動した場合において、接触点の移動の検出を行うことができる。尚、上記以外のタッチパネルの構成については、第１の実施の形態と同様である。

〔第５の実施の形態〕
次に、本発明に係る第５の実施の形態について説明する。本実施に形態は、透明導電膜３０の分割領域を更に分割した構成のものである。具体的には、図１６及び図１７に示すように、透明導電膜３０を分割領域７７ａ及び７７ｂにより、導電領域３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄに分割したものについて、各々の導電領域３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄをさらに分割領域１７７により矩形状に導電領域１３７ａ及び１３７ｂに分割したものである。導電領域１３７ａ及び１３７ｂには、電極１８７ａ及び１８７ｂが接続されており、透明導電膜３０に対抗して設けられた透明導電膜４０との接触点が矢印で示すように移動した場合であっても、接触点の微小の移動を検出することが可能である。

また、図１８は、図１６に示す導電領域３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄをさらに別の構成により分割したものである。具体的には、各々の導電領域３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄにおける透明導電膜３０を分割領域１７８ａ及び１７８ｂにより導電領域１３８ａ、１３８ｂ、１３８ｃ、１３８ｄに分割したものである。導電領域１３８ａ、１３８ｂ、１３８ｃ、１３８ｄには、各々電極１８８ａ、１８８ｂ、１８８ｃ、１８８ｄが接続されており、透明導電膜３０に対抗して設けられた透明導電膜４０との接触点が矢印で示すように移動した場合であっても、接触点の微小の移動を検出することが可能である。

また、図１９は、図１６に示す導電領域３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄをさらに別の構成により分割したものである。具体的には、各々の導電領域３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄにおける透明導電膜３０をノコギリ状に形成した分割領域１７９ａ、１７９ｂ、１７９ｃ、１７９ｄにより導電領域１３９ａ、１３９ｂ、１３９ｃ、１３９ｄ、１３９ｅに分割したものである。導電領域１３９ａ、１３９ｂ、１３９ｃ、１３９ｄ、１３９ｅには、各々電極１８９ａ、１８９ｂ、１８９ｃ、１８９ｄ、１８９ｅが接続されており、矢印で示すように透明導電膜３０と対抗して設けられた透明導電膜４０との接触点が移動した場合においても、接触点の微小の移動を検出することが可能である。尚、ノコギリ状の分割領域１７９ａ、１７９ｂ、１７９ｃ、１７９ｄにおけるノコギリ形状の深さを浅くしたり深くしたりすることにより、検出に最適な構成とすることができる。例えば、ノコギリ状の形状を深く形成することにより、更に接触点の微小の移動を検出することが可能である。具体的には、図２０に示すように、導電領域１３９ａと１３９ｂとが横軸上でオーバーラップする、即ち、導電領域１３９ａにおける点Ｃが、導電領域１３９ｂにおける点Ｄよりも左側に位置するように分割領域１７９ａ、１７９ｂ、１７９ｃ、１７９ｄを形成することにより、より一層、接触点の微小の移動を検出することが可能となる。尚、上記以外のタッチパネルの構成については、第１の実施の形態と同様である。

〔第６の実施の形態〕
次に、本発明に係る第６の実施の形態について説明する。本実施の形態は、本発明に係るタッチパネルにおける座標位置検出方法である。

図２１及び図２２は、本実施の形態に係るタッチパネルにおける座標検出方法の動作フローを示すメインルーチンのフローチャートである。この動作フローは、第１から第５の実施の形態におけるいずれのタッチパネルにおいても適用可能である。

最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、タッチパネルがオンされているか否かが判断される。具体的には、タッチパネルにおける上部電極基板における透明導電膜３０と下部電極基板における透明導電膜４０とが接触したか否かにより判断される。タッチパネルがＯＮされているものと判断された場合には、ステップ１０４に移行する。一方、タッチパネルがＯＮされていないものと判断された場合には、再度ステップ１０２に移行する。即ち、実質的には、タッチパネルがＯＮされることのより、この動作フローがスタートする。

