JP2000132657A - Ic card and manufacture of the same - Google Patents

Ic card and manufacture of the same

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JP2000132657A
JP2000132657A JP30748498A JP30748498A JP2000132657A JP 2000132657 A JP2000132657 A JP 2000132657A JP 30748498 A JP30748498 A JP 30748498A JP 30748498 A JP30748498 A JP 30748498A JP 2000132657 A JP2000132657 A JP 2000132657A
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JP
Japan
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wiring layer
hole
core sheet
antenna
card
Prior art date
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Pending
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JP30748498A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Morizumi
憲一 森住
Kazumi Izumitani
和美 泉谷
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an IC card capable of being manufactured at a reduced cost and having wiring layers which are formed on the front and rear surface of a substrate and are connected by means of a stable through-hole, and its manufacturing method. SOLUTION: The IC card is provided with a first core sheet 10, a first through-hole TH1 opened by a laser beam irradiation to penetrate the first core sheet 10, a first through-hole wiring layer 12 which is formed to be buried in the first through-hole TH1, a first wiring layer 11 which is formed on one surface of the first core sheet 10 and connected to the first through-hole wiring layer 12 and a second wiring layer 13 which is formed on the other surface of the first core sheet 10 and connected to the first through-hole wiring layer 12. An IC chip 14 is fixed onto the first core sheet 10 by connection to the first wiring layer 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子(IC
チップ)を搭載した非接触型ICカードおよびその製造
方法に関する。
The present invention relates to a semiconductor device (IC)
Chip) and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報処理の効率化やセキュリティ
ーの観点から、データの記録、処理を行う半導体素子
(ICチップ)を搭載したICカードが普及しつつあ
る。このようなICカードには、カードの外部端子と外
部処理装置の端子とを接続してデータの送受信を行う接
触方式と、電磁波でデータの送受信を行うアンテナコイ
ルとデータ処理のための半導体素子を内蔵し、リーダラ
イタなどのICカード用外部装置との間の読み書きをい
わゆる無線方式で実現する非接触方式とがある。さらに
非接触方式としては、IC回路の駆動電力が電磁誘導で
供給され、バッテリを内蔵しないタイプも開発されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, IC cards equipped with semiconductor elements (IC chips) for recording and processing data have become widespread from the viewpoint of efficiency of information processing and security. Such an IC card includes a contact system for transmitting and receiving data by connecting an external terminal of the card and a terminal of an external processing device, an antenna coil for transmitting and receiving data by electromagnetic waves, and a semiconductor element for data processing. There is a non-contact type in which a read / write operation with a built-in IC card external device such as a reader / writer is realized by a so-called wireless method. Further, as a non-contact type, a type in which driving power of an IC circuit is supplied by electromagnetic induction and a battery is not built in has been developed.

【0003】上記の非接触方式のICカードの構造は、
データの読み出し、書き込みを行うリーダライタとの間
でデータ信号及び電力を送受信するためのアンテナコイ
ルと、上記の信号を処埋するためのICチップなどの電
子部品と、アンテナコイルおよび電子部品を接続および
保持するプラスチック基板とから構成される。アンテナ
コイルの形態としては、銅線等を周回させ形成した巻線
コイル、プラスチック基板に銅またはアルミ箔を貼り合
わせコイル形状にエッチングして形成したコイル、およ
び、プラスチック基板上に導電性のインキにより印刷形
成したコイルの3つに大別される。
The structure of the above-mentioned non-contact type IC card is as follows.
Connects an antenna coil for transmitting and receiving data signals and power to and from a reader / writer that reads and writes data, an electronic component such as an IC chip for processing the above signal, and an antenna coil and an electronic component And a holding plastic substrate. As the form of the antenna coil, a winding coil formed by circling a copper wire or the like, a coil formed by bonding a copper or aluminum foil to a plastic substrate and etching into a coil shape, and a conductive ink on a plastic substrate by a conductive ink It is roughly divided into three types of coils formed by printing.

