JP5411036B2 - Wiring board manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、貫通孔を有する基板の電極が設けられていない面に設けられた配線と、貫通孔の内側面に設けられ配線と電気的に接続された貫通配線と、を備えた配線基板の製造方法に関するものである。  The present invention provides a wiring board comprising: a wiring provided on a surface of a substrate having a through hole provided with no electrode; and a through wiring provided on an inner surface of the through hole and electrically connected to the wiring. It relates to a manufacturing method.

従来、基板の両面に配線が形成され、これらの配線同士がスルーホールを介して電気的に接続された両面配線基板の製造方法としては、以下の方法が開示されている。
スルーホールを設けた基板の表面に、スクリーン印刷法などにより、流下性を有する銀ペーストなどの導電性ペーストにて第一の配線パターンを形成する。この際、スルーホールの上にも印刷する。
このように、基板の表面に導電性ペーストを印刷すると、導電性ペーストが直ちに、スルーホールの内側面を流下し、スルーホールの中央部で停止する。
Conventionally, the following method has been disclosed as a method for manufacturing a double-sided wiring board in which wirings are formed on both surfaces of a substrate and these wirings are electrically connected to each other through through holes.
A first wiring pattern is formed on the surface of the substrate provided with the through hole by a conductive paste such as a silver paste having flowability by a screen printing method or the like. At this time, printing is also performed on the through hole.
As described above, when the conductive paste is printed on the surface of the substrate, the conductive paste immediately flows down the inner surface of the through hole and stops at the center of the through hole.

第一の配線パターンが形成された基板を加熱して、導電性ペーストを乾燥させた後、基板を上下逆にして、裏面側を上向きに配置する。
次いで、基板の裏面に、スクリーン印刷法などにより、流下性を有する導電性ペーストにて第二の配線パターンを形成する。この際、スルーホールの上にも印刷する。
このように、基板の裏面に導電性ペーストを印刷すると、導電性ペーストが直ちに、スルーホールの内側面を流下し、基板の裏面からの導電性ペーストの先端は、基板の表面側からの導電性ペーストの先端に接触し、導電性ペースト同士がわずかに重なり合う。
この状態で乾燥処理を施すことにより、基板の表面側の導電性ペーストと、基板の裏面側の導電性ペーストとが、スルーホールで電気的に接続された状態で固定される(例えば、特許文献1〜3参照)。
After heating the board | substrate with which the 1st wiring pattern was formed and drying an electrically conductive paste, a board | substrate is turned upside down and a back surface side is arrange | positioned upward.
Next, a second wiring pattern is formed on the back surface of the substrate with a conductive paste having flowability by screen printing or the like. At this time, printing is also performed on the through hole.
Thus, when the conductive paste is printed on the back surface of the substrate, the conductive paste immediately flows down the inner surface of the through hole, and the tip of the conductive paste from the back surface of the substrate is conductive from the front surface side of the substrate. The conductive paste contacts the tip of the paste and slightly overlaps the conductive paste.
By performing a drying process in this state, the conductive paste on the front side of the substrate and the conductive paste on the back side of the substrate are fixed in a state of being electrically connected through a through hole (for example, Patent Document 1-3).

特開平8−236891号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-236891 特開2003−6589号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-6589 特開2004−310718号公報JP 2004-310718 A

従来の両面配線基板の製造方法では、印刷時に基板に対して導電性ペーストを塗布する力が弱いと、スルーホール内に導電性ペーストが十分に充填されないため、導電性ペーストを塗布する力を強くすると、スルーホールの上に印刷された導電性ペーストは、勢いよくスルーホールの内部に流下する。すると、銀ペーストなどの導電性ペーストは、それに含まれる銀粒子などの導電性粒子の比重が重いため、導電性ペーストがスルーホールの内部に留まることなく、落下してしまう。そのため、基板の表面または裏面に印刷された導電性ペーストと、スルーホールの内部に流下した導電性ペーストとは、基板の表面または裏面と、スルーホールとの境(スルーホールの開口端)にてちぎれてしまい、スルーホールの内部には導電性ペーストが残らずに、結果として、スルーホールの内部に配線が形成されないという問題があった。また、仮にスルーホールの内側面に導電性ペーストが残ったとしても、その導電性ペーストの量はわずかであるため、乾燥により導電性ペーストが収縮してしまい、結果として、基板の表面または裏面に形成された配線と、スルーホールの内側面に形成された配線とが、スルーホールの開口端にて断線するという問題があった。
また、導電性ペーストが、スルーホールから下に落ちずに、スルーホールの開口部を覆ってしまうことがある。この場合、スルーホール内には空気が溜まってしまうため、スルーホールの内側面に導電性ペーストが残らないという問題があった。
In the conventional method for manufacturing a double-sided wiring board, if the force for applying the conductive paste to the substrate at the time of printing is weak, the conductive paste is not sufficiently filled in the through hole. Then, the conductive paste printed on the through hole flows down into the through hole. Then, since the conductive paste such as silver paste has a heavy specific gravity of conductive particles such as silver particles contained therein, the conductive paste falls without staying inside the through hole. Therefore, the conductive paste printed on the front or back surface of the substrate and the conductive paste that has flowed down into the through hole are at the boundary between the front or back surface of the substrate and the through hole (opening end of the through hole). As a result, the conductive paste does not remain inside the through hole, and as a result, there is a problem that no wiring is formed inside the through hole. Even if the conductive paste remains on the inner surface of the through hole, the amount of the conductive paste is small, and the conductive paste shrinks due to drying. There is a problem that the formed wiring and the wiring formed on the inner surface of the through hole are disconnected at the opening end of the through hole.
In addition, the conductive paste may cover the opening of the through hole without falling down from the through hole. In this case, since air accumulates in the through hole, there is a problem that the conductive paste does not remain on the inner surface of the through hole.

そこで、本発明者等は、印刷により、導電性ペーストからなる配線パターンを形成するとともに、配線パターンに貫通孔の中央部を少なくとも含む導電性ペーストの未塗布部分を設けることにより、上述の問題を解決できることを見出した。すなわち、本発明者等は、前記の導電性ペーストの未塗布部分がスルーホールの開口部に対向するように、印刷により、導電性ペーストからなる配線パターンを形成することにより、スルーホールの内側面に導電性ペーストを十分に塗布することができることを見出した。  Therefore, the present inventors have formed the wiring pattern made of the conductive paste by printing, and provided the uncoated portion of the conductive paste including at least the central portion of the through hole in the wiring pattern, thereby solving the above-mentioned problem. I found that it can be solved. That is, the present inventors formed a wiring pattern made of a conductive paste by printing so that an uncoated portion of the conductive paste is opposed to the opening of the through hole. It was found that the conductive paste can be sufficiently applied.

しかしながら、このような両面配線基板の製造では、基板にスルーホールを形成した後、基材の両面に、導電性ペーストを印刷するとともに、スルーホール上にも導電性ペーストを印刷して、スルーホール内に導電性ペーストを充填するが、その際、スルーホール上への導電性ペーストの印刷において版のずれにより未塗布部分の位置ズレが生じることがあった。そのため、スルーホールの内側面に導電性ペーストを十分に塗布することができないという問題があった。  However, in the manufacture of such a double-sided wiring board, after forming a through hole in the substrate, the conductive paste is printed on both sides of the base material, and the conductive paste is also printed on the through hole. In this case, the conductive paste is filled. At this time, in printing of the conductive paste on the through hole, the misalignment of the uncoated portion may occur due to the displacement of the plate. Therefore, there is a problem that the conductive paste cannot be sufficiently applied to the inner side surface of the through hole.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基板の一方の面に、導電性ペーストにより配線を形成するとともに、基板に形成された貫通孔の内側面に導電性ペーストにより、基板の他方の面に形成された配線と電気的に接続された貫通配線を確実に形成することができる配線基板の製造方法を提供することを目的とする。  The present invention has been made in view of the above circumstances, in which a wiring is formed on one surface of a substrate with a conductive paste, and a conductive paste is formed on an inner surface of a through-hole formed in the substrate. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a wiring board capable of reliably forming a through wiring electrically connected to a wiring formed on the other surface of the wiring board.

本発明の配線基板の製造方法は、基板と、該基板に設けられた配線および該配線に連接するランド部と、前記基板の貫通孔の内側面に設けられ、前記配線と電気的に接続され、他方の面と電気的に接続するための貫通配線と、を備えた配線基板の製造方法であって、少なくとも2つの貫通孔が設けられた基板の一方の面に、印刷により、導電性ペーストからなる配線パターンと、前記貫通孔の開口端部を含み、前記配線パターンに連接する前記導電性ペーストからなるランド部パターンとを形成するとともに、前記ランド部パターンには、前記導電性ペーストの未塗布部分をスリット状に、間隔を置いて並列に複数設けたスリット形成領域を設けることにより、前記貫通孔の内側面に前記導電性ペーストからなる導電パターンを形成する工程Aと、前記配線パターン、前記ランド部パターンおよび前記導電パターンを硬化させて、配線、ランド部および貫通配線を形成する工程Bと、を有し、前記工程Aにおいて、前記少なくとも2つの貫通孔のうちの1つの貫通孔αの中心に、前記複数の未塗布部分のうちの1つの未塗布部分βの中心が重なるように、前記スリット形成領域を配置した位置から、前記スリット形成領域が、そのスリットの幅方向にずれて、前記未塗布部分βが、前記貫通孔αと重なる位置から外れ始めるにしたがって、前記未塗布部分βとは別の未塗布部分βが、前記貫通孔αと隣り合う貫通孔αに重なり始めるという関係を満たすような前記スリット形成領域を有する前記ランド部パターンを形成することを特徴とする。 The method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes a board, a wiring provided on the board, a land portion connected to the wiring, and an inner surface of a through hole of the board, and is electrically connected to the wiring. And a through-wiring for electrically connecting to the other surface, wherein the conductive paste is printed on one surface of the substrate provided with at least two through-holes by printing. And a land portion pattern made of the conductive paste that includes the open end of the through-hole and is connected to the wiring pattern, and the land portion pattern has an unexposed portion of the conductive paste. A step of forming a conductive pattern made of the conductive paste on the inner surface of the through-hole by providing a plurality of slit-forming regions provided in parallel in the form of slits in the application portion. And the step B of curing the wiring pattern, the land portion pattern, and the conductive pattern to form the wiring, the land portion, and the through wiring, and in the step A, of the at least two through holes. From the position where the slit forming region is arranged so that the center of one uncoated portion β 1 of the plurality of uncoated portions overlaps the center of one through hole α 1 , the slit forming region is As the uncoated portion β 1 begins to deviate from the position overlapping the through hole α 1 by shifting in the width direction of the slit, an uncoated portion β 2 different from the uncoated portion β 1 and forming the land portion pattern having the slit forming region that satisfies the relationship begin overlapping the through hole alpha 2 adjacent to the hole alpha 1.

本発明の配線基板の製造方法によれば、工程Aにおいて、基板に設けられた少なくとも2つの貫通孔のうちの1つの貫通孔αの中心に、複数の導電性ペーストの未塗布部分のうちの1つの未塗布部分βの中心が重なるように、スリット形成領域を配置した位置から、スリット形成領域が、その幅方向にずれて、未塗布部分βが、貫通孔αと重なる位置から外れ始めるにしたがって、未塗布部分βとは別の未塗布部分βが、貫通孔αと隣り合う貫通孔αに重なり始めるという関係を満たすようなスリット形成領域を有するランド部パターンを形成するので、印刷版のランド部パターンを形成する領域の位置ズレが生じた場合でも、導電性ペーストの未塗布部分(空気孔)の少なくとも一部が貫通孔の開口部と重なるから、その未塗布部分(空気孔)により、貫通孔内に空気が溜まり難くなり、貫通孔の内部に導電性ペーストがスムーズに流下して、貫通孔の内側面に、適量の導電性ペーストを塗布することができる。したがって、貫通孔の内側面に塗布された導電性ペーストからなる導電パターンを硬化してなる貫通配線に断線が生じなくなるから、貫通配線の導通率をさらに向上させることができる。 According to the method for manufacturing a wiring board of the present invention, in step A, among the uncoated portions of the plurality of conductive pastes at the center of one through hole α1 of at least two through holes provided in the board. The position where the slit forming region is shifted from the position where the slit forming region is arranged so that the center of one uncoated portion β 1 of the first portion is overlapped with the width direction, and the uncoated portion β 1 is overlapped with the through hole α 1. according start out from the land portion pattern uncoated portions beta 2 separate from the non-coated portions beta 1 has a slit forming region that satisfies the relationship of start overlapping the through hole alpha 2 adjacent to the through-hole alpha 1 Therefore, even when a positional deviation of the region for forming the land pattern of the printing plate occurs, at least a part of the uncoated portion (air holes) of the conductive paste overlaps the opening of the through hole. The application portion (air hole) makes it difficult for air to accumulate in the through hole, and the conductive paste flows smoothly into the through hole, and an appropriate amount of conductive paste can be applied to the inner surface of the through hole. it can. Therefore, since no disconnection occurs in the through wiring formed by curing the conductive pattern made of the conductive paste applied to the inner side surface of the through hole, the conductivity of the through wiring can be further improved.

本発明の配線基板の製造方法によって作製される配線基板の一実施形態を示す概略平面図であり、(a)は上面図、(b)は下面図である。It is a schematic plan view which shows one Embodiment of the wiring board produced by the manufacturing method of the wiring board of this invention, (a) is a top view, (b) is a bottom view. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態を示し、印刷版の全体のイメージを表す模式図である。It is a schematic diagram showing one embodiment of the method for manufacturing a wiring board of the present invention and representing the entire image of the printing plate. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第一の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 1st embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第一の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 1st embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第一の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 1st embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第一の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 1st embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第二の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, it shows 2nd embodiment of the process A, and is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern. 本発明の配線基板の製造方法の一実施形態において、工程Aの第三の実施形態を示し、ランド部パターンを形成する領域の詳細を示す模式図である。In one Embodiment of the manufacturing method of the wiring board of this invention, 3rd embodiment of the process A is shown and it is a schematic diagram which shows the detail of the area | region which forms a land part pattern.