次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、タッチパネルにおいて複数多点を認識したか否かが判断される。具体的には、透明導電膜３０における複数の分割領域において、複数の接触点が検出された場合には、タッチパネルにおいて複数多点の接触があったものと判断され、ステップ１１６に移行する。一方、複数多点の接触がない場合は、接触点は一点であるものと判断され、ステップ１０６に移行し、従来のアナログ抵抗膜式タッチパネルと同様に、一点の接触点の位置検出が行われる。

次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、Ｘ軸電極対に電圧が印加される。具体的には、図７に示す下部電極基板における透明導電膜４０に接続されたＸ軸電極対となる電極４１、４３間に電圧が印加され、透明導電膜４０においてＸ軸方向に電位分布が形成される。

次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、Ｘ軸座標の電位読み取りが行われる。具体的には、透明導電膜４０と接触している上部電極基板の透明導電膜３０における分割領域のいずれかより、接触点におけるＸ軸座標の電位が読み取られる。

次に、ステップ１１０（Ｓ１１０）において、Ｙ軸電極対に電圧が印加される。具体的には、図７に示す下部電極基板における透明導電膜４０に接続されたＹ軸電極対となる電極４２、４４間に電圧が印加され、透明導電膜４０においてＹ軸方向に電位分布が形成される。

次に、ステップ１１２（Ｓ１１２）において、Ｙ軸座標の電位読み取りが行われる。具体的には、透明導電膜４０と接触している上部電極基板の透明導電膜３０における分割領域のいずれかより、接触点におけるＹ軸座標の電位が読み取られる。

次に、ステップ１１４（Ｓ１１４）において、Ｘ、Ｙ軸座標情報が出力される。具体的には、ステップ１０８及びステップ１１２において検出されたＸ軸座標の電位及びＹ軸座標の電位に基づきＸＹ座標位置が求められ、その情報が出力される。この情報は、必要に応じて不図示のホストコンピュータの画面に表示される。

次に、ステップ１１６（Ｓ１１６）において、接触点が移動しているか否かが判断される。具体的には、下部電極基板における透明導電膜４０と上部電極基板における透明導電膜３０との接触点が、上部電極基板における透明導電膜３０の分割領域を跨って移動したものと判断された場合には、ステップ１１８に移行する。一方、上部電極基板における透明導電膜３０の分割領域を跨って移動したものと判断されない場合には、ステップ１２２に移行する。

次に、ステップ１１８（Ｓ１１８）において、複数多点での指操作方向の認識が行われる。具体的には、上部電極基板における透明導電膜３０と下部電極基板における透明電極４０との接触点の移動方向の認識を行うものであり、後のサブルーチンの説明において詳細に説明する。

次に、ステップ１２０（Ｓ１２０）において、ステップ１１８により得られた情報をもとに、不図示のホストコンピュータの画面に移動情報が出力される。この後、ステップ１０２へと移行する。

次に、ステップ１２２（Ｓ１２２）において、複数の接触点間における幅が拡大しているか又は縮小しているか否かが判断される。具体的には、下部電極基板における透明導電膜４０と上部電極基板における透明導電膜３０との接触点間が、上部電極基板における透明導電膜３０の分割領域を跨って拡大又は縮小したものと判断された場合には、ステップ１２４に移行する。一方、上部電極基板における透明導電膜３０の分割領域を跨って拡大又は縮小したものと判断されない場合には、ステップ１２８に移行する。

次に、ステップ１２４（Ｓ１２４）において、複数多点での指操作方向の認識が行われる。具体的には、上部電極基板における透明導電膜３０と下部電極基板における透明電極４０とにおける複数の接触点間の移動方向の認識を行うものであり、後のサブルーチンの説明において詳細に説明する。

次に、ステップ１２６（Ｓ１２６）において、ステップ１２４により得られた情報をもとに、不図示のホストコンピュータの画面に移動情報が出力される。この後、ステップ１０２へと移行する。

次に、ステップ１２８（Ｓ１２８）において、複数多点での位置情報の認識が行われる。具体的には、上部電極基板における透明導電膜３０と下部電極基板における透明電極４０とにおける複数の接触点における接触位置を認識するものであり、後のサブルーチンの説明において詳細に説明する。