【0004】上記の3種類のコイルのうち、巻線コイル
は特性的に優れ、比較的安価に製造できる利点はある
が、電子部品の接続作業が複雑であり、またICカード
の薄型化が困難であるという短所がある。そこで、IS
O規格に準拠した厚さとなるように薄型化したICカー
ドを製造するために、上記のようなエッチング法あるい
は印刷法によりプラスチック基板上にアンテナコイルを
形成する方法が広く用いられるようになってきている。
エッチング法はエッチングという複雑な処理が必須であ
ることから、より簡単に製造可能である印刷法がICカ
ードの開発において重要な技術となってきている。
[0004] Of the above three types of coils, wound coils are excellent in characteristics and have the advantage that they can be manufactured relatively inexpensively, but the connection work of electronic parts is complicated, and it is difficult to make the IC card thinner. There is a disadvantage that it is. So IS
In order to manufacture an IC card thinned to a thickness conforming to the O standard, a method of forming an antenna coil on a plastic substrate by the above-described etching method or printing method has been widely used. I have.
Since the etching method requires a complicated process of etching, a printing method that can be manufactured more easily has become an important technique in the development of IC cards.

【0005】上記のエッチング法あるいは印刷法を用い
て、プラスチックなどの絶縁性基板上にICカード用の
アンテナコイルおよびICチップを接続および保持する
端子などの回路を形成する場合には、例えば特開平8−
216570号公報あるいは特開平9−1970号公報
などに記載されているように、電力損失の小さい高特性
のアンテナコイルを得るために、基板の表裏にそれぞれ
アンテナコイルを形成し、基板を貫通するスルーホール
を介して並列に接続することによって回路抵抗を減少さ
せ、インダクタンス値を高くする方法、あるいは、直列
に接続して巻数を増やしてインダクタンス値を高くする
方法がとられる。
[0005] In the case of forming a circuit such as an antenna coil for an IC card and a terminal for connecting and holding an IC chip on an insulating substrate such as plastic using the above-mentioned etching method or printing method, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-
As described in JP-A-216570 or JP-A-9-1970, in order to obtain a high-performance antenna coil with small power loss, an antenna coil is formed on each of the front and back surfaces of the substrate, and a through-hole penetrating the substrate is formed. A method of reducing the circuit resistance by connecting in parallel via a hole to increase the inductance value, or a method of connecting in series and increasing the number of turns to increase the inductance value are adopted.

【0006】また、ICチップを配置する位置によって
は、アンテナ両端からの接続端子を接近させる必要があ
り、この場合にはジャンパ線を裏面から回り込ませるこ
とでアンテナコイルと干渉しないように接続する方法が
とられる。また更に共振領域を調整するために、コンデ
ンサに相当する静電プレートを基板に形成する場合があ
るが、基板の表裏に静電プレートを配置して、アンテナ
コイルと接続する場合にも同様にアンテナコイルと干渉
しないような配線の取り回しをする必要がある。このよ
うに、上記のいずれの場合にも、スルーホールを介して
基板の表裏面上に形成された配線層を接続する手段がと
られる。
Further, depending on the position where the IC chip is arranged, it is necessary to approach connection terminals from both ends of the antenna. In this case, a method of connecting a jumper wire from the back surface so as not to interfere with the antenna coil is required. Is taken. In some cases, an electrostatic plate corresponding to a capacitor is formed on a substrate in order to further adjust the resonance region. However, when an electrostatic plate is arranged on the front and back of the substrate and connected to an antenna coil, the antenna is similarly formed. It is necessary to arrange the wiring so as not to interfere with the coil. As described above, in any of the above cases, means for connecting the wiring layers formed on the front and back surfaces of the substrate via the through holes is employed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来のエッチング法を用いたICカードの製造方法にお
いては、プラスチックなどの絶縁性基板の表裏面上にア
ンテナコイルをはじめとする必要な回路を形成し、その
後に接点を設けようとする個所に穴を開け、メッキ工程
によりスルーホール内を導電体で埋め込み、基板の表裏
面上に形成された配線層の接続が完了するが、製造工程
が煩雑でしかも製造コストも高いという欠点がある。
However, in the above-mentioned conventional method of manufacturing an IC card using the etching method, necessary circuits including an antenna coil are formed on the front and back surfaces of an insulating substrate made of plastic or the like. Then, a hole is made in a place where a contact is to be provided, and the inside of the through hole is filled with a conductor by a plating process, and the connection of the wiring layer formed on the front and back surfaces of the substrate is completed, but the manufacturing process is complicated. In addition, there is a disadvantage that the manufacturing cost is high.