本発明の配線基板の製造方法の実施の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
An embodiment of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.

図1は、本発明の配線基板の製造方法によって作製される配線基板の一実施形態を示す概略平面図であり、(a)は上面図、(b)は下面図である。
この実施形態の配線基板10は、基板11と、基板11の一方の面11aに設けられた配線12と、基板11の他方の面11bに設けられた配線13と、基板11の一方の面11aに設けられ、配線12と連接するランド部14,15と、基板11の他方の面11bに設けられ、配線13と連接するランド部16,17と、基板11の貫通孔18,19の内側面に設けられ、ランド部14とランド部16を電気的に接続する貫通配線20と、ランド部15とランド部17を電気的に接続する貫通配線21とから概略構成されている。
FIG. 1 is a schematic plan view showing an embodiment of a wiring board manufactured by the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, wherein (a) is a top view and (b) is a bottom view.
The wiring substrate 10 of this embodiment includes a substrate 11, a wiring 12 provided on one surface 11a of the substrate 11, a wiring 13 provided on the other surface 11b of the substrate 11, and one surface 11a of the substrate 11. The land portions 14 and 15 connected to the wiring 12, the land portions 16 and 17 connected to the other surface 11 b of the substrate 11, and the inner surfaces of the through holes 18 and 19 of the substrate 11. And a through wiring 20 that electrically connects the land portion 14 and the land portion 16, and a through wiring 21 that electrically connects the land portion 15 and the land portion 17.

配線12は、基板11の一方の面11aにおいて、ランド部14を始端とし、ランド部15を終端とするコイル状に形成されている。また、ランド部14とランド部15は、所定の間隔を置いて設けられている。  The wiring 12 is formed in a coil shape on one surface 11a of the substrate 11 with the land portion 14 as a starting end and the land portion 15 as an end. The land portion 14 and the land portion 15 are provided with a predetermined interval.

貫通孔18,19は、基板11を厚み方向に貫通するように設けられた、平面視円形状の細孔である。すなわち、貫通孔18,19は、基板11の一方の面11aおよび他方の面11bに対して垂直に設けられている。
また、貫通孔18と貫通孔19は、所定の間隔を置いて設けられている。
The through holes 18 and 19 are circular pores in a plan view provided so as to penetrate the substrate 11 in the thickness direction. That is, the through holes 18 and 19 are provided perpendicular to the one surface 11 a and the other surface 11 b of the substrate 11.
Further, the through hole 18 and the through hole 19 are provided at a predetermined interval.

ランド部14,15は、貫通孔18,19内に貫通配線20,21を形成するために、導電性ペーストが塗布される領域であり、この領域内における貫通孔18,19に対して、導電性ペーストの塗布における位置ズレを許容する領域である。すなわち、ランド部14は、少なくとも貫通孔18の開口端部18aを含むように設けられている。同様に、ランド部15は、少なくとも貫通孔19の開口端部19aを含むように設けられている。  The land portions 14 and 15 are regions to which conductive paste is applied in order to form the through wirings 20 and 21 in the through holes 18 and 19. The land portions 14 and 15 are electrically conductive with respect to the through holes 18 and 19 in this region. This is a region that allows positional deviation in the application of the adhesive paste. That is, the land portion 14 is provided so as to include at least the opening end portion 18 a of the through hole 18. Similarly, the land portion 15 is provided so as to include at least the opening end portion 19 a of the through hole 19.

配線13は、基板11の他方の面11bにおいて、ランド部16を始端とし、ランド部17を終端とする直線状に形成されている。また、ランド部16とランド部17は、所定の間隔を置いて設けられている。  The wiring 13 is formed on the other surface 11 b of the substrate 11 in a straight line shape having a land portion 16 as a starting end and a land portion 17 as a terminating end. The land portion 16 and the land portion 17 are provided at a predetermined interval.

ランド部16,17は、貫通孔18,19内に貫通配線20,21を形成するために、導電性ペーストが塗布される領域であり、この領域内における貫通孔18,19に対して、導電性ペーストの塗布における位置ズレを許容する領域である。すなわち、ランド部16は、少なくとも貫通孔18の開口端部18aを含むように設けられている。同様に、ランド部17は、少なくとも貫通孔19の開口端部19aを含むように設けられている。  The land portions 16 and 17 are regions to which conductive paste is applied in order to form the through wirings 20 and 21 in the through holes 18 and 19. The land portions 16 and 17 are electrically conductive with respect to the through holes 18 and 19 in this region. This is a region that allows positional deviation in the application of the adhesive paste. That is, the land portion 16 is provided so as to include at least the opening end portion 18 a of the through hole 18. Similarly, the land portion 17 is provided so as to include at least the opening end portion 19 a of the through hole 19.

そして、基板11の一方の面11aに設けられた配線12と、基板11の他方の面11bに設けられた配線13とは、貫通配線20,21を介して電気的に接続され、配線12と配線13が1つの回路を形成している。  The wiring 12 provided on one surface 11 a of the substrate 11 and the wiring 13 provided on the other surface 11 b of the substrate 11 are electrically connected via the through wirings 20 and 21, The wiring 13 forms one circuit.

基板11としては、少なくとも表層部には、ガラス繊維、アルミナ繊維などの無機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたもの、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの有機繊維からなる織布、不織布、マット、紙などまたはこれらを組み合わせたものや、あるいはこれらに樹脂ワニスを含浸させて成形した被覆部材や、ポリアミド系樹脂基板、ポリエステル系樹脂基板、ポリオレフィン系樹脂基板、ポリイミド系樹脂基板、エチレン−ビニルアルコール共重合体基板、ポリビニルアルコール系樹脂基板、ポリ塩化ビニル系樹脂基板、ポリ塩化ビニリデン系樹脂基板、ポリスチレン系樹脂基板、ポリカーボネート系樹脂基板、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合系樹脂基板、ポリエーテルスルホン系樹脂基板、(ガラス)エポキシ樹脂基板などのプラスチック基板や、あるいはこれらにマット処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、フレームプラズマ処理、オゾン処理、または各種易接着処理などの表面処理を施したものなどの公知のものから選択して用いられる。  As the substrate 11, at least in the surface layer portion, a woven fabric made of inorganic fibers such as glass fibers or alumina fibers, a nonwoven fabric, a mat, paper, or a combination thereof, or a woven fabric made of organic fibers such as polyester fibers or polyamide fibers. Cloth, non-woven fabric, mat, paper, etc., or a combination thereof, or a covering member formed by impregnating them with a resin varnish, polyamide resin substrate, polyester resin substrate, polyolefin resin substrate, polyimide resin substrate , Ethylene-vinyl alcohol copolymer substrate, polyvinyl alcohol resin substrate, polyvinyl chloride resin substrate, polyvinylidene chloride resin substrate, polystyrene resin substrate, polycarbonate resin substrate, acrylonitrile butadiene styrene copolymer resin substrate, poly Ether sulfone Resin substrates, plastic substrates such as (glass) epoxy resin substrates, or mat processing, corona discharge processing, plasma processing, ultraviolet irradiation processing, electron beam irradiation processing, flame plasma processing, ozone processing, or various types of easy adhesion processing. Selected from known materials such as those subjected to surface treatment.

配線12,13、および、ランド部14,15,16,17は、導電性ペーストを用いて所定のパターンにスクリーン印刷により形成されたものである。
貫通配線20,21は、ランド部14,15、および、ランド部16,17の形成と同時に、導電性ペーストにより形成されたものである。
The wirings 12, 13 and the land portions 14, 15, 16, 17 are formed by screen printing in a predetermined pattern using a conductive paste.
The through wirings 20 and 21 are formed of conductive paste simultaneously with the formation of the land portions 14 and 15 and the land portions 16 and 17.

導電性ペーストとしては、銀微粒子が樹脂組成物に配合された銀ペースト、カーボン微粒子が樹脂組成物に配合されたカーボンペーストなどが用いられる。  As the conductive paste, a silver paste in which silver fine particles are blended in a resin composition, a carbon paste in which carbon fine particles are blended in a resin composition, or the like is used.

樹脂組成物として熱硬化型樹脂を用いれば、導電性ペーストは、200℃以下、例えば、100〜150℃程度で配線12,13をなす塗膜を形成することができる熱硬化型となる。また、本発明における導電性ペーストとしては、熱硬化型の他にも、紫外線硬化型、熱可塑性樹脂などを用いた浸透乾燥型、溶剤揮発型といった公知のものが用いられる。
なお、本発明における導電性ペーストの「硬化」とは、熱硬化型樹脂を用いた導電性ペーストを加熱して硬化させること、浸透乾燥型の導電性ペーストが乾燥して硬化すること、溶剤揮発型の導電性ペーストから溶剤が揮発して硬化することなどを言う。
If a thermosetting resin is used as the resin composition, the conductive paste becomes a thermosetting type capable of forming a coating film forming the wirings 12 and 13 at 200 ° C. or less, for example, about 100 to 150 ° C. In addition to the thermosetting type, known conductive pastes such as an ultraviolet curable type, an osmotic drying type using a thermoplastic resin, and a solvent volatile type are used as the conductive paste in the present invention.
The “curing” of the conductive paste in the present invention means that the conductive paste using a thermosetting resin is heated and cured, the osmotic drying type conductive paste is dried and cured, and the solvent volatilization. The solvent is volatilized and hardened from the conductive paste of the mold.

紫外線硬化型の導電性ペーストは、光硬化性樹脂を樹脂組成物に含むものであり、硬化時間が短いので、製造効率を向上させることができる。
紫外線硬化型の導電性ペーストとしては、例えば、熱可塑性樹脂のみ、あるいは、熱可塑性樹脂と架橋性樹脂(特にポリエステルとイソシアネートによる架橋系樹脂など)とのブレンド樹脂組成物に、導電微粒子が60質量%以上配合され、ポリエステル樹脂が10質量%以上配合されたもの、すなわち、溶剤揮発型かあるいは架橋/熱可塑併用型(ただし熱可塑型が50質量%以上である)のものや、熱可塑性樹脂のみ、あるいは、熱可塑性樹脂と架橋性樹脂(特にポリエステルとイソシアネートによる架橋系樹脂など)とのブレンド樹脂組成物に、ポリエステル樹脂が10質量%以上配合されたもの、すなわち、架橋型かあるいは架橋/熱可塑併用型のものなどが好適に用いられる。
The ultraviolet curable conductive paste contains a photocurable resin in the resin composition and has a short curing time, so that the production efficiency can be improved.
Examples of the ultraviolet curable conductive paste include, for example, a thermoplastic resin alone or a blend resin composition of a thermoplastic resin and a crosslinkable resin (particularly, a crosslinkable resin composed of polyester and isocyanate) and 60 masses of conductive fine particles. % Or more and 10% by mass or more of a polyester resin, that is, a solvent volatile type or a crosslinked / thermoplastic combined type (however, the thermoplastic type is 50% by mass or more), or a thermoplastic resin Or a blend resin composition of a thermoplastic resin and a crosslinkable resin (especially a crosslinkable resin composed of polyester and isocyanate, etc.) containing 10% by mass or more of a polyester resin, that is, a crosslinkable type or a crosslinkable / A thermoplastic combination type is preferably used.

次に、図1〜図21を参照して、この配線基板10の製造方法を例示し、本発明の配線基板の製造方法を説明する。
まず、基板11に、ドリルやレーザーなどにより、基板11の所定の位置に、基板11を厚み方向に貫通する貫通孔18,19を形成する。この時、貫通孔18と貫通孔19を、所定の間隔をおいて形成する。
Next, with reference to FIGS. 1-21, the manufacturing method of this wiring board 10 is illustrated, and the manufacturing method of the wiring board of this invention is demonstrated.
First, through holes 18 and 19 that penetrate the substrate 11 in the thickness direction are formed in the substrate 11 at predetermined positions on the substrate 11 by a drill or a laser. At this time, the through hole 18 and the through hole 19 are formed at a predetermined interval.

次いで、図2に示すように、貫通孔18,19が設けられた基板11の一方の面11aに、印刷により、導電性ペーストからなる配線パターン12Aと、貫通孔18,19の開口端部18a,19aを含み、配線パターン12Aに連接する導電性ペーストからなるランド部のパターン(以下、「ランド部パターン」という。)14A,15Aと、を形成するとともに、ランド部パターン14A,15Aには、導電性ペーストの未塗布部分(図示略)をスリット状に、間隔を置いて並列に複数設けたスリット形成領域を設ける。
これにより、基板11の一方の面11aに、ランド部パターン14A,15Aを形成するために塗布された導電性ペーストの一部(ランド部パターン14A,15Aを形成するために塗布された導電性ペーストのうち、貫通孔18,19の開口部を覆っている部分)が貫通孔18,19の内部に流下して、貫通孔18,19の内側面に、その導電性ペーストからなる導電パターン20A,21Aの一部が形成される(工程A)。
Next, as shown in FIG. 2, the wiring pattern 12 </ b> A made of a conductive paste and the open end portions 18 a of the through holes 18, 19 are printed on one surface 11 a of the substrate 11 provided with the through holes 18, 19. , 19a and land patterns 14A and 15A made of conductive paste connected to the wiring pattern 12A (hereinafter referred to as “land pattern”) 14A and 15A. A slit forming region is provided in which a plurality of uncoated portions (not shown) of the conductive paste are provided in a slit shape in parallel at intervals.
Thereby, a part of the conductive paste applied to form the land pattern 14A, 15A on the one surface 11a of the substrate 11 (the conductive paste applied to form the land pattern 14A, 15A). Of the through holes 18 and 19) flow down into the through holes 18 and 19, and the conductive patterns 20 </ b> A made of the conductive paste are formed on the inner surfaces of the through holes 18 and 19. A part of 21A is formed (step A).

ここで、導電性ペーストの未塗布部分とは、ランド部パターン14A,15Aにおいて、導電性ペーストが塗布されていない部分である。  Here, the uncoated portion of the conductive paste is a portion of the land pattern 14A, 15A where the conductive paste is not coated.