次に、ステップ１３０（Ｓ１３０）において、ステップ１２８により得られた情報をもとに、不図示のホストコンピュータの画面に移動情報が出力される。この後、ステップ１０２へと移行する。

尚、ステップ１０４における判断は、上記のような判断を行う他、通信コマンドの受信やディップスイッチ等による切替えによる制御に基づき行うことも可能である。

次に、図２３に基づき、ステップ１２８において行われる処理である複数多点での位置情報の認識の処理のサブルーチンについて説明する。

ステップ２０２（Ｓ２０２）における複数多点での位置情報の認識の処理は、ステップ１２８に示すものである。本サブルーチンは例示的に上部電極基板の透明導電膜３０を４分割にした場合について説明するが、分割数を増やした場合においても同様に適用可能である。

最初に、ステップ２０４（Ｓ２０４）において、透明導電膜３０の分割領域となるエリア１における接触があったか否かが判断される。エリア１における接触があった場合には、ステップ２０６に移行し、エリア１における接触がなかった場合には、ステップ２０８に移行する。

次に、ステップ２０６（Ｓ２０６）において、エリア１におけるＸ、Ｙ座標情報認識が行われる。具体的には、エリア１において、透明導電膜３０と透明導電膜４０とが接触している旨のエリア認識、また、透明導電膜４０に形成された電位分布に基づきエリア１内における接触点の位置情報の認識が行われる。

次に、ステップ２０８（Ｓ２０８）において、透明導電膜３０の分割領域となるエリア２における接触があったか否かが判断される。エリア２における接触があった場合には、ステップ２１０に移行し、エリア２における接触がなかった場合には、ステップ２１２に移行する。

次に、ステップ２１０（Ｓ２１０）において、エリア２におけるＸ、Ｙ座標情報認識が行われる。具体的には、エリア２において、透明導電膜３０と透明導電膜４０とが接触している旨のエリア認識、また、透明導電膜４０に形成された電位分布に基づきエリア２内における接触点の位置情報の認識が行われる。

次に、ステップ２１２（Ｓ２１２）において、透明導電膜３０の分割領域となるエリア３における接触があったか否かが判断される。エリア３における接触があった場合には、ステップ２１４に移行し、エリア３における接触がなかった場合には、ステップ２１６に移行する。

次に、ステップ２１４（Ｓ２１４）において、エリア３におけるＸ、Ｙ座標情報認識が行われる。具体的には、エリア３において、透明導電膜３０と透明導電膜４０とが接触している旨のエリア認識、また、透明導電膜４０に形成された電位分布に基づきエリア３内における接触点の位置情報の認識が行われる。

次に、ステップ２１６（Ｓ２１６）において、透明導電膜３０の分割領域となるエリア４における接触があったか否かが判断される。エリア４における接触があった場合には、ステップ２１８に移行し、エリア４における接触がなかった場合には、ステップ２２０に移行する。

次に、ステップ２１８（Ｓ２１８）において、エリア４におけるＸ、Ｙ座標情報認識が行われる。具体的には、エリア４において、透明導電膜３０と透明導電膜４０とが接触している旨のエリア認識、また、透明導電膜４０に形成された電位分布に基づきエリア４内における接触点の位置情報の認識が行われる。

次に、ステップ２２０（Ｓ２２０）において、すべてのエリアにおけるＸ、Ｙ座標情報認識が行われる。この後、メインルーチンに戻る。

次に、図２４に基づきメインルーチンのステップ１１８及びステップ１２４において行われる処理である複数多点での指操作方向の認識の処理のサブルーチンについて説明する。

ステップ３０２（Ｓ３０２）における複数多点での位置情報の認識の処理は、メインルーチンにおけるステップ１１８及びステップ１２４に示すものである。尚、本サブルーチンにおいては、例として、透明導電膜３０における導電領域が５つに分割されている場合について説明する。５つに分割された導電領域は、それぞれ導電領域Ａ、導電領域Ｂ、導電領域Ｃ、導電領域Ｄ、導電領域Ｅとする。