【0008】また、印刷法を用いたICカードの製造方
法においては、予め打ち抜きによりスルーホールを設け
た基板の表裏面上に、導電性インキをスルーホールを埋
め込みながらアンテナコイルのパターンにスクリーン印
刷するが、上記の打ち抜きによりスルーホールを形成す
る場合、スルーホールの開口径が大きいためにスルーホ
ール内に埋め込んだ導電性インキが流出してしまうこと
があり、安定なスルーホールによる接続を形成すること
が困難となる問題があった。
In a method of manufacturing an IC card using a printing method, conductive ink is screen-printed on the front and back surfaces of a substrate provided with through holes by punching in advance while embedding the through holes in the antenna coil. However, when the through hole is formed by the above punching, the conductive ink embedded in the through hole may flow out due to the large opening diameter of the through hole, and a stable connection through the through hole may be formed. There was a problem that became difficult.

【0009】上記の問題は、非接触方式のICカードに
おけるアンテナコイルとしての問題に限らず、ICカー
ド内に内蔵され、ICチップと接続する配線層を形成す
る場合に共通する問題である。
The above problem is not limited to the problem as an antenna coil in a non-contact type IC card, but is a problem common to the case where a wiring layer built in the IC card and connected to the IC chip is formed.

【0010】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、本発明は、基板の表裏面上に形成され、安定なスル
ーホールにより接続された配線層を有し、コストを削減
して製造することが可能なICカードおよびその製造方
法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and the present invention has a wiring layer formed on the front and back surfaces of a substrate and connected by stable through holes, and is manufactured at a reduced cost. It is an object of the present invention to provide an IC card capable of performing the method and a manufacturing method thereof.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のICカードは、ICチップおよび当該IC
チップに接続する配線層を内蔵するICカードであっ
て、第1コアシートと、前記第1コアシートを貫通する
ように、レーザー光照射により開口された第1スルーホ
ールと、前記第1スルーホールを埋め込んで形成された
第1スルーホール配線層と、前記第1コアシートの一方
の面上に形成され、前記第1スルーホール配線層に接続
して形成された第1配線層と、前記第1コアシートの他
方の面上に形成され、前記第1スルーホール配線層に接
続して形成された第2配線層とを有し、前記第1配線層
に接続して前記第1コアシート上に前記ICチップが固
着されている。
In order to achieve the above object, an IC card according to the present invention comprises an IC chip and the IC.
An IC card including a wiring layer connected to a chip, comprising: a first core sheet; a first through hole opened by irradiating a laser beam so as to penetrate the first core sheet; A first through-hole wiring layer formed by embedding a first wiring sheet; a first wiring layer formed on one surface of the first core sheet and connected to the first through-hole wiring layer; A second wiring layer formed on the other surface of the one-core sheet and connected to the first through-hole wiring layer; and connected to the first wiring layer on the first core sheet. , The IC chip is fixed.

【0012】上記の本発明のICカードによれば、第1
コアシートの表裏面上に、第1配線層と第2配線層がそ
れぞれ形成されており、それらが第1スルーホール内に
埋め込まれた第1スルーホール配線層により接続されて
いる。スルーホールは、第1コアシートにレーザー光を
照射して形成したものであり、打ち抜き法に比べて微細
な径の孔を容易に複数個開口することが可能であり、印
刷法により導電性インキをスルーホール内に埋め込んだ
ときに導電性インキがコアシートの裏面ににじみ出るこ
とを抑制し、安定なスルーホールによる接続を実現する
ことができる。また、印刷法による配線層の形成は、従
来のエッチング法による場合と同様の薄型化を可能に
し、さらにコストを削減して製造されたICカードとす
ることができる。
According to the IC card of the present invention, the first
A first wiring layer and a second wiring layer are respectively formed on the front and back surfaces of the core sheet, and they are connected by a first through-hole wiring layer embedded in the first through-hole. The through-hole is formed by irradiating the first core sheet with a laser beam, and it is possible to easily open a plurality of fine-diameter holes as compared with the punching method. When the conductive ink is embedded in the through hole, the conductive ink is prevented from oozing out to the back surface of the core sheet, and a stable connection through the through hole can be realized. In addition, the formation of the wiring layer by the printing method enables the thinning as in the case of the conventional etching method, and can further reduce the cost to produce an IC card.

