JP5416479B2 - 導電性黒色組成物及びプラズマディスプレイパネルにおけるその使用 - Google Patents
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(d)カルボキシル基含有樹脂
(e)光重合性モノマー、及び
(f)光重合開始剤
を配合する。
(d)成分は、特に限定されず、当該分野で公知のものを使用することができる。例えば、不飽和カルボン酸のホモポリマーやコポリマー、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物とのコポリマーが挙げられる。
(e)成分は、感光性を有する炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物であれば、特に限定されず、当該分野で公知のものを使用することができる。具体的な例として、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリグリセロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドンなどが挙げられる。
(f)成分は、特に限定されず、当該分野で公知のものを使用することができる。具体的な例として、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサノン,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、1−フェニル−1,2−ブタンジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ナフタレンスルホニルクロリド、キノリンスルホニルクロリド、N−フェニルチオアクリドン、4,4’−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、フェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド、カンファーキノン、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、及びエオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられる。
(e)成分は、解像度の点から、1〜10質量部が好ましく、より好ましくは4〜8質量部である。
(f)成分は、解像度の点から、0.1〜10質量部が好ましく、より好ましくは0.5〜4質量部である。
(1)ガラス基板上に、本発明の導電性黒色組成物のペーストを塗布し、乾燥させる。
(2)次いで、所定の露光パターンを有するパターンマスクを重ね合わせ、露光した後、アルカリ水溶液等の現像液により現像して、電極パターンを形成する。
(3)その後、焼成して、一層構造のバス電極を形成する。焼成温度は、例えば600℃以下とすることができ、300〜450℃温度域での脱バインダ過程、及びそれに続く600℃以下のAg焼結過程を含む温度プロファイル条件を採用することもできる。
以下のようにして、実施例及び比較例の各ペーストを用いて、バス電極を作成した。
(1)PDP用ガラス基板(50mm×75mm、厚み2.8mm)にペーストを全面印刷した(48mm×70mm、ポリエステル350メッシュ、乳剤厚10μm)。
(2)80℃、10分の条件で乾燥させた。
(3)所定のパターンマスクを介し、UV200mJ/cm2照射を行った(スポットUV照射機SP−7(USHIO製)、10mW/cm2)。
(4)所定時間(TTC(The Total Cleaning Time)×1.5)、アルカリ現像液をスプレーし、取り出し後、直ちに水洗した。
(5)エアーで水分除去した後、メッシュベルト式連続炉で、580℃、10分の条件で焼成してバス電極を作製した。
上記のようにして、各ペーストで、異なるパターンマスクを使用して、ライン/スペースが50μm/50μm、100μm/100μm、200μm/200μmのバス電極を作製することができた。
〔比抵抗〕
上記のバス電極と同様にして、幅 1mm×長さ 100mmのパターンを作製して、LCRメーターを用い、パターン両端部間の抵抗を測定した。その後、表面粗さ計を用い、パターンの膜厚さを測定した。これらの測定値を用い、比抵抗を算出した。
〔L*値〕
上記のバス電極と同様にして、20mm×20mmパターンを作製して、L*値を、ガラス面より色彩計NF999(日本電色工業製)で測定した。L*値が小さいほど、黒色度に優れる。
2 背面側基板
3 透明電極
4 バス電極
5 誘電体層
6 保護層
7 誘電体層
8 アドレス電極
9 隔壁
10 蛍光体
11 観察者
Claims (7)
- (a)Ag粉末
(b)Fe−Co−Ni−Cr系黒色顔料、及び
(c)ガラスフリット
を含み、
(b)成分が、平均粒子径0.01〜5μmのFe−Co−Ni−Cr系黒色顔料であり、
(a)成分100質量部に対して、(b)成分が2〜12質量部、(C)成分が1〜25質量部である、導電性黒色組成物。 - プラズマディスプレイパネルのバス電極形成用の請求項1記載の組成物。
- さらに、(d)カルボキシル基含有樹脂、(e)光重合性モノマー及び(f)光重合開始剤を含む、請求項1または請求項2記載の組成物。
- さらに、(g)有機バインダを含む、請求項1〜3のいずれか1項記載の組成物。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の組成物を用いて得られたバス電極。
- 一層構造である、請求項5記載のバス電極。
- 請求項5又は6記載のバス電極を備えたプラズマディスプレイパネル。
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