この工程Aにおいて、基板11の一方の面11aに形成される配線パターン12A、および、ランド部パターン14A,15Aの厚みは、2.5μm〜75μmであることが好ましく、より好ましくは17μm〜27μmである。
また、工程Aにおいて、貫通孔18,19の内側面に形成される導電パターン20A,21Aの厚みは、2.5μm〜75μmであることが好ましく、より好ましくは17μm〜27μmである。
In this step A, the thickness of the wiring pattern 12A and the land pattern 14A, 15A formed on the one surface 11a of the substrate 11 is preferably 2.5 μm to 75 μm, more preferably 17 μm to 27 μm. is there.
In the process A, the thickness of the conductive patterns 20A and 21A formed on the inner side surfaces of the through holes 18 and 19 is preferably 2.5 μm to 75 μm, more preferably 17 μm to 27 μm.

工程Aにおいて用いられる印刷法としては、粘性のある導電性ペーストを印刷できる方法であれば特に限定されず、基板の厚みなどに応じて、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷などの印刷版を用いる印刷法が適用される。
例えば、スクリーン印刷が適用される場合、印刷版としては、全体のイメージを表す模式図として図3で、ランド部パターンを形成する領域の詳細の模式図においては図4以降で説明するスクリーン版30が用いられる。詳細には、スクリーン版30は、スクリーン基体31と、スクリーン基体31の一方の面31aに沿って設けられた、配線パターン12Aを形成する配線形成領域32、および、ランド部パターン14A,15Aを形成するランド部形成領域33,34とから構成されている。配線形成領域32およびランド部形成領域33,34は、導電性ペーストの塗布部分である。
The printing method used in step A is not particularly limited as long as it is a method capable of printing a viscous conductive paste, and depending on the thickness of the substrate, for example, screen printing, gravure printing, flexographic printing, offset printing, etc. The printing method using the printing plate is applied.
For example, when screen printing is applied, the printing plate is shown in FIG. 3 as a schematic diagram showing the entire image, and the screen plate 30 explained in FIG. Is used. Specifically, the screen plate 30 forms a screen base 31, a wiring formation region 32 for forming the wiring pattern 12 </ b> A, and land patterns 14 </ b> A and 15 </ b> A provided along one surface 31 a of the screen base 31. Land portion forming regions 33 and 34 to be formed. The wiring formation region 32 and the land portion formation regions 33 and 34 are portions where the conductive paste is applied.

また、ランド部形成領域33,34には、基板11の一方の面11aの所定の位置にスクリーン版30を配置した場合、貫通孔18,19と重なる部分が乳剤などにより塞がれてなる、導電性ペーストの未塗布部分(以下、「未塗布部」と言う。)が設けられている。そして、ランド部形成領域33,34には、複数のスリット状の未塗布部が設けられたスリット形成領域が設けられている。  Further, in the land portion forming regions 33 and 34, when the screen plate 30 is disposed at a predetermined position on the one surface 11a of the substrate 11, the portions overlapping the through holes 18 and 19 are blocked by emulsion or the like. An uncoated portion of the conductive paste (hereinafter referred to as “uncoated portion”) is provided. The land portion forming regions 33 and 34 are provided with slit forming regions provided with a plurality of slit-shaped uncoated portions.

「工程Aの第一の実施形態」
図4〜7を参照して、工程Aの第一の実施形態を説明する。
この実施形態では、基板11の一方の面11aに形成されるランド部14,15に対応する貫通孔18,19が等間隔に3つずつ設けられている場合について説明する。
ここでは、説明を簡単にするために、ランド部形成領域33における未塗布部と貫通孔18の関係について説明する。
“First embodiment of step A”
With reference to FIGS. 4-7, 1st embodiment of the process A is described.
In this embodiment, a case where three through holes 18 and 19 corresponding to the land portions 14 and 15 formed on one surface 11a of the substrate 11 are provided at equal intervals will be described.
Here, in order to simplify the description, the relationship between the uncoated portion and the through hole 18 in the land portion formation region 33 will be described.

スクリーン版30のランド部形成領域33には、3つのスリット状の未塗布部35(35A,35B,35C)が等間隔に並列に設けられたスリット形成領域が設けられている。
なお、ここでは、ランド部形成領域33において、最も外側に設けられたスリット状の未塗布部35(35B,35C)にて囲まれる領域(図4では、縦がL、横がMの長方形の領域)をスリット形成領域とする。
また、未塗布部35の形状は、平面視長方形状をなしており、全ての未塗布部35の幅Wは等しくなっており、また、全ての未塗布部35の長さLは等しくなっている。すなわち、3つの平面視長方形状の未塗布部35が等間隔に設けられている。このランド部形成領域33における未塗布部35以外の部分は、導電性ペーストが透過し、ランド部パターン14Aの概略形状を形成する部分である。
The land portion forming region 33 of the screen plate 30 is provided with a slit forming region in which three slit-shaped uncoated portions 35 (35A, 35B, 35C) are provided in parallel at equal intervals.
Here, the land portion formation region 33, in the region (Fig. 4 to be surrounded by the most slit disposed outside uncoated portion 35 (35B, 35C), the vertical is L, transverse of M 1 rectangular Is defined as a slit formation region.
Moreover, the shape of the uncoated part 35 is a rectangular shape in plan view, the widths W of all the uncoated parts 35 are equal, and the lengths L of all the uncoated parts 35 are equal. Yes. That is, three uncoated portions 35 having a rectangular shape in plan view are provided at equal intervals. The portion other than the uncoated portion 35 in the land portion forming region 33 is a portion through which the conductive paste is transmitted to form a schematic shape of the land portion pattern 14A.

また、この実施形態において、ランド部形成領域33には、3つのスリット状の未塗布部35が等間隔に設けられたスリット形成領域が設けられているとは、ランド部形成領域33のy方向(紙面の横方向)に沿って、ランド部形成領域33の一方の縁部から他方の縁部にわたって設けられた未塗布部35が、ランド部形成領域33のx方向(紙面の縦方向)に沿って、等間隔に配設されていることを言う。  In this embodiment, the land portion forming region 33 is provided with slit forming regions in which three slit-shaped uncoated portions 35 are provided at equal intervals. The uncoated portion 35 provided from one edge of the land portion formation region 33 to the other edge along the (lateral direction of the paper surface) is in the x direction (vertical direction of the paper surface) of the land portion formation region 33. It is said that it is arrange | positioned at equal intervals along.

また、スクリーン版30としては、スリット形成領域の中心、すなわち、3つの未塗布部35のうち中央の未塗布部35Aの中心に、3つの貫通孔18のうち中央の貫通孔18Aの中心を重ねて配置した場合、ランド部形成領域33において、(1)貫通孔18の直径をD、(2)3つの貫通孔18のうち隣り合う2つの貫通孔18のピッチ(貫通孔18の中心間距離)をP、(3)未塗布部35の幅をW、(4)3つの未塗布部35のうち隣り合う2つの未塗布部35のピッチ(未塗布部35の長さ方向に沿う中心線間距離)をP、(5)ランド部形成領域33のx方向に沿って、未塗布部35Aと隣り合う(x方向の右隣りの)未塗布部35Bにおけるスリット形成領域の中心側の端から、貫通孔18Aと隣り合う(x方向の右隣りの)貫通孔18Bまでの距離をN、(6)ランド部形成領域33のx方向に沿って、未塗布部35Aと隣り合う(x方向の左隣りの)未塗布部35Cにおけるスリット形成領域の中心側の端から、貫通孔18Aと隣り合う(x方向の左隣りの)貫通孔18Cまでの距離をN、(7)未塗布部35の長さをL、(8)貫通孔18に対して必要とされる未塗布部35の重なり量(幅)をγ、(9)ランド部パターン14Aにおいて、導電性ペーストの未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅、すなわち、ランド部形成領域33において、未塗布部35の長さ方向に許容される位置ズレの幅を2δ(y方向の一方向における位置ズレの幅をδ)とすると、貫通孔18の一部に必ず導電性ペーストが入り込むように、未塗布部35の幅Wが貫通孔18の直径Dよりも小さい必要があるので、D>Wとなる。また、ランド部形成領域33のx方向において未塗布部35Aが位置ズレして貫通孔18Aを外れた際に、未塗布部35Bもしくは未塗布部35Cが、貫通孔18Bもしくは貫通孔18Cに重なるので、予め貫通孔18Aから未塗布部35Aが外れる距離(1/2)D+(1/2)Wから、貫通孔18に対して必要とされる未塗布部35の重なり量(幅)γを引いた距離の分、貫通孔18Bもしくは貫通孔18Cから離れたところに、各々の未塗布部35Bもしくは未塗布部35Cを配置する必要があるため、N=N=(1/2)D+(1/2)W−γとなる。さらに、ランド部形成領域33のy方向において、例えば、未塗布部35Aが位置ズレしても、確実に貫通孔18Aに重なるためには、未塗布部35の長さLが、貫通孔18のy方向の距離(貫通孔18の直径D)との間にL≧D+2δの関係を満たすようなスリット形成領域を有するものが用いられる。 Further, as the screen plate 30, the center of the central through hole 18A among the three through holes 18 is overlapped with the center of the slit forming region, that is, the center of the central uncoated part 35A among the three uncoated parts 35. In the land portion formation region 33, (1) the diameter of the through hole 18 is D, and (2) the pitch of two adjacent through holes 18 among the three through holes 18 (the distance between the centers of the through holes 18). ) Is P 1 , (3) the width of the uncoated portion 35 is W, and (4) the pitch of two adjacent uncoated portions 35 among the three uncoated portions 35 (center along the length direction of the uncoated portion 35) (Distance between lines) is P 2 , (5) along the x direction of the land portion forming region 33, on the center side of the slit forming region in the uncoated portion 35 B adjacent to the uncoated portion 35 A (right adjacent in the x direction). Adjacent to the through hole 18A from the end (right adjacent to the x direction) The distance to the through hole 18B is N 1 , and (6) slit formation in the uncoated portion 35C adjacent to the uncoated portion 35A (left adjacent in the x direction) along the x direction of the land portion forming region 33. The distance from the end on the center side of the region to the through-hole 18C adjacent to the through-hole 18A (left adjacent in the x direction) is N 2 , (7) the length of the uncoated portion 35 is L, and (8) the through-hole 18, the overlap amount (width) of the unapplied portion 35 required with respect to 18 is γ, and (9) the width of the positional deviation allowed in the length direction of the unapplied portion of the conductive paste in the land pattern 14A, That is, in the land portion formation region 33, if the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated part 35 is 2δ (the positional deviation width in one direction of the y direction is δ), a part of the through hole 18 is formed. The width of the uncoated part 35 so that the conductive paste always enters Since W needs to be smaller than the diameter D of the through hole 18, D> W. In addition, when the uncoated portion 35A is displaced in the x direction of the land portion forming region 33 and deviates from the through hole 18A, the uncoated portion 35B or the uncoated portion 35C overlaps the through hole 18B or the through hole 18C. The overlap (width) γ of the uncoated portion 35 required for the through hole 18 is subtracted from the distance (1/2) D + (1/2) W where the uncoated portion 35A is removed from the through hole 18A in advance. Therefore, it is necessary to dispose each uncoated portion 35B or uncoated portion 35C at a distance from the through hole 18B or the through hole 18C, and therefore N 1 = N 2 = (1/2) D + ( 1/2) W-γ. Further, in the y direction of the land portion formation region 33, for example, even if the uncoated portion 35 </ b> A is misaligned, the length L of the uncoated portion 35 is set to the length of the through hole 18 in order to reliably overlap the through hole 18 </ b> A. What has a slit formation area | region which satisfy | fills the relationship of L> = D + 2 (delta) between the distance (diameter D of the through-hole 18) of ay direction is used.

このようにすれば、スクリーン版30のスリット形成領域は、未塗布部35Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置から、そのスリット形成領域が、ランド部形成領域33の幅方向(x方向の右側)にずれて、未塗布部35Aが、貫通孔18Aと重なる位置から外れ始めるにしたがって、未塗布部35Aと隣り合う(x方向の右隣りの)未塗布部35Bが、貫通孔18Aと隣り合う(x方向の右隣りの)貫通孔18Bに重なり始めるか、あるいは、ランド部形成領域33の幅方向(x方向の左側)にずれて、未塗布部35Aが、貫通孔18Aと重なる位置から外れ始めるにしたがって、未塗布部35Aと隣り合う(x方向の左隣りの)未塗布部35Cが、貫通孔18Aと隣り合う(x方向の左隣りの)貫通孔18Cに重なり始めるという関係を満たす。
したがって、基板11の一方の面11aに対する導電性ペーストの印刷において、スクリーン版30のランド部形成領域33の位置ズレが生じたとしても、未塗布部35の少なくとも一部が貫通孔18の開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と重なる。
In this way, the slit forming area of the screen plate 30 is formed from the position where the slit forming area of the land portion forming area 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated part 35A. As the formation region shifts in the width direction (right side in the x direction) of the land portion formation region 33, the uncoated portion 35A is adjacent to the uncoated portion 35A (x direction) as it begins to deviate from the position overlapping the through hole 18A. The uncoated portion 35B (on the right side of) begins to overlap the through hole 18B adjacent to the through hole 18A (on the right side in the x direction), or in the width direction (left side in the x direction) of the land portion formation region 33 As the unapplied portion 35A starts to deviate from the position where it overlaps with the through hole 18A, the unapplied portion 35C adjacent to the unapplied portion 35A (next to the left in the x direction) is adjacent to the through hole 18A. Fit (left of the x-direction) satisfies the relationship of start overlapping the through hole 18C.
Accordingly, even when the land portion forming region 33 of the screen plate 30 is misaligned in printing the conductive paste on the one surface 11a of the substrate 11, at least a part of the uncoated portion 35 is an opening portion of the through hole 18. It overlaps with (a region inside the opening end 18a of the through hole 18).