【0013】上記の本発明のICカードは、好適には、
前記第1スルーホールの開口径が、10〜300μmで
ある。スルーホールの開口径が10μmよりも小さい径
では導電性インキによる埋め込みが困難となる場合があ
り、300μmよりも大きい径では導電性インキのにじ
み出しが生じやすくなる。
The above-mentioned IC card of the present invention is preferably
The opening diameter of the first through hole is 10 to 300 μm. If the opening diameter of the through hole is smaller than 10 μm, it may be difficult to embed with the conductive ink. If the opening diameter is larger than 300 μm, the conductive ink tends to bleed.

【0014】上記の本発明のICカードは、好適には、
前記第1スルーホールが、1つの接続点に対して並べて
形成された複数個の副スルーホール群から構成されてお
り、前記第1スルーホール配線層が、前記複数個の副ス
ルーホール群を埋め込んで、前記第1配線層と前記第2
配線層を接続するように形成されている。1つの接続点
に対するスルーホールを複数個の副スルーホール群から
構成し、それらを埋め込んでスルーホール配線層を形成
することで、第1スルーホール配線層と第1配線層、あ
るいは、第1スルーホール配線層と第2配線層との接触
面積を増大させ、スルーホール配線層による第1配線層
と第2配線層の接続の信頼性を向上させることができ
る。
The above-mentioned IC card of the present invention is preferably
The first through-hole includes a plurality of sub-through-hole groups formed side by side with respect to one connection point, and the first through-hole wiring layer embeds the plurality of sub-through-hole groups. The first wiring layer and the second wiring layer
It is formed so as to connect the wiring layers. By forming a through-hole for one connection point from a plurality of sub-through-hole groups and embedding them to form a through-hole wiring layer, the first through-hole wiring layer and the first wiring layer or the first through-hole are formed. The contact area between the hole wiring layer and the second wiring layer can be increased, and the reliability of connection between the first wiring layer and the second wiring layer by the through-hole wiring layer can be improved.

【0015】上記の本発明のICカードは、好適には、
前記第1および第2配線層とスルーホール配線層が、前
記ICカードと当該ICカード用外部装置とが非接触方
式で通信を行うためのアンテナを構成する。さらに好適
には、前記第1配線層が第1アンテナを構成し、前記第
2配線層が第2アンテナを構成し、前記第1アンテナお
よび前記第2アンテナが並列に接続されている、あるい
は、前記第1アンテナおよび前記第2アンテナが直列に
接続されている。基板の表裏にそれぞれアンテナを形成
し、基板を貫通するスルーホールを介して並列に接続す
ることによって回路抵抗を減少させ、インダクタンス値
を高め、あるいは、直列に接続して巻数を増やしてイン
ダクタンス値を高めることにより、リーダライタなどの
ICカード用外部装置との情報の送受信を確実に行える
ようになる。
The above-mentioned IC card of the present invention is preferably
The first and second wiring layers and the through-hole wiring layer constitute an antenna for performing non-contact communication between the IC card and the external device for the IC card. More preferably, the first wiring layer forms a first antenna, the second wiring layer forms a second antenna, and the first antenna and the second antenna are connected in parallel, or The first antenna and the second antenna are connected in series. Antennas are formed on the front and back of the board, respectively, and the circuit resistance is reduced by connecting them in parallel through through-holes penetrating the board to increase the inductance value, or by connecting in series and increasing the number of turns to increase the inductance value. By increasing the value, it is possible to reliably transmit and receive information to and from an external device for an IC card such as a reader / writer.