最初に、ステップ３０４（Ｓ３０４）において、タッチパネルにおける接触点のエリアの認識１が行われる。

次に、ステップ３０６（Ｓ３０６）において、一定時間経過後のタッチパネルにおける接触点のエリアの認識２が行われる。

次に、ステップ３０８（Ｓ３０８）において、認識情報の分析が行われる。例えば、２本の指がタッチパネルの上部電極基板を押下した状態で、指をずらすと、ステップ３０４におけるエリアの認識１とステップ３０６におけるエリアの認識２との間で認識結果に変化が生じており、このような認識１と認識２における変化に基づき、認識情報の分析を行う。

次に、ステップ３１０（Ｓ３１０）において、分析結果を不図示のホストコンピュータに報告し、メインルーチンへと戻る。

次に、図２４に示す複数多点での指操作方向の認識の処理のサブルーチンについて、図２５に基づき具体的に説明する。最初に、ステップ３０４におけるエリアの認識１により、導電領域Ｃ及びＤにおいて指によるタッチ操作されている旨が認識される。

次に、ステップ３０６におけるエリアの認識２により、例えば、認識２の（１）に示すように、導電領域Ｂ及びＣにおいて指によるタッチ操作が行われている旨が認識される。この場合、ステップ３０８において、２本の指が間隔はそのままの状態で、図面上、左方向に移動したものと分析される。この分析結果は、ステップ３１０において、不図示のホストコンピュータに報告され、ホストコンピュータは、この分析結果に基づき、例えば、ディスプレイ上に表示されている画像を左側にスクロール処理を実行する。

また、ステップ３０６において、認識２（２）に示すように、導電領域Ａ及びＣにおいて指によるタッチ操作が行われている旨が認識された場合には、テップ３０８において、２本の指が間隔を広げつつ、図面上、左方向に移動したものと分析される。この分析結果は、ステップ３１０において、不図示のホストコンピュータに報告され、ホストコンピュータは、この分析結果に基づき、例えば、ディスプレイ上に表示されている画像を拡大しながら左側にスクロール処理を実行する。

また、ステップ３０６において、認識２（３）に示すように、導電領域Ｃ及びＥにおいて指によるタッチ操作が行われている旨が認識された場合には、テップ３０８において、２本の指が間隔を広げつつ、図面上、右方向に移動したものと分析される。この分析結果は、ステップ３１０において、不図示のホストコンピュータに報告され、ホストコンピュータは、この分析結果に基づき、例えば、ディスプレイ上に表示されている画像を拡大しながら右側にスクロール処理を実行する。

また、図２６に基づき図２４に示すサブルーチンにおける別の動作について具体的に説明する。最初に、ステップ３０４におけるエリアの認識１により、導電領域Ｂ及びＤにおいて指によるタッチ操作されている旨が認識される。

次に、ステップ３０６におけるエリアの認識２により、例えば、認識２の（１）に示すように、導電領域Ｃ及びＤにおいて指によるタッチ操作が行われている旨が認識される。この場合、ステップ３０８において、２本の指が間隔はそのままの状態で、図面上、右方向に移動したものと分析される。この分析結果は、ステップ３１０において、不図示のホストコンピュータに報告され、ホストコンピュータは、この分析結果に基づき、例えば、ディスプレイ上に表示されている画像を右側にスクロール処理を実行する。

また、ステップ３０６において、認識２の（２）に示すように、導電領域Ｂ及びＣにおいて指によるタッチ操作が行われている旨が認識された場合には、テップ３０８において、２本の指が間隔を狭めながら、図面上、左方向に移動したものと分析される。この分析結果は、ステップ３１０において、不図示のホストコンピュータに報告され、ホストコンピュータは、この分析結果に基づき、例えば、ディスプレイ上に表示されている画像を縮小しながら左側にスクロール処理を実行する。