具体的には、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図4に示す状態から、そのx方向の右側に(1/2)Dずれた場合(図5に示す状態)、貫通孔18Aに未塗布部35Aが重なる量が減少するが、貫通孔18Bに未塗布部35Bが重なる量が増加する。
したがって、さらに、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、x方向の右側にずれると、貫通孔18Aと未塗布部35Aが重ならなくなる一方、貫通孔18Bの開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と未塗布部35Bが完全に重なる。
Specifically, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted from the state shown in FIG. 4 by (1/2) D to the right side in the x direction (the state shown in FIG. 5), the through hole 18A Although the amount of the uncoated portion 35A overlapping decreases, the amount of the uncoated portion 35B overlapping the through hole 18B increases.
Accordingly, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is further shifted to the right in the x direction, the through hole 18A and the uncoated portion 35A do not overlap, while the opening portion of the through hole 18B (the opening end of the through hole 18). The region inside the portion 18a) and the uncoated portion 35B completely overlap.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図4に示す状態から、そのx方向の右側にDずれた場合(図6に示す状態)、未塗布部35Bの中心に、貫通孔18Bの中心が重なるとともに、貫通孔18Aに未塗布部35Cが重なる量が増加する。
すなわち、図5に示す状態から、図6に示す状態に至るまでに、(1)貫通孔18Aと未塗布部35Aが重ならなくなる一方、貫通孔18Bの開口部と未塗布部35Bが重なる過程と、(2)貫通孔18Bの開口部と未塗布部35Bが重なったまま、貫通孔18Aに未塗布部35Cが重なり始める過程を経る。
Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted from the state shown in FIG. 4 by D on the right side in the x direction (the state shown in FIG. 6), the through hole 18B is formed at the center of the uncoated portion 35B. As the center overlaps, the amount by which the uncoated portion 35C overlaps the through hole 18A increases.
That is, from the state shown in FIG. 5 to the state shown in FIG. 6, (1) the process in which the through hole 18A and the uncoated portion 35A do not overlap, while the opening of the through hole 18B and the uncoated portion 35B overlap. (2) A process of starting to overlap the uncoated portion 35C with the through hole 18A is performed while the opening of the through hole 18B and the uncoated portion 35B are overlapped.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図4に示す状態から、そのx方向の右側に(3/2)Dずれた場合(図7に示す状態)、貫通孔18Bに未塗布部35Bが重なる量が減少するが、未塗布部35Cの中心に、貫通孔18Aの中心が重なる。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted (3/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 4 (the state shown in FIG. 7), the uncoated portion is formed in the through hole 18B. Although the amount of overlap of 35B decreases, the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 35C.

ここでは、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図4に示す状態から、そのx方向の右側にずれた場合を例示したが、x方向の左側にずれた場合も同様である。  Here, the case where the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 4 is illustrated, but the same applies to the case where the slit forming region is shifted to the left side in the x direction.

なお、上記のNおよびNと、上記の直径Dおよび幅Wとの関係式:N=N=(1/2)D+(1/2)W−γにおいて、貫通孔18に対して必要とされる未塗布部35の重なり量(幅)γ、言い換えれば、貫通孔18の内部に導電性ペーストをスムーズに流下させるために必要な、貫通孔18に対する未塗布部35の重なり量(幅)γを大きくすると、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図4に示す状態から、そのx方向の右側または左側にずれた場合、より少ないずれ量で、未塗布部35Aと隣り合う未塗布部35B,35Cが、貫通孔18Aと隣り合う貫通孔18B,18Cと重なるようになる。 It should be noted that the relational expression between the above N 1 and N 2 and the above diameter D and width W: N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ The amount of overlap (width) γ of the uncoated part 35 required in other words, in other words, the amount of overlap of the uncoated part 35 with respect to the through hole 18 necessary for smoothly flowing the conductive paste into the through hole 18. When the (width) γ is increased, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is shifted from the state shown in FIG. 4 to the right side or the left side in the x direction, it is adjacent to the uncoated portion 35A with a smaller shift amount. The matching uncoated portions 35B and 35C overlap the through holes 18B and 18C adjacent to the through hole 18A.

また、工程Aでは、ランド部パターン14A(ランド部形成領域33)に形成されたスリット形成領域の中心に貫通孔18Aが配置されるように、ランド部パターン14Aを形成するが、実際には、導電性ペーストの塗布(印刷)時に、版がずれた場合、貫通孔18に対してランド部形成領域33のスリット形成領域も位置ズレを生じることがあるため、ランド部形成領域33は、その位置ズレを許容した大きさである必要がある。  Further, in step A, the land portion pattern 14A is formed so that the through hole 18A is disposed at the center of the slit forming region formed in the land portion pattern 14A (land portion forming region 33). If the plate is displaced during the application (printing) of the conductive paste, the slit formation region of the land portion formation region 33 may be misaligned with respect to the through hole 18. The size needs to allow the deviation.

そこで、ランド部形成領域33のスリット形成領域の中心を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のy方向(紙面の縦方向、未塗布部35の長さ方向)の一方向における位置ズレの幅をδ、貫通孔18の直径をDとした場合、未塗布部35の長さLは、L≧D+2δの関係式を満たす必要がある。  Therefore, with respect to the center of the slit forming region of the land portion forming region 33, one direction of the expected slit forming region of the land portion forming region 33 in the y direction (the vertical direction of the paper surface, the length direction of the uncoated portion 35). Where δ is the width of the misalignment and D is the diameter of the through hole 18, the length L of the uncoated portion 35 needs to satisfy the relational expression L ≧ D + 2δ.

また、この実施形態では、ランド部形成領域33のスリット形成領域の中心を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のx方向の一方向における位置ズレの幅を(3/2)Dとしたので、未塗布部35の幅をWとすると、ランド部形成領域33のx方向において、3つの未塗布部35A,35B,35Cを一塊としたときの左端から右端までの長さMは、M≧W+2×(3/2)D=W+3Dの関係式を満たす必要がある。 Further, in this embodiment, with reference to the center of the slit forming region of the land portion forming region 33, the width of the positional deviation in one direction of the slit forming region of the land portion forming region 33 in the x direction is set to (3/2). ) If the width of the uncoated portion 35 is W, the length from the left end to the right end when the three uncoated portions 35A, 35B, and 35C are bundled together in the x direction of the land portion forming region 33. M 1 needs to satisfy the relational expression of M 1 ≧ W + 2 × (3/2) D = W + 3D.

なお、さらに大きなx方向への位置ズレが予想される場合、未塗布部35A,35B,35Cと同様の関係を満たすようにして、ランド部形成領域33のx方向において、未塗布部35Bの右隣りに未塗布部35Dを設け、未塗布部35Cの左隣りに未塗布部35Eを設ける。
このように未塗布部35D,35Eを設けた場合、未塗布部35A,35B,35C,35D,35Eは等間隔に設けられているので、ランド部形成領域33のスリット形成領域の中心を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のx方向の一方向における位置ズレの幅は(3/2)D×2=3Dとなる。ゆえに、未塗布部35の幅をWとすると、ランド部形成領域33のx方向において、5つの未塗布部35A,35B,35C,35D,35Eを一塊としたときの左端から右端までの長さMは、M≧W+2×3D=W+6Dの関係式を満たす必要がある。
If a larger positional shift in the x direction is anticipated, the right side of the uncoated portion 35B in the x direction of the land portion formation region 33 is satisfied so as to satisfy the same relationship as the uncoated portions 35A, 35B, and 35C. An unapplied part 35D is provided adjacently, and an unapplied part 35E is provided on the left side of the unapplied part 35C.
When the uncoated portions 35D and 35E are provided in this way, the uncoated portions 35A, 35B, 35C, 35D, and 35E are provided at equal intervals, so that the center of the slit forming region of the land portion forming region 33 is used as a reference. The width of the positional deviation in the x direction of the slit formation region of the expected land portion formation region 33 is (3/2) D × 2 = 3D. Therefore, if the width of the uncoated portion 35 is W, the length from the left end to the right end when the five uncoated portions 35A, 35B, 35C, 35D, and 35E are bundled together in the x direction of the land portion forming region 33. M 2 needs to satisfy the relational expression of M 2 ≧ W + 2 × 3D = W + 6D.

さらに、未塗布部35により形成される導電性ペーストの未塗布部分によって、ランド部パターン14Aがその縁部で断線するのを防止するために、ランド部形成領域33のx方向の長さXは、上記の長さMまたはMよりも大きく(X>MまたはX>M)なっている。同様に、ランド部形成領域33のy方向の長さYは、上記の未塗布部33aの長さLよりも大きく(Y>L)なっている。
なお、上記のようにスリット形成領域を定義した場合、メッシュ領域33は、スリット形成領域よりも大きな領域であればよく、その形状は特に限定されず、円形や楕円形などであってもよい。
Further, in order to prevent the land portion pattern 14A from being disconnected at the edge by the uncoated portion of the conductive paste formed by the uncoated portion 35, the length X in the x direction of the land portion forming region 33 is , Larger than the above length M 1 or M 2 (X> M 1 or X> M 2 ). Similarly, the length Y in the y direction of the land portion forming region 33 is larger than the length L of the uncoated portion 33a (Y> L).
When the slit forming area is defined as described above, the mesh area 33 may be an area larger than the slit forming area, and the shape thereof is not particularly limited, and may be a circle or an ellipse.

このようなスクリーン版30を用いて、印刷により、貫通孔18が設けられた基板11の一方の面11aに、導電性ペーストからなるランド部パターン14Aを形成すると、ランド部パターン14Aには、導電性ペーストの未塗布部分がスリット状に、等間隔に並列に3つ設けられたスリット形成領域が設けられる。すなわち、ランド部形成領域33の未塗布部35では、導電性ペーストが通らなくなるので、その部分は導電性ペーストが塗布されず、未塗布部分となる。  When the land pattern 14A made of a conductive paste is formed on one surface 11a of the substrate 11 provided with the through holes 18 by printing using such a screen plate 30, the land pattern 14A has a conductive The non-application | coated part of an adhesive paste is provided in the slit shape, and the slit formation area | region provided in parallel by three at equal intervals. That is, since the conductive paste does not pass through the unapplied portion 35 of the land portion formation region 33, the conductive paste is not applied to the portion, and the portion becomes an uncoated portion.

したがって、スクリーン版30を用いることにより、ランド部形成領域33によって形成されたランド部パターン14Aにおいても、スリット形成領域の中心に、貫通孔18Aの中心を重ねて配置した場合、(1)貫通孔18の直径をD、(2)3つの貫通孔18のうち隣り合う2つの貫通孔18のピッチをP、(3)未塗布部分の幅をW、(4)3つの未塗布部分のうち隣り合う2つの未塗布部分のピッチをP、(5)ランド部パターン14Aのx方向に沿って、中央の未塗布部分と隣り合う(x方向の右隣りの)未塗布部分における未塗布部35Bの中心側の端から、貫通孔18Aと隣り合う(x方向の右隣りの)貫通孔18Bまでの距離をN、(6)ランド部パターン14Aのx方向に沿って、中央の未塗布部分と隣り合う(x方向の左隣りの)未塗布部分における未塗布部35Cの中心側の端から、貫通孔18Aと隣り合う(x方向の左隣りの)貫通孔18Cまでの距離をN、(7)未塗布部分の長さをL、(8)貫通孔18に対して必要とされる未塗布部分の重なり量(幅)をγ、(9)ランド部パターン14Aにおいて、未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅を2δとすると、D>W、N=N=(1/2)D+(1/2)W−γ、L≧D+2δの関係を満たすようなスリット形成領域を有するランド部パターン14Aが形成される。 Accordingly, when the center of the through hole 18A is arranged so as to overlap the center of the slit forming region in the land pattern 14A formed by the land portion forming region 33 by using the screen plate 30, (1) the through hole D is the diameter of 18, (2) P 1 is the pitch of two adjacent through-holes 18 among the three through-holes 18, (3) W is the width of the uncoated part, and (4) Of the three uncoated parts The pitch of two adjacent uncoated portions is P 2 , and (5) the uncoated portion in the uncoated portion adjacent to the central uncoated portion (right adjacent in the x direction) along the x direction of the land pattern 14A. The distance from the center side end of 35B to the through hole 18B adjacent to the through hole 18A (right adjacent to the x direction) is N 1 , and (6) the center uncoated along the x direction of the land pattern 14A Next to part from the center side of the end of the uncoated portion 35C in the left of) the uncoated portion of the x-direction, the distance to the through hole 18A and the adjacent (in the x-direction left of) through holes 18C N 2, Not (7) The length of the coated portion is L, (8) the overlap amount (width) of the uncoated portion required for the through hole 18 is γ, and (9) in the land pattern 14A, in the length direction of the uncoated portion. A slit forming region satisfying the relationship of D> W, N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ, L ≧ D + 2δ, where the allowable positional deviation width is 2δ. The land portion pattern 14A is formed.

このように、スクリーン版30を用いて、印刷により、導電性ペーストからなるランド部パターン14Aを形成すれば、基板11の一方の面11aに対する導電性ペーストの印刷において、スクリーン版30のランド部形成領域33の位置ズレが生じたとしても、貫通孔18の内側面に、導電パターン20Aを形成する導電性ペーストを十分に塗布することができる。  As described above, when the land portion pattern 14A made of a conductive paste is formed by printing using the screen plate 30, the land portion of the screen plate 30 is formed in the printing of the conductive paste on the one surface 11a of the substrate 11. Even if the region 33 is misaligned, the conductive paste for forming the conductive pattern 20 </ b> A can be sufficiently applied to the inner surface of the through-hole 18.

言い換えれば、貫通孔18に対して、スクリーン版30のランド部形成領域33が、例えば、図4に示す位置から、図5〜7に示す位置にずれたとしても、未塗布部35の少なくとも一部が貫通孔18の開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と重なるので、貫通孔18の内側面に、導電パターン20Aを形成する導電性ペーストを十分に塗布することができる。  In other words, even if the land portion formation region 33 of the screen plate 30 is shifted from the position shown in FIG. 4 to the position shown in FIGS. Since the portion overlaps the opening of the through hole 18 (the region inside the opening end 18a of the through hole 18), the conductive paste for forming the conductive pattern 20A is sufficiently applied to the inner surface of the through hole 18. Can do.