【0016】上記の本発明のICカードは、好適には、
前記第1コアシートの前記第1配線層形成面上に第2コ
アシートが積層しており、前記第2コアシートを貫通し
て前記第1配線層あるいは前記第1スルーホール配線層
に達するように、レーザー光照射により開口された第2
スルーホールと、前記第2スルーホールを埋め込んで前
記第1配線層あるいは前記第1スルーホール配線層に接
続して形成された第2スルーホール配線層と、前記第2
コアシートの前記第1コアシートと積層する面の裏面上
に形成され、前記第2スルーホール配線層に接続して形
成された第3配線層とをさらに有する。これにより、よ
り複雑な3層構成の配線層とすることが可能であり、特
に上記の配線層を非接触方式のICカード用のアンテナ
とする場合には、よりインダクタンス値を高めることが
可能である。
The above-mentioned IC card of the present invention is preferably
A second core sheet is laminated on the first wiring layer forming surface of the first core sheet, and penetrates the second core sheet to reach the first wiring layer or the first through-hole wiring layer. The second opened by laser light irradiation
A second through-hole wiring layer formed by burying the second through-hole and connecting to the first wiring layer or the first through-hole wiring layer;
A third wiring layer formed on the back surface of the core sheet to be laminated with the first core sheet, the third wiring layer being connected to the second through-hole wiring layer; This makes it possible to form a more complicated wiring layer having a three-layer structure. In particular, when the wiring layer is used as an antenna for a non-contact IC card, the inductance value can be further increased. is there.

【0017】また、上記の目的を達成するため、本発明
のICカードの製造方法は、ICチップおよび当該IC
チップに接続する配線層を内蔵するICカードの製造方
法であって、第1コアシートに対してレーザー光を照射
し、前記第1コアシートを貫通する第1スルーホールを
開口する工程と、導電性インキを用いたスクリーン印刷
法により、前記第1コアシートの一方の面上に第1配線
層を形成する工程と、導電性インキを用いたスクリーン
印刷法により、前記第1コアシートの他方の面上に第2
配線層を形成する工程と、前記第1配線層に接続して前
記第1コアシート上に前記ICチップを固着する工程と
を有し、前記第1配線層を形成する工程および/または
前記第2配線層を形成する工程において、前記導電性イ
ンキを前記第1スルーホールに埋め込み、前記第1配線
層および前記第2配線層を接続するための第1スルーホ
ール配線層を形成する。
Further, in order to achieve the above object, a method of manufacturing an IC card according to the present invention comprises the steps of:
A method of manufacturing an IC card including a wiring layer connected to a chip, the method comprising: irradiating a first core sheet with a laser beam to open a first through hole penetrating the first core sheet; Forming a first wiring layer on one surface of the first core sheet by a screen printing method using a conductive ink, and forming the first wiring layer on the other surface of the first core sheet by a screen printing method using a conductive ink. Second on the surface
Forming a wiring layer, and connecting the IC chip to the first core sheet by connecting the IC chip to the first wiring layer, and forming the first wiring layer and / or In the step of forming the two wiring layers, the conductive ink is buried in the first through holes to form a first through hole wiring layer for connecting the first wiring layer and the second wiring layer.

【0018】上記の本発明のICカードの製造方法は、
第1コアシートに対してレーザー光を照射して第1コア
シートを貫通する第1スルーホールを開口し、導電性イ
ンキを用いたスクリーン印刷法により、第1コアシート
の一方の面上に第1配線層を形成し、導電性インキを用
いたスクリーン印刷法により、第1コアシートの他方の
面上に第2配線層を形成する。次に、第1配線層に接続
して前記第1コアシート上に前記ICチップを固着す
る。ここで、第1配線層を形成する工程および/または
第2配線層を形成する工程において、導電性インキを第
1スルーホールに埋め込み、第1配線層および第2配線
層を接続するための第1スルーホール配線層を形成す
る。
The method of manufacturing an IC card according to the present invention is as follows.
The first core sheet is irradiated with a laser beam to open a first through hole penetrating the first core sheet, and the first core sheet is printed on one surface of the first core sheet by screen printing using a conductive ink. One wiring layer is formed, and a second wiring layer is formed on the other surface of the first core sheet by a screen printing method using a conductive ink. Next, the IC chip is fixed on the first core sheet by connecting to the first wiring layer. Here, in the step of forming the first wiring layer and / or the step of forming the second wiring layer, a conductive ink is buried in the first through hole to connect the first wiring layer and the second wiring layer. One through-hole wiring layer is formed.