また、ステップ３０６において、認識２の（３）に示すように、導電領域Ｄ及びＥにおいて指によるタッチ操作が行われている旨が認識された場合には、テップ３０８において、２本の指が間隔を狭めながら、図面上、右方向に移動したものと分析される。この分析結果は、ステップ３１０において、不図示のホストコンピュータに報告され、ホストコンピュータは、この分析結果に基づき、例えば、ディスプレイ上に表示されている画像を縮小しながら右側にスクロール処理を実行する。

また、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。

本発明は、５線式の抵抗膜式タッチパネルに適用することができ、各種情報処理機器のディスプレイが、５線式の抵抗膜式タッチパネルで構成される場合に有用である。この場合の情報処理機器の例としては、携帯電話、情報携帯端末（ＰＤＡ）、携帯音楽プレイヤー、携帯画像プレイヤー、携帯ブラウザ、ワンセグチューナー、電子辞書、カーナビゲーションシステム、コンピュータ、ＰＯＳ端末、在庫管理端末、ＡＴＭ、各種マルチメディア端末等がある。

１０フィルム
１１ハードコート層
２０ガラス
３０透明導電膜
３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ導電領域
４０透明導電膜
４１、４２、４３、４４電極
５０スペーサ
６０ケーブル
７１ａ、７１ｂ分割領域
８１ａ、８１ｂ、８１ｃ、８１ｄ電極

Claims

絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、
前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、
前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、
を有するタッチパネルであって、
前記上部導電膜は透明導電膜の形成されていない分割領域により複数の導電領域に分割されており、
前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出するものであって、
前記領域は、前記上部導電膜の中心より放射状に設けられた分割領域により分割されており、
前記上部導電膜の中心部分において、前記上部導電膜は円形に除去されていることを特徴とするタッチパネル。
絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、
前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、
前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、
を有するタッチパネルであって、
前記上部導電膜は透明導電膜の形成されていない分割領域により複数の導電領域に分割されており、
前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出するものであって、
前記領域は、前記上部導電膜の中心より放射状に設けられた分割領域により分割されており、
前記分割領域が交差する部分において、前記上部導電膜は円形に除去されていることを特徴とするタッチパネル。
絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、
前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、
前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、
を有するタッチパネルであって、
前記上部導電膜は透明導電膜の形成されていない分割領域により複数の導電領域に分割されており、
前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出するものであって、
前記上部導電膜の中心部分において、前記上部導電膜は円形に除去されていることを特徴とするタッチパネル。
絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、
前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、
前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、
を有するタッチパネルであって、
前記上部導電膜は透明導電膜の形成されていない分割領域により複数の導電領域に分割されており、
前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出するものであって、
前記分割領域が交差する部分において、前記上部導電膜は円形に除去されていることを特徴とするタッチパネル。
絶縁体の基板上に形成された透明導電膜からなる下部導電膜と、
前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の４方の端部に設けられた４つの電極と、
前記下部導電膜に対向して設けられており、前記下部導電膜と接触することにより前記下部導電膜における電位を検出するための透明導電膜からなる上部導電膜と、
を有するタッチパネルであって、
前記上部導電膜は透明導電膜の形成されていない分割領域により複数の導電領域に分割されており、
前記導電領域の各々において、前記下部導電膜との接触位置における電位を検出することにより、前記下部導電膜と接触する複数の座標位置を検出するものであって、
前記上部導電膜の中心部分に、前記導電領域が設けられていることを特徴とするタッチパネル。
前記上部導電膜の中心部分に設けられた前記導電領域は、前記上部導電膜の縁部に延びる引き出し導電領域を有することを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
前記引き出し導電領域上には、絶縁膜が設けられていることを特徴とする請求項６に記載のタッチパネル。
前記下部導電膜は、透明導電膜に代えて、光を透過しない導電膜であることを特徴とする請求項１から７に記載のタッチパネル。
前記上部導電膜は、透明導電膜に代えて、光を透過しない導電膜であることを特徴とする請求項１から８に記載のタッチパネル。
前記上部導電膜及び前記下部導電膜は、透明導電膜に代えて、光を透過しない導電膜であることを特徴とする請求項１から９に記載のタッチパネル。