「工程Aの第二の実施形態」
図8〜14を参照して、工程Aの第二の実施形態を説明する。
ここでも、説明を簡単にするために、ランド部形成領域33における未塗布部と貫通孔18の関係について説明する。
この実施形態では、基板11の一方の面11aに形成されるランド部14に対応する貫通孔18が、間隔を置いて3つ設けられている場合について説明する。
"Second embodiment of step A"
With reference to FIGS. 8-14, 2nd embodiment of the process A is described.
Here, in order to simplify the description, the relationship between the uncoated portion and the through hole 18 in the land portion formation region 33 will be described.
In this embodiment, a case will be described in which three through holes 18 corresponding to the land portions 14 formed on one surface 11a of the substrate 11 are provided at intervals.

スクリーン版30のランド部形成領域33には、2つのスリット状の未塗布部36(36A,36B)が間隔を置いて並列に設けられたスリット形成領域が設けられている。
なお、ここでは、ランド部形成領域33において、2つのスリット状の未塗布部36にて囲まれる領域(図8では、縦がL、横がMの長方形の領域)をスリット形成領域とする。
また、未塗布部36の形状は、平面視長方形状をなしており、2つの未塗布部36の幅Wは等しくなっており、また、2つの未塗布部36の長さLは等しくなっている。このランド部形成領域33における未塗布部36以外の部分は、導電性ペーストを透過し、ランド部パターン14Aの概略形状を形成する部分である。
The land portion forming region 33 of the screen plate 30 is provided with a slit forming region in which two slit-shaped uncoated portions 36 (36A, 36B) are provided in parallel with a distance therebetween.
Here, in the land portion forming region 33, a region surrounded by two slit-shaped uncoated portions 36 (in FIG. 8, a rectangular region having a vertical L and a horizontal M) is defined as a slit forming region.
Further, the shape of the uncoated part 36 is a rectangular shape in plan view, the widths W of the two uncoated parts 36 are equal, and the lengths L of the two uncoated parts 36 are equal. Yes. The portions other than the uncoated portion 36 in the land portion formation region 33 are portions that transmit the conductive paste and form a schematic shape of the land portion pattern 14A.

また、この実施形態において、ランド部形成領域33には、2つのスリット状の未塗布部36が間隔を置いて並列に設けられたスリット形成領域が設けられているとは、ランド部形成領域33のy方向(紙面の横方向)に沿って、ランド部形成領域33の一方の縁部から他方の縁部にわたって設けられた未塗布部36が、ランド部形成領域33のx方向(紙面の縦方向)に沿って、間隔を置いて並列に配設されていることを言う。  Further, in this embodiment, the land portion forming region 33 is provided with a slit forming region in which two slit-shaped uncoated portions 36 are provided in parallel at an interval. The uncoated portion 36 provided from one edge portion of the land portion formation region 33 to the other edge portion along the y direction (lateral direction of the paper surface) of the land portion formation region 33 is formed in the x direction (vertical direction of the paper surface). It is said that it is arranged in parallel at intervals along the direction.

また、スクリーン版30としては、2つの未塗布部36のうち、ランド部形成領域33のx方向左側の未塗布部36Aの中心に、3つの貫通孔18のうち、ランド部形成領域33のx方向左端の貫通孔18Aの中心を重ねて配置した場合、ランド部形成領域33において、(1)貫通孔18の直径をD、(2)3つの貫通孔18のうち、ランド部形成領域33のx方向左端の貫通孔18Aと、中央の貫通孔18Bとのピッチ(貫通孔18の中心間距離)をP11、(3)3つの貫通孔18のうち、ランド部形成領域33のx方向右端の貫通孔18Cと、中央の貫通孔18Bとのピッチ(貫通孔18の中心間距離)をP12、(4)未塗布部36の幅をW、(5)2つの未塗布部36のピッチ(未塗布部36の長さ方向に沿う中心線間距離)をP13、(6)ランド部形成領域33のx方向に沿って、未塗布部36Bにおけるスリット形成領域の中心側の端から、3つの貫通孔18のうち、ランド部形成領域33のx方向右端の貫通孔18Cまでの距離をN、(7)ランド部形成領域33のx方向に沿って、未塗布部36Bにおけるランド部形成領域33の右側の端から、3つの貫通孔18のうち、中央の貫通孔18Bまでの距離をN、(8)未塗布部36の長さをL、(9)貫通孔18に対して必要とされる未塗布部36の重なり量(幅)をγ、(10)ランド部パターン14Aにおいて、導電性ペーストの未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅、すなわち、ランド部形成領域33において、未塗布部36の長さ方向に許容される位置ズレの幅を2δとすると、第一の実施形態と同様に、D>W、N=N=(1/2)D+(1/2)W−γ、L≧D+2δの関係を満たし、また、貫通孔18Aとその隣りに位置する貫通孔18Bが重ならないように、P11>Dを満たし、また、未塗布部36Bは貫通孔18Aの隣の貫通孔18Bより右側に位置し、かつ、貫通孔18Cより左側に位置することにより、未塗布部36Aが左右に位置ズレして貫通孔18Aから外れても、未塗布部36Bが左右の貫通孔18Bもしくは貫通孔18Cに重なることができるように、P13>P11の関係を満たすようなスリット形成領域を有するものが用いられる。 Further, as the screen plate 30, the x of the land portion forming region 33 among the three through holes 18 is formed at the center of the uncoated portion 36 </ b> A on the left side in the x direction of the land portion forming region 33 of the two uncoated portions 36. When the center of the through hole 18A on the left end in the direction is arranged so as to overlap, in the land portion forming region 33, (1) the diameter of the through hole 18 is D, and (2) of the three through holes 18, the land portion forming region 33 The pitch (distance between the centers of the through holes 18) between the through hole 18A at the left end in the x direction and the central through hole 18B is P 11 , (3) Of the three through holes 18, the right end in the x direction of the land portion formation region 33 a through hole 18C of the P 12 (distance between the centers of the through-hole 18) the pitch of the central through hole 18B, (4) width W of the uncoated portion 36, (5) two pitches of uncoated portion 36 (Distance between center lines along the length direction of the uncoated portion 36) P 13 , (6) The x direction of the land portion forming region 33 among the three through holes 18 from the center side end of the slit forming region in the uncoated portion 36B along the x direction of the land portion forming region 33. The distance to the right end through hole 18C is N 1 , (7) From the right end of the land portion forming region 33 in the uncoated portion 36B along the x direction of the land portion forming region 33, of the three through holes 18 The distance to the central through hole 18B is N 2 , (8) the length of the uncoated part 36 is L, and (9) the overlapping amount (width) of the uncoated part 36 required for the through hole 18 is γ, (10) In the land portion pattern 14A, the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated portion of the conductive paste, that is, in the land portion formation region 33, allowed in the length direction of the uncoated portion 36. If the width of the positional deviation to be made is 2δ, As in the first embodiment, the relationship of D> W, N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ, L ≧ D + 2δ is satisfied, and the through hole 18A and its neighbor are satisfied. P 11 > D is satisfied so that the through-hole 18B positioned at the position does not overlap, and the uncoated portion 36B is positioned on the right side of the through-hole 18B adjacent to the through-hole 18A and on the left side of the through-hole 18C. By doing this, P 13 > P 11 so that the uncoated portion 36B can overlap the left and right through holes 18B or 18C even if the uncoated portion 36A is displaced from side to side and is disengaged from the through hole 18A. Those having a slit forming region satisfying the above relationship are used.

このようにすれば、ランド部形成領域33のスリット形成領域は、未塗布部36Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置から、そのスリット形成領域が、ランド部形成領域33の幅方向(x方向の右側あるいは左側)にずれて、未塗布部36Aが、貫通孔18Aと重なる位置から外れ始めるにしたがって、未塗布部36Aと隣り合う(x方向の右隣りの)未塗布部36Bが、貫通孔18Aの右側に配設された貫通孔18Bあるいは貫通孔18Cに重なり始めるという関係を満たす。
したがって、基板11の一方の面11aに対する導電性ペーストの印刷において、ランド部形成領域33のランド部形成領域33の位置ズレが生じたとしても、未塗布部36の少なくとも一部が貫通孔18の開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と重なる。
In this way, the slit forming region of the land portion forming region 33 is located from the position where the slit forming region of the land portion forming region 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 36A. As the slit forming region shifts in the width direction (right side or left side in the x direction) of the land portion forming region 33 and the uncoated portion 36A begins to come off from the position overlapping the through hole 18A, it is adjacent to the uncoated portion 36A. The unapplied portion 36B that fits (right adjacent to the x direction) satisfies the relationship that it begins to overlap the through hole 18B or the through hole 18C disposed on the right side of the through hole 18A.
Therefore, in the printing of the conductive paste on the one surface 11 a of the substrate 11, even if the land portion forming region 33 is misaligned with the land portion forming region 33, at least a part of the uncoated portion 36 is not in the through hole 18. It overlaps with the opening (region inside the opening end 18a of the through hole 18).

具体的には、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の右側に(1/2)Dずれた場合(図9に示す状態)、貫通孔18Aに未塗布部36Aが重なる量が減少するが、貫通孔18Cに未塗布部36Bが重なる量が増加する。
したがって、さらに、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、x方向の右側にずれると、貫通孔18Aと未塗布部36Aが重ならなくなる一方、貫通孔18Cの開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と未塗布部36Bが完全に重なる。
Specifically, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is shifted (1/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 8 (the state shown in FIG. 9), Although the amount of the uncoated portion 36A overlapping decreases, the amount of the uncoated portion 36B overlapping the through hole 18C increases.
Therefore, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is further shifted to the right in the x direction, the through hole 18A and the uncoated portion 36A do not overlap, while the opening portion of the through hole 18C (the opening end of the through hole 18). The region inside the portion 18a) and the uncoated portion 36B completely overlap.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の右側にDずれた場合(図10に示す状態)、未塗布部36Bの中心に、貫通孔18Cの中心が重なるとともに、貫通孔18Aに未塗布部36Aが重ならなくなる。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted from the state shown in FIG. 8 by D on the right side in the x direction (the state shown in FIG. 10), the through hole 18C is formed at the center of the uncoated portion 36B. As the center overlaps, the uncoated portion 36A does not overlap the through hole 18A.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の右側に(3/2)Dずれた場合(図11に示す状態)、貫通孔18Cに未塗布部36Bが重なる量が減少する。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted (3/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 8 (the state shown in FIG. 11), the uncoated portion is formed in the through hole 18C. The amount of overlap of 36B decreases.

なお、上記のNおよびNと、上記の直径Dおよび幅Wとの関係式:N=N=(1/2)D+(1/2)W−γにおいて、貫通孔18に対して必要とされる未塗布部36の重なり量(幅)γ、言い換えれば、貫通孔18の内部に導電性ペーストをスムーズに流下させるために必要な、貫通孔18に対する未塗布部36の重なり量(幅)γを大きくすると、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の右側にずれた場合、より少ないずれ量で、未塗布部36Bが、貫通孔18Cと重なるようになる。 It should be noted that the relational expression between the above N 1 and N 2 and the above diameter D and width W: N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ The amount of overlap (width) γ of the uncoated portion 36 required in other words, in other words, the amount of overlap of the uncoated portion 36 with respect to the through hole 18 necessary for smoothly flowing the conductive paste into the through hole 18. When the (width) γ is increased, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted to the right side in the x direction from the state shown in FIG. It will overlap with 18C.

一方、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の左側に(1/2)Dずれた場合(図12に示す状態)、貫通孔18Aに未塗布部36Aが重なる量が減少するが、貫通孔18Bに未塗布部36Bが重なる量が増加する。
したがって、さらに、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、x方向の左側にずれると、貫通孔18Aと未塗布部36Aが重ならなくなる一方、貫通孔18Bの開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と未塗布部36Bが完全に重なる。
On the other hand, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is shifted from the state shown in FIG. 8 by (1/2) D to the left side in the x direction (state shown in FIG. 12), the uncoated portion is formed in the through hole 18A. Although the amount of overlapping 36A decreases, the amount of uncoated portion 36B overlapping the through hole 18B increases.
Accordingly, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is further shifted to the left in the x direction, the through hole 18A and the uncoated portion 36A do not overlap each other, while the opening portion of the through hole 18B (the opening end of the through hole 18). The region inside the portion 18a) and the uncoated portion 36B completely overlap.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の左側にDずれた場合(図13に示す状態)、未塗布部36Bの中心に、貫通孔18Bの中心が重なるとともに、貫通孔18Aに未塗布部36Aが重ならなくなる。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted from the state shown in FIG. 8 by D on the left side in the x direction (the state shown in FIG. 13), the through hole 18B is formed at the center of the uncoated portion 36B. As the center overlaps, the uncoated portion 36A does not overlap the through hole 18A.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の右側に(3/2)Dずれた場合(図14に示す状態)、貫通孔18Bに未塗布部36Bが重なる量が減少する。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted (3/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 8 (the state shown in FIG. 14), the uncoated portion is formed in the through hole 18B. The amount of overlap of 36B decreases.

なお、上記のNおよびNと、上記の直径Dおよび幅Wとの関係式:N=N=(1/2)D+(1/2)W−γにおいて、貫通孔18に対して必要とされる未塗布部36の重なり量(幅)γ、言い換えれば、貫通孔18の内部に導電性ペーストをスムーズに流下させるために必要な、貫通孔18に対する未塗布部36の重なり量(幅)γを大きくすると、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図8に示す状態から、そのx方向の左側にずれた場合、より少ないずれ量で、未塗布部36Bが、貫通孔18Bと重なるようになる。 It should be noted that the relational expression between the above N 1 and N 2 and the above diameter D and width W: N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ The amount of overlap (width) γ of the uncoated portion 36 required in other words, in other words, the amount of overlap of the uncoated portion 36 with respect to the through hole 18 necessary for smoothly flowing the conductive paste into the through hole 18. When the (width) γ is increased, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted to the left in the x direction from the state shown in FIG. It overlaps with 18B.

また、工程Aでは、未塗布部36Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部パターン14Aを形成するが、実際には、導電性ペーストの塗布(印刷)時に、貫通孔18に対してランド部形成領域33のスリット形成領域を配置する際に位置ズレを生じることがあるため、ランド部形成領域33は、その位置ズレを許容した大きさである必要がある。  In the process A, the land portion pattern 14A is formed so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 36A. Actually, the through hole 18 is applied during application (printing) of the conductive paste. On the other hand, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged, a positional deviation may occur, and therefore the land portion formation region 33 needs to have a size that allows the positional deviation.

そこで、未塗布部36Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のy方向(紙面の縦方向、未塗布部36の長さ方向)の一方向における位置ズレの幅をδ、貫通孔18の直径をDとした場合、未塗布部36の長さLは、L≧D+2δの関係式を満たす必要がある。  Therefore, an expected slit formation region of the land portion formation region 33 is based on the position where the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 36A. When the width of the positional deviation in one direction in the y direction (the vertical direction of the paper surface, the length direction of the uncoated portion 36) is δ and the diameter of the through hole 18 is D, the length L of the uncoated portion 36 is L It is necessary to satisfy the relational expression ≧ D + 2δ.

また、この実施形態では、未塗布部36Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のx方向の一方向における位置ズレの幅を(3/2)Dとしたので、未塗布部36の幅をWとすると、ランド部形成領域33のx方向において、2つの未塗布部36A,36Bを一塊としたときの左端から右端までの長さMは、M≧W+2×(3/2)D=W+3Dの関係式を満たす必要がある。  Further, in this embodiment, the expected land portion formation region 33 with reference to the position where the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 36A. Since the width of the positional deviation in one direction of the slit forming region in the x direction is set to (3/2) D, if the width of the uncoated portion 36 is W, two unaligned portions are formed in the x direction of the land portion forming region 33. The length M from the left end to the right end when the application portions 36A and 36B are made into one lump needs to satisfy the relational expression M ≧ W + 2 × (3/2) D = W + 3D.

さらに、未塗布部36により形成される導電性ペーストの未塗布部分によって、ランド部パターン14Aがその縁部で断線するのを防止するために、ランド部形成領域33のx方向の長さXは、上記の長さMよりも大きく(X>M)なっている。同様に、ランド部形成領域33のy方向の長さYは、上記の未塗布部36の長さLよりも大きく(Y>L)なっている。
なお、上記のようにスリット形成領域を定義した場合、ランド部形成領域33は、スリット形成領域よりも大きな領域であればよく、その形状は特に限定されず、円形や楕円形などであってもよい。
Further, in order to prevent the land portion pattern 14A from being disconnected at the edge by an uncoated portion of the conductive paste formed by the uncoated portion 36, the length X in the x direction of the land portion forming region 33 is , Larger than the above length M (X> M). Similarly, the length Y in the y direction of the land portion formation region 33 is larger than the length L of the uncoated portion 36 (Y> L).
When the slit forming area is defined as described above, the land portion forming area 33 may be an area larger than the slit forming area, and the shape thereof is not particularly limited, and may be a circle or an ellipse. Good.

このようなスクリーン版30を用いて、印刷により、貫通孔18が設けられた基板11の一方の面11aに、導電性ペーストからなるランド部パターン14Aを形成すると、ランド部パターン14Aには、導電性ペーストの未塗布部分がスリット状に、間隔を置いて並列に2つ設けられたスリット形成領域が設けられる。すなわち、ランド部形成領域33の未塗布部36では、導電性ペーストが通らなくなるので、その部分は導電性ペーストが塗布されず、未塗布部分となる。  When the land pattern 14A made of a conductive paste is formed on one surface 11a of the substrate 11 provided with the through holes 18 by printing using such a screen plate 30, the land pattern 14A has a conductive An uncoated portion of the conductive paste is formed in a slit shape, and two slit forming regions are provided in parallel at an interval. That is, since the conductive paste does not pass through the unapplied portion 36 of the land portion formation region 33, the conductive paste is not applied to the portion, and the portion becomes an uncoated portion.

したがって、スクリーン版30を用いることにより、ランド部形成領域33によって形成されたランド部パターン14Aにおいても、2つの未塗布部分のうち、ランド部パターン14Aのx方向左側の未塗布部分の中心に、貫通孔18Aの中心を重ねて配置した場合、(1)貫通孔18の直径をD、(2)3つの貫通孔18のうち、ランド部パターン14Aのx方向左端の貫通孔18Aと、中央の貫通孔18BとのピッチをP11、(3)3つの貫通孔18のうち、ランド部パターン14Aのx方向右端の貫通孔18Cと、中央の貫通孔18BとのピッチをP12、(4)未塗布部分の幅をW、(5)2つの未塗布部分のピッチをP13、(6)ランド部パターン14Aのx方向に沿って、右側の未塗布部分におけるランド部パターン14Aの中心側の端から、3つの貫通孔18のうち、ランド部パターン14Aのx方向右端の貫通孔18Cまでの距離をN、(7)ランド部パターン14Aのx方向に沿って、右側の未塗布部分におけるランド部パターン14Aの右側の端から、3つの貫通孔18のうち、中央の貫通孔18Bまでの距離をN、(8)未塗布部分の長さをL、(9)貫通孔18に対して必要とされる未塗布部分の重なり量(幅)をγ、(10)ランド部パターン14Aにおいて、未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅を2δとすると、D>W、N=N=(1/2)D+(1/2)W−γ、L≧D+2δ、P11>D、P13>P11の関係を満たすようなスリット形成領域を有するランド部パターン14Aが形成される。 Therefore, by using the screen plate 30, in the land portion pattern 14A formed by the land portion forming region 33, of the two uncoated portions, the center of the uncoated portion on the left side in the x direction of the land portion pattern 14A is When the center of the through-hole 18A is overlapped, (1) the diameter of the through-hole 18 is D, and (2) of the three through-holes 18, the through-hole 18A at the left end in the x direction of the land pattern 14A and the center The pitch between the through hole 18B is P 11 , and (3) of the three through holes 18, the pitch between the through hole 18C at the right end in the x direction of the land pattern 14A and the central through hole 18B is P 12 , (4) the width of the uncoated portion W, (5) the pitch of the two non-coated portions P 13, along the x direction (6) the land part pattern 14A, the land portion pattern 1 in the non-application portion of the right side From the center end of the A, among the three through holes 18, N 1 the distance to the x-direction the right end of the through hole 18C of the land part pattern 14A, along the x direction (7) land part pattern 14A, right The distance from the right end of the land portion pattern 14A in the uncoated portion to the central through hole 18B among the three through holes 18 is N 2 , (8) the length of the uncoated portion is L, (9) When the overlap amount (width) of the uncoated portion required for the through hole 18 is γ, and (10) the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated portion in the land pattern 14A is 2δ. , D> W, N 1 = N 2 = (½) D + (½) W−γ, L ≧ D + 2δ, P 11 > D, and P 13 > P 11. The land portion pattern 14A is formed.

このように、スクリーン版30を用いて、印刷により、導電性ペーストからなるランド部パターン14Aを形成すれば、基板11の一方の面11aに対する導電性ペーストの印刷において、スクリーン版30のランド部形成領域33の位置ズレが生じたとしても、貫通孔18の内側面に、導電パターン20Aを形成する導電性ペーストを十分に塗布することができる。  As described above, when the land portion pattern 14A made of a conductive paste is formed by printing using the screen plate 30, the land portion of the screen plate 30 is formed in the printing of the conductive paste on the one surface 11a of the substrate 11. Even if the region 33 is misaligned, the conductive paste for forming the conductive pattern 20 </ b> A can be sufficiently applied to the inner surface of the through-hole 18.

言い換えれば、貫通孔18に対して、スクリーン版30のランド部形成領域33が、例えば、図8に示す位置から、図9〜14に示す位置にずれたとしても、未塗布部36の少なくとも一部が貫通孔18の開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と重なるので、貫通孔18の内側面に、導電パターン20Aを形成する導電性ペーストを十分に塗布することができる。  In other words, even if the land portion formation region 33 of the screen plate 30 is shifted from the position shown in FIG. 8 to the position shown in FIGS. 9 to 14 with respect to the through-hole 18, at least one of the uncoated portions 36. Since the portion overlaps the opening of the through hole 18 (the region inside the opening end 18a of the through hole 18), the conductive paste for forming the conductive pattern 20A is sufficiently applied to the inner surface of the through hole 18. Can do.

「工程Aの第三の実施形態」
図15〜21を参照して、工程Aの第三の実施形態を説明する。
ここでも、説明を簡単にするために、ランド部形成領域33における未塗布部と貫通孔18の関係について説明する。
この実施形態では、基板11の一方の面11aに形成されるランド部14に対応する貫通孔18が、間隔を置いて2つ設けられている場合について説明する。
“Third embodiment of step A”
With reference to FIGS. 15-21, 3rd embodiment of the process A is described.
Here, in order to simplify the description, the relationship between the uncoated portion and the through hole 18 in the land portion formation region 33 will be described.
In this embodiment, a case will be described in which two through holes 18 corresponding to the land portions 14 formed on one surface 11a of the substrate 11 are provided at intervals.

スクリーン版30のランド部形成領域33には、3つのスリット状の未塗布部37(37A,37B,37C)が間隔を置いて並列に設けられたスリット形成領域が設けられている。
なお、ここでは、ランド部形成領域33において、最も外側に設けられたスリット状の未塗布部37(37A,37C)にて囲まれる領域(図15では、縦がL、横がMの長方形の領域)をスリット形成領域とする。
また、未塗布部37の形状は、平面視長方形状をなしており、3つの未塗布部37の幅Wは等しくなっており、また、3つの未塗布部37の長さLは等しくなっている。このランド部形成領域33における未塗布部37以外の部分は、導電性ペーストを透過し、ランド部パターン14Aの概略形状を形成する部分である。
The land portion forming region 33 of the screen plate 30 is provided with a slit forming region in which three slit-shaped uncoated portions 37 (37A, 37B, 37C) are provided in parallel at intervals.
Here, in the land portion formation region 33, a region surrounded by the slit-shaped uncoated portions 37 (37A, 37C) provided on the outermost side (in FIG. 15, a rectangle having a length L and a width M). Region) is a slit formation region.
Further, the shape of the uncoated portion 37 is a rectangular shape in plan view, the widths W of the three uncoated portions 37 are equal, and the lengths L of the three uncoated portions 37 are equal. Yes. The portions other than the unapplied portion 37 in the land portion forming region 33 are portions that transmit the conductive paste and form a schematic shape of the land portion pattern 14A.

また、この実施形態において、ランド部形成領域33には、3つのスリット状の未塗布部37が間隔を置いて並列に設けられたスリット形成領域が設けられているとは、ランド部形成領域33のy方向(紙面の横方向)に沿って、ランド部形成領域33の一方の縁部から他方の縁部にわたって設けられた未塗布部37が、ランド部形成領域33のx方向(紙面の縦方向)に沿って、間隔を置いて並列に配設されていることを言う。  In this embodiment, the land portion forming region 33 is provided with a slit forming region in which three slit-shaped uncoated portions 37 are provided in parallel at intervals. The uncoated portion 37 provided from one edge portion of the land portion forming region 33 to the other edge portion along the y direction (lateral direction of the paper surface) of the land portion forming region 33 is formed in the x direction (vertical direction of the paper surface). It is said that it is arranged in parallel at intervals along the direction.

また、スクリーン版30としては、3つの未塗布部37のうち、ランド部形成領域33のx方向左端の未塗布部37Aの中心に、2つの貫通孔18のうち、ランド部形成領域33のx方向左側の貫通孔18Aの中心を重ねて配置した場合、ランド部形成領域33において、(1)貫通孔18の直径をD、(2)2つの貫通孔18Aと貫通孔18Bのピッチ(貫通孔18の中心間距離)をP21、(3)未塗布部37の幅をW、(4)3つの未塗布部37のうち、ランド部形成領域33のx方向左端の未塗布部37Aと、中央の未塗布部37Bとのピッチ(未塗布部37の長さ方向に沿う中心線間距離)をP22、(5)3つの未塗布部37のうち、ランド部形成領域33のx方向右端の未塗布部37Cと、中央の未塗布部37Bとのピッチ(未塗布部37の長さ方向に沿う中心線間距離)をP23、(6)ランド部形成領域33のx方向に沿って、未塗布部37Bにおけるメッシュ領域33の中心側の端から、貫通孔18Bまでの距離をN、(7)ランド部形成領域33のx方向に沿って、未塗布部37Cにおけるランド部形成領域33の右側の端から、貫通孔18Bまでの距離をN、(8)未塗布部37の長さをL、(9)貫通孔18に対して必要とされる未塗布部37の重なり量(幅)をγ、(10)ランド部パターン14Aにおいて、導電性ペーストの未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅、すなわち、ランド部形成領域33において、未塗布部37の長さ方向に許容される位置ズレの幅を2δとすると、第一の実施形態と同様に、D>W、P21>P22、N=N=(1/2)D+(1/2)W−γ、L≧D+2δの関係を満たし、また、貫通孔18Aに未塗布部37Bが重ならないように、P22>(1/2)(D+W)の関係を満たすようなスリット形成領域を有するものが用いられる。 Further, as the screen plate 30, among the three uncoated portions 37, the center of the uncoated portion 37 </ b> A at the left end in the x direction of the land portion forming region 33 is located at the x of the land portion forming region 33 among the two through holes 18. When the center of the through-hole 18A on the left side in the direction is overlapped, in the land portion formation region 33, (1) the diameter of the through-hole 18 is D, and (2) the pitch between the two through-holes 18A and 18B (through-hole (Center distance of 18) is P 21 , (3) the width of the uncoated portion 37 is W, and (4) of the three uncoated portions 37, the uncoated portion 37A at the left end in the x direction of the land portion forming region 33 P 22 is the pitch (distance between the center lines along the length direction of the uncoated portion 37) with the center uncoated portion 37B, and (5) of the three uncoated portions 37, the right end of the land portion forming region 33 in the x direction The pitch between the uncoated portion 37C and the central uncoated portion 37B (None centerline distance along the length of the coating section 37) P 23, along the x direction (6) the land portion formation region 33, from the center end of the mesh region 33 of uncoated portion 37B, The distance to the through hole 18B is N 1 , and (7) the distance from the right end of the land portion forming region 33 in the uncoated portion 37C to the through hole 18B is N 2 along the x direction of the land portion forming region 33. (8) The length of the uncoated portion 37 is L, (9) the overlapping amount (width) of the uncoated portion 37 required for the through-hole 18 is γ, and (10) the land pattern 14A is conductive. If the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated portion of the adhesive paste, that is, the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated portion 37 in the land portion formation region 33 is 2δ, Similar to one embodiment, D> W, P 21 > P 22 , N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ, L ≧ D + 2δ is satisfied, and P 22 > so that the uncoated portion 37B does not overlap the through hole 18A. Those having a slit forming region satisfying the relationship of (1/2) (D + W) are used.

このようにすれば、ランド部形成領域33のスリット形成領域は、未塗布部37Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置から、そのスリット形成領域が、ランド部形成領域33の幅方向(x方向の右側あるいは左側)にずれて、未塗布部37Aが、貫通孔18Aと重なる位置から外れ始めるにしたがって、未塗布部37Aと隣り合う(x方向の右隣りの)未塗布部37Bが、貫通孔18Aの右隣りに配設された貫通孔18Bに重なり始めるか、あるいは、未塗布部37Aのx方向の右側の(未塗布部37Bの右隣り)未塗布部37Cが、貫通孔18Aの右隣りに配設された貫通孔18Bに重なり始めるという関係を満たす。
したがって、基板11の一方の面11aに対する導電性ペーストの印刷において、スクリーン版30のランド部形成領域33の位置ズレが生じたとしても、未塗布部37の少なくとも一部が貫通孔18の開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と重なる。
In this way, the slit formation region of the land portion formation region 33 is located from the position where the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 37A. As the slit forming region shifts in the width direction (the right side or the left side in the x direction) of the land portion forming region 33 and the uncoated portion 37A starts to come off from the position overlapping the through hole 18A, it is adjacent to the uncoated portion 37A. The unapplied portion 37B that fits (right adjacent to the x direction) begins to overlap the through hole 18B disposed to the right of the through hole 18A, or the unapplied portion 37A on the right side (uncoated portion) of the uncoated portion 37A 37B to the right) The unapplied portion 37C satisfies the relationship of starting to overlap with the through hole 18B disposed on the right side of the through hole 18A.
Therefore, even when the land portion forming region 33 of the screen plate 30 is misaligned in the printing of the conductive paste on the one surface 11a of the substrate 11, at least a part of the uncoated portion 37 is an opening portion of the through hole 18. It overlaps with (a region inside the opening end 18a of the through hole 18).

具体的には、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の右側に(1/2)Dずれた場合(図16に示す状態)、貫通孔18Aに未塗布部37Aが重なる量が減少するが、貫通孔18Bに未塗布部37Bが重なる量が増加する。
したがって、さらに、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、x方向の右側にずれると、貫通孔18Aと未塗布部37Aが重ならなくなる一方、貫通孔18Bの開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と未塗布部37Bが完全に重なる。
Specifically, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted (1/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 15 (the state shown in FIG. 16), Although the amount of the uncoated portion 37A overlapping decreases, the amount of the uncoated portion 37B overlapping the through hole 18B increases.
Accordingly, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is further shifted to the right in the x direction, the through hole 18A and the uncoated portion 37A do not overlap, while the through hole 18B has an opening (open end of the through hole 18). The region inside the portion 18a) and the uncoated portion 37B completely overlap.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の右側にDずれた場合(図17に示す状態)、未塗布部37Bの中心に、貫通孔18Bの中心が重なるとともに、貫通孔18Aに未塗布部37Aが重ならなくなる。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted from the state shown in FIG. 15 by D on the right side in the x direction (the state shown in FIG. 17), the through hole 18B is formed at the center of the uncoated portion 37B. As the center overlaps, the uncoated portion 37A does not overlap the through hole 18A.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の右側に(3/2)Dずれた場合(図18に示す状態)、貫通孔18Bに未塗布部37Bが重なる量が減少する。  Further, when the slit forming region of the land forming region 33 is shifted (3/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 15 (the state shown in FIG. 18), the uncoated portion is formed in the through hole 18B. The amount that 37B overlaps decreases.

なお、上記のNおよびNと、上記の直径Dおよび幅Wとの関係式:N=N=(1/2)D+(1/2)W−γにおいて、貫通孔18に対して必要とされる未塗布部37の重なり量(幅)γ、言い換えれば、貫通孔18の内部に導電性ペーストをスムーズに流下させるために必要な、貫通孔18に対する未塗布部37の重なり量(幅)γを大きくすると、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の右側にずれた場合、より少ないずれ量で、未塗布部37Bが、貫通孔18Bと重なるようになる。 It should be noted that the relational expression between the above N 1 and N 2 and the above diameter D and width W: N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ The amount of overlap (width) γ of the unapplied portion 37 required in other words, in other words, the amount of overlap of the unapplied portion 37 with respect to the through-hole 18 necessary for smoothly flowing the conductive paste into the through-hole 18. When the (width) γ is increased, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted to the right side in the x direction from the state shown in FIG. It overlaps with 18B.

一方、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の左側に(1/2)Dずれた場合(図19に示す状態)、貫通孔18Aに未塗布部37Aが重なる量が減少するが、貫通孔18Bに未塗布部37Cが重なる量が増加する。
したがって、さらに、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、x方向の左側にずれると、貫通孔18Aと未塗布部37Aが重ならなくなる一方、貫通孔18Bの開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と未塗布部37Cが完全に重なる。
On the other hand, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is deviated (1/2) D to the left in the x direction from the state shown in FIG. 15 (state shown in FIG. 19), the uncoated portion is formed in the through hole 18A. Although the amount of overlapping 37A decreases, the amount of uncoated portion 37C overlapping the through hole 18B increases.
Accordingly, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is further shifted to the left in the x direction, the through hole 18A and the uncoated portion 37A do not overlap each other, while the opening portion of the through hole 18B (the opening end of the through hole 18). The region inside the portion 18a) and the uncoated portion 37C completely overlap.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の左側にDずれた場合(図20に示す状態)、未塗布部37Cの中心に、貫通孔18Bの中心が重なるとともに、貫通孔18Aに未塗布部37Aが重ならなくなる。  Further, when the slit forming region of the land portion forming region 33 is shifted from the state shown in FIG. 15 by D on the left side in the x direction (the state shown in FIG. 20), the through hole 18B is formed at the center of the uncoated portion 37C. As the center overlaps, the uncoated portion 37A does not overlap the through hole 18A.

また、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の右側に(3/2)Dずれた場合(図21に示す状態)、貫通孔18Bに未塗布部37Cが重なる量が減少する。  Further, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is shifted (3/2) D to the right side in the x direction from the state shown in FIG. 15 (the state shown in FIG. 21), the uncoated portion is formed in the through hole 18B. The amount that 37C overlaps decreases.

なお、上記のNおよびNと、上記の直径Dおよび幅Wとの関係式:N=N=(1/2)D+(1/2)W−γにおいて、貫通孔18に対して必要とされる未塗布部37の重なり量(幅)γ、言い換えれば、貫通孔18の内部に導電性ペーストをスムーズに流下させるために必要な、貫通孔18に対する未塗布部37の重なり量(幅)γを大きくすると、ランド部形成領域33のスリット形成領域が、図15に示す状態から、そのx方向の左側にずれた場合、より少ないずれ量で、未塗布部37Cが、貫通孔18Bと重なるようになる。 It should be noted that the relational expression between the above N 1 and N 2 and the above diameter D and width W: N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ The amount of overlap (width) γ of the unapplied portion 37 required in other words, in other words, the amount of overlap of the unapplied portion 37 with respect to the through-hole 18 necessary for smoothly flowing the conductive paste into the through-hole 18. When the (width) γ is increased, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is shifted to the left side in the x direction from the state shown in FIG. It overlaps with 18B.

また、工程Aでは、未塗布部37Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部パターン14Aを形成するが、実際には、導電性ペーストの塗布(印刷)時に、貫通孔18に対してランド部形成領域33のスリット形成領域を配置する際に位置ズレを生じることがあるため、ランド部形成領域33は、その位置ズレを許容した大きさである必要がある。  Further, in step A, the land pattern 14A is formed so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated part 37A. Actually, the through hole 18 is applied during application (printing) of the conductive paste. On the other hand, when the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged, a positional deviation may occur, and therefore the land portion formation region 33 needs to have a size that allows the positional deviation.

そこで、未塗布部37Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のy方向(紙面の縦方向、未塗布部37の長さ方向)の一方向における位置ズレの幅をδ、貫通孔18の直径をDとした場合、未塗布部37の長さLは、L≧D+2δの関係式を満たす必要がある。  Therefore, an expected slit formation region of the land portion formation region 33 is based on the position where the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 37A. When the width of the positional deviation in one direction in the y direction (the vertical direction of the paper surface, the length direction of the uncoated portion 37) is δ and the diameter of the through hole 18 is D, the length L of the uncoated portion 37 is L It is necessary to satisfy the relational expression ≧ D + 2δ.

また、この実施形態では、未塗布部37Aの中心に、貫通孔18Aの中心が重なるように、ランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置を基準として、予想されるランド部形成領域33のスリット形成領域のx方向の一方向における位置ズレの幅を(3/2)Dとしたので、未塗布部37の幅をWとすると、ランド部形成領域33のx方向において、3つの未塗布部37A,37B,37Cを一塊としたときの左端から右端までの長さMは、M≧W+2×(3/2)D=W+3Dの関係式を満たす必要がある。  Further, in this embodiment, the expected land portion formation region 33 with reference to the position where the slit formation region of the land portion formation region 33 is arranged so that the center of the through hole 18A overlaps the center of the uncoated portion 37A. The width of the positional deviation in one direction of the slit forming region in the x direction is set to (3/2) D. Therefore, if the width of the uncoated portion 37 is W, three non-applied portions are formed in the x direction of the land portion forming region 33. The length M from the left end to the right end when the application portions 37A, 37B, and 37C are made into one lump needs to satisfy the relational expression M ≧ W + 2 × (3/2) D = W + 3D.

さらに、未塗布部37により形成される導電性ペーストの未塗布部分によって、ランド部パターン14Aがその縁部で断線するのを防止するために、ランド部形成領域33のx方向の長さXは、上記の長さMよりも大きく(X>M)なっている。同様に、ランド部形成領域33のy方向の長さYは、上記の未塗布部37の長さLよりも大きく(Y>L)なっている。
なお、上記のようにスリット形成領域を定義した場合、ランド部形成領域33は、スリット形成領域よりも大きな領域であればよく、その形状は特に限定されず、円形や楕円形などであってもよい。
Further, in order to prevent the land portion pattern 14A from being disconnected at the edge by the uncoated portion of the conductive paste formed by the uncoated portion 37, the length X in the x direction of the land portion forming region 33 is , Larger than the above length M (X> M). Similarly, the length Y in the y direction of the land portion formation region 33 is larger than the length L of the uncoated portion 37 (Y> L).
When the slit forming area is defined as described above, the land portion forming area 33 may be an area larger than the slit forming area, and the shape thereof is not particularly limited, and may be a circle or an ellipse. Good.

このようなスクリーン版30を用いて、印刷により、貫通孔18が設けられた基板11の一方の面11aに、導電性ペーストからなるランド部パターン14Aを形成すると、ランド部パターン14Aには、導電性ペーストの未塗布部分がスリット状に、間隔を置いて並列に3つ設けられたスリット形成領域が設けられる。すなわち、ランド部形成領域33の未塗布部37では、導電性ペーストが通らなくなるので、その部分は導電性ペーストが塗布されず、未塗布部分となる。  When the land pattern 14A made of a conductive paste is formed on one surface 11a of the substrate 11 provided with the through holes 18 by printing using such a screen plate 30, the land pattern 14A has a conductive A non-coated portion of the conductive paste is provided in a slit shape, and three slit forming regions are provided in parallel at intervals. That is, since the conductive paste does not pass through the unapplied portion 37 of the land portion formation region 33, the conductive paste is not applied to the portion, and the portion becomes an uncoated portion.

したがって、スクリーン版30を用いることにより、ランド部形成領域33によって形成されたランド部パターン14Aにおいても、3つの未塗布部分のうち、ランド部パターン14Aのx方向左端の未塗布部分の中心に、2つの貫通孔18のうち、ランド部パターン14Aのx方向左側の貫通孔18Aの中心を重ねて配置した場合、(1)貫通孔18の直径をD、(2)2つの貫通孔18Aと貫通孔18BのピッチをP21、(3)未塗布部分の幅をW、(4)3つの未塗布部分のうち、ランド部パターン14Aのx方向左端の未塗布部分と、中央の未塗布部分とのピッチをP22、(5)3つの未塗布部分のうち、ランド部パターン14Aのx方向右端の未塗布部分と、中央の未塗布部分とのピッチをP23、(6)ランド部パターン14Aのx方向に沿って、中央の未塗布部分におけるランド部パターン14Aの中心側の端から、貫通孔18Bまでの距離をN、(7)ランド部パターン14Aのx方向に沿って、右端の未塗布部分におけるランド部パターン14Aの右側の端から、貫通孔18Bまでの距離をN、(8)未塗布部分の長さをL、(9)貫通孔18に対して必要とされる未塗布部分の重なり量(幅)をγ、(10)ランド部パターン14Aにおいて、導電性ペーストの未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅、すなわち、ランド部形成領域33において、未塗布部分の長さ方向に許容される位置ズレの幅を2δとすると、D>W、P21>P22、N=N=(1/2)D+(1/2)W−γ、L≧D+2δ、P22>(1/2)(D+W)の関係を満たすようなスリット形成領域を有するランド部パターン14Aが形成される。 Therefore, by using the screen plate 30, also in the land portion pattern 14A formed by the land portion forming region 33, among the three uncoated portions, the center of the uncoated portion at the left end in the x direction of the land portion pattern 14A is When the center of the through hole 18A on the left side in the x direction of the land portion pattern 14A is overlapped among the two through holes 18, (1) the diameter of the through hole 18 is D, and (2) the two through holes 18A and the through hole 18A are penetrated. The pitch of the holes 18B is P 21 , (3) the width of the uncoated portion is W, and (4) of the three uncoated portions, the uncoated portion at the left end in the x direction of the land pattern 14A, and the uncoated portion at the center P 22 the pitch, (5) of the three non-coated portions, and uncoated portions of the x-direction the right end of the land portion pattern 14A, P 23 the pitch of the central uncoated portion, (6) the land portion putter 14A along the x direction from the center side of the end of the land portion pattern 14A in the uncoated portion of the central, the distance to the through-hole 18B N 1, along the x direction (7) land part pattern 14A, the right end The distance from the right end of the land portion pattern 14A to the through hole 18B in the uncoated portion is N 2 , (8) the length of the uncoated portion is L, and (9) the through hole 18 is required. The overlap amount (width) of the uncoated portion is γ, (10) In the land portion pattern 14A, the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated portion of the conductive paste, that is, in the land portion forming region 33, When the width of the positional deviation allowed in the length direction of the uncoated portion is 2δ, D> W, P 21 > P 22 , N 1 = N 2 = (1/2) D + (1/2) W−γ , L ≧ D + 2δ, P 22> (1/2) (D Land part pattern 14A having a slit forming region that satisfies the relationship W) is formed.

このように、スクリーン版30を用いて、印刷により、導電性ペーストからなるランド部パターン14Aを形成すれば、基板11の一方の面11aに対する導電性ペーストの印刷において、スクリーン版30のランド部形成領域33の位置ズレが生じたとしても、貫通孔18の内側面に、導電パターン20Aを形成する導電性ペーストを十分に塗布することができる。  As described above, when the land portion pattern 14A made of a conductive paste is formed by printing using the screen plate 30, the land portion of the screen plate 30 is formed in the printing of the conductive paste on the one surface 11a of the substrate 11. Even if the region 33 is misaligned, the conductive paste for forming the conductive pattern 20 </ b> A can be sufficiently applied to the inner surface of the through-hole 18.

言い換えれば、貫通孔18に対して、スクリーン版30のランド部形成領域33が、例えば、図8に示す位置から、図15〜21に示す位置にずれたとしても、未塗布部37の少なくとも一部が貫通孔18の開口部(貫通孔18の開口端部18aよりも内側の領域)と重なるので、貫通孔18の内側面に、導電パターン20Aを形成する導電性ペーストを十分に塗布することができる。  In other words, even if the land portion formation region 33 of the screen plate 30 is shifted from the position shown in FIG. 8 to the position shown in FIGS. 15 to 21 with respect to the through hole 18, at least one of the uncoated portions 37. Since the portion overlaps the opening of the through hole 18 (the region inside the opening end 18a of the through hole 18), the conductive paste for forming the conductive pattern 20A is sufficiently applied to the inner surface of the through hole 18. Can do.

次いで、配線パターン12A、ランド部パターン14A,15A、および、導電パターン20A,21Aを硬化させて、基板11の一方の面11aに配線12およびランド部14,15を形成するとともに、貫通孔18の内側面に貫通配線20の一部を形成し、かつ、貫通孔19の内側面に貫通配線21の一部を形成する(工程B)。  Next, the wiring pattern 12A, the land portion patterns 14A and 15A, and the conductive patterns 20A and 21A are cured to form the wiring 12 and the land portions 14 and 15 on one surface 11a of the substrate 11, and the through holes 18 are formed. A part of the through wiring 20 is formed on the inner side surface, and a part of the through wiring 21 is formed on the inner side surface of the through hole 19 (step B).

この工程Bにおいて、熱硬化型の導電性ペーストを用いた場合、配線パターン12A、ランド部パターン14A,15A、および、導電パターン20A,21Aの一部が形成された基板11を、100〜150℃にて、20分〜60分加熱する。
また、工程Bにおいて、紫外線硬化型の導電性ペーストを用いた場合、基板11に形成された配線パターン12A、ランド部パターン14A,15A、および、導電パターン20A,21Aの一部に、紫外線を照射する。
In this step B, when a thermosetting conductive paste is used, the substrate 11 on which the wiring pattern 12A, the land pattern 14A, 15A, and part of the conductive pattern 20A, 21A are formed is heated to 100 to 150 ° C. At 20 to 60 minutes.
Further, in the process B, when the ultraviolet curable conductive paste is used, the wiring pattern 12A, the land pattern 14A, 15A, and the conductive patterns 20A, 21A formed on the substrate 11 are irradiated with ultraviolet rays. To do.

次いで、配線12、ランド部14,15、貫通配線20および貫通配線21の一部が形成された基板11を反転させて(裏返して)、配線12を下向きにし、基板11の他方の面11bを上向きにして、例えば、作業台などの平坦な面上に配置する。  Next, the substrate 11 on which the wiring 12, the land portions 14 and 15, the through wiring 20, and a part of the through wiring 21 are formed is inverted (turned over) so that the wiring 12 faces downward, and the other surface 11 b of the substrate 11 is For example, it is placed on a flat surface such as a work table.

以下、上述の工程Aおよび工程Bと同様にして、基板11の他方の面11bに配線13およびランド部16,17を形成するとともに、貫通孔18の内側面に貫通配線20の一部を形成し、かつ、貫通孔19の内側面に貫通配線21の一部を形成する。これにより、基板11の一方の面11a側から形成した貫通配線20および貫通配線21の一部と、基板11の他方の面11b側から形成した貫通配線20および貫通配線21の一部とが連接して、貫通配線20と貫通配線21の形成が完了し、配線基板10を得る。  Thereafter, the wiring 13 and the land portions 16 and 17 are formed on the other surface 11b of the substrate 11 and a part of the through wiring 20 is formed on the inner surface of the through hole 18 in the same manner as in the above-described Step A and Step B. In addition, a part of the through wiring 21 is formed on the inner surface of the through hole 19. Thereby, a part of the through wiring 20 and the through wiring 21 formed from the one surface 11a side of the substrate 11 and a part of the through wiring 20 and the through wiring 21 formed from the other surface 11b side of the substrate 11 are connected. Then, the formation of the through wiring 20 and the through wiring 21 is completed, and the wiring substrate 10 is obtained.

この実施形態の配線基板の製造方法によれば、工程Aにおいて、基板に設けられた少なくとも2つの貫通孔18のうちの1つの貫通孔αの中心に、複数の未塗布部のうちの1つの未塗布部分βの中心が重なるように、スクリーン版30のランド部形成領域33のスリット形成領域を配置した位置から、スリット形成領域が、その幅方向にずれて、未塗布部分βが、貫通孔αと重なる位置から外れ始めるにしたがって、未塗布部分βとは別の未塗布部分βが、貫通孔αと隣り合う貫通孔αに重なり始めるという関係を満たすようなスリット形成領域を有するランド部パターンを形成するので、スクリーン版30のランド部形成領域33の位置ズレが生じた場合でも、未塗布部分(空気孔)の少なくとも一部が貫通孔18,19の開口部と重なるから、その未塗布部分(空気孔)により、貫通孔18,19内に空気が溜まり難くなり、貫通孔18,19の内部に導電性ペーストがスムーズに流下して、貫通孔18,19の内側面に、適量の導電性ペーストを塗布することができる。したがって、貫通孔18,19の内側面に塗布された導電性ペーストからなる導電パターン20A,21Aを硬化してなる貫通配線20,21に断線が生じなくなるから、貫通配線20,21の導通率をさらに向上させることができる。 According to the method for manufacturing a wiring board of this embodiment, in step A, one of a plurality of uncoated portions is provided at the center of one through hole α1 of at least two through holes 18 provided in the board. The slit formation region is shifted in the width direction from the position where the slit formation region of the land portion formation region 33 of the screen plate 30 is arranged so that the centers of the two non-application portions β 1 overlap, and the uncoated portion β 1 according start out from a position overlapping the through-hole alpha 1, such as non-coated portions beta 1 further uncoated portions beta 2 and satisfies the relationship begin overlapping the through hole alpha 2 adjacent to the through-hole alpha 1 Since the land portion pattern having the slit forming region is formed, even when the land portion forming region 33 of the screen plate 30 is misaligned, at least a part of the uncoated portion (air hole) is formed in the through holes 18 and 19. Since it overlaps with the opening, the unapplied portion (air hole) makes it difficult for air to accumulate in the through holes 18 and 19, and the conductive paste flows smoothly into the through holes 18 and 19. , 19 can be coated with an appropriate amount of conductive paste. Therefore, since no breakage occurs in the through wirings 20 and 21 formed by curing the conductive patterns 20A and 21A made of a conductive paste applied to the inner side surfaces of the through holes 18 and 19, the conductivity of the through wirings 20 and 21 is increased. Further improvement can be achieved.

なお、この実施形態では、基板11の一方の面11aにコイル状の配線12を形成し、かつ、基板11の他方の面11bに直線状の配線13を形成する配線基板10の製造方法を例示したが、本発明の配線基板の製造方法はこれに限定されない。本発明の配線基板の製造方法にあっては、基板の一方の面および/または他方の面に形成する配線の形状は如何なる形状であってもよい。また、本発明の配線基板の製造方法にあっては、基板の一方の面または他方の面のいずれか一方に配線を形成し、その配線を基端とし、配線が形成されている面とは反対側の面に渡る貫通配線を形成し、その反対側の面にて、貫通配線の端部を露出させてもよい。そして、その貫通配線の端部に、電子部品の端子を接続してもよい。  In this embodiment, a method of manufacturing the wiring substrate 10 is illustrated in which the coil-shaped wiring 12 is formed on one surface 11a of the substrate 11 and the linear wiring 13 is formed on the other surface 11b of the substrate 11. However, the manufacturing method of the wiring board of the present invention is not limited to this. In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, the shape of the wiring formed on one surface and / or the other surface of the substrate may be any shape. Further, in the method of manufacturing a wiring board according to the present invention, a wiring is formed on one of the one surface or the other surface of the substrate, and the surface on which the wiring is formed with the wiring as a base end A through wiring extending over the opposite surface may be formed, and the end of the through wiring may be exposed on the opposite surface. And you may connect the terminal of an electronic component to the edge part of the penetration wiring.

また、この実施形態では、ランド部の形状が平面視正方形状である場合を例示したが、本発明の配線基板の製造方法はこれに限定されない。本発明の配線基板の製造方法にあっては、ランド部の形状は平面視円形状、楕円形状などであってもよい。  Moreover, in this embodiment, although the case where the shape of the land part was square shape in planar view was illustrated, the manufacturing method of the wiring board of this invention is not limited to this. In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, the shape of the land portion may be a circular shape in plan view, an elliptical shape, or the like.

10・・・配線基板、11・・・基板、12,13・・・配線、14,15,16,17・・・ランド部、18,19・・・貫通孔、18a,19a・・・開口端部、20,21・・・貫通配線、30・・・スクリーン版、31・・・スクリーン基体、32・・・配線形成領域、33,34・・・ランド部形成領域、35,36,37・・・未塗布部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Wiring board, 11 ... Board, 12, 13 ... Wiring, 14, 15, 16, 17 ... Land part, 18, 19 ... Through-hole, 18a, 19a ... Opening End part, 20, 21 ... through wiring, 30 ... screen plate, 31 ... screen base, 32 ... wiring formation area, 33, 34 ... land part formation area, 35, 36, 37 ... Unapplied part.

Claims (1)

基板と、該基板に設けられた配線および該配線に連接するランド部と、前記基板の貫通孔の内側面に設けられ、前記配線と電気的に接続され、他方の面と電気的に接続するための貫通配線と、を備えた配線基板の製造方法であって、
少なくとも2つの貫通孔が設けられた基板の一方の面に、印刷により、導電性ペーストからなる配線パターンと、前記貫通孔の開口端部を含み、前記配線パターンに連接する前記導電性ペーストからなるランド部パターンとを形成するとともに、前記ランド部パターンには、前記導電性ペーストの未塗布部分をスリット状に、間隔を置いて並列に複数設けたスリット形成領域を設けることにより、前記貫通孔の内側面に前記導電性ペーストからなる導電パターンを形成する工程Aと、
前記配線パターン、前記ランド部パターンおよび前記導電パターンを硬化させて、配線、ランド部および貫通配線を形成する工程Bと、を有し、
前記工程Aにおいて、前記少なくとも2つの貫通孔のうちの1つの貫通孔αの中心に、前記複数の未塗布部分のうちの1つの未塗布部分βの中心が重なるように、前記スリット形成領域を配置した位置から、前記スリット形成領域が、その幅方向にずれて、前記未塗布部分βが、前記貫通孔αと重なる位置から外れ始めるにしたがって、前記未塗布部分βとは別の未塗布部分βが、前記貫通孔αと隣り合う貫通孔αに重なり始めるという関係を満たすような前記スリット形成領域を有する前記ランド部パターンを形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
A board, a wiring provided on the board, a land portion connected to the wiring, and an inner side surface of the through hole of the board are electrically connected to the wiring and electrically connected to the other surface. And a through wiring for manufacturing a wiring board comprising:
Printed on one surface of a substrate provided with at least two through-holes by a wiring pattern made of a conductive paste and the conductive paste connected to the wiring pattern including the opening end of the through-hole. A land portion pattern, and the land portion pattern is provided with slit-forming regions in which a plurality of uncoated portions of the conductive paste are provided in a slit shape in parallel with a gap therebetween. Forming a conductive pattern made of the conductive paste on the inner surface; and
The wiring pattern, the land portion pattern, and the conductive pattern are cured to form a wiring, a land portion, and a through wiring; and
In the step A, the one of the through holes alpha 1 in the center of the at least two through holes, so that one non-coated portions beta 1 in the center of the plurality of uncoated portion overlaps the slit forming As the slit forming region is shifted in the width direction from the position where the region is disposed, and the uncoated portion β 1 begins to deviate from the position overlapping the through hole α 1 , the uncoated portion β 1 wiring board different uncoated portions beta 2, characterized in that to form the land portion pattern having the slit forming region that satisfies the relationship begin overlapping the through hole alpha 2 adjacent to the through hole alpha 1 Manufacturing method.
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