【0019】上記の本発明のICカードの製造方法によ
れば、第1コアシートの表裏面上に、第1配線層と第2
配線層をそれぞれ形成し、それらを第1スルーホール内
に埋め込まれた第1スルーホール配線層により接続して
形成する。第1コアシートにレーザー光を照射して上記
のスルーホールを形成することから、打ち抜き法に比べ
て微細な径の孔を容易に複数個開口することが可能であ
り、スクリーン印刷法により導電性インキをスルーホー
ル内に埋め込んだときに導電性インキがにじみ出すこと
を抑制し、安定なスルーホールによる接続を実現するこ
とができる。また、スクリーン印刷により配線層を形成
するので、従来のエッチング法による場合と同様の薄型
化が可能であり、さらにコストを削減してICカードを
製造することが可能となる。
According to the IC card manufacturing method of the present invention, the first wiring layer and the second wiring layer are formed on the front and back surfaces of the first core sheet.
Wiring layers are formed, and they are connected by a first through-hole wiring layer embedded in the first through-hole. By irradiating the first core sheet with a laser beam to form the above-mentioned through-holes, it is possible to easily open a plurality of fine-diameter holes as compared with the punching method. When the ink is buried in the through hole, the conductive ink is prevented from oozing out, and a stable connection through the through hole can be realized. Further, since the wiring layer is formed by screen printing, the thickness can be reduced as in the case of the conventional etching method, and the cost can be further reduced to manufacture an IC card.

【0020】上記の本発明のICカードの製造方法は、
好適には、前記第1スルーホールを開口する工程におい
ては、開口径が10〜300μmとなるように第1スル
ーホールを開口する。スルーホールの開口径が10μm
よりも小さい径では導電性インキによる埋め込みが困難
となる場合があり、300μmよりも大きい径では導電
性インキの基材の裏面へのにじみ出しが生じやすくな
る。
The method of manufacturing an IC card according to the present invention is as follows.
Preferably, in the step of opening the first through hole, the first through hole is opened so that the opening diameter is 10 to 300 μm. Opening diameter of through hole is 10μm
If the diameter is smaller than this, it may be difficult to embed the conductive ink, and if the diameter is larger than 300 μm, the conductive ink may easily ooze to the back surface of the substrate.

【0021】上記の本発明のICカードの製造方法は、
好適には、前記第1および第2配線層とスルーホール配
線層が、前記ICカードと当該ICカード用外部装置と
が非接触方式で通信を行うためのアンテナを構成する。
さらに好適には、前記第1配線層が第1アンテナを構成
し、前記第2配線層が第2アンテナを構成し、前記第1
アンテナおよび前記第2アンテナを並列に接続して形成
する、あるいは、前記第1アンテナおよび前記第2アン
テナを直列に接続して形成する。基板の表裏にそれぞれ
アンテナを形成し、基板を貫通するスルーホールを介し
て並列に接続することによって回路抵抗を減少させ、イ
ンダクタンス値を高め、あるいは、直列に接続して巻数
を増やしてインダクタンス値を高めることにより、リー
ダライタなどのICカード用外部装置との情報の送受信
を確実に行えるようになる。
The method of manufacturing an IC card according to the present invention is as follows.
Preferably, the first and second wiring layers and the through-hole wiring layer form an antenna for performing non-contact communication between the IC card and the external device for the IC card.
More preferably, the first wiring layer forms a first antenna, the second wiring layer forms a second antenna, and the first wiring layer forms a second antenna.
The antenna is formed by connecting the antenna and the second antenna in parallel, or the antenna is formed by connecting the first antenna and the second antenna in series. Antennas are formed on the front and back of the board, respectively, and the circuit resistance is reduced by connecting them in parallel through through-holes penetrating the board to increase the inductance value, or by connecting in series and increasing the number of turns to increase the inductance value. By increasing the value, it is possible to reliably transmit and receive information to and from an external device for an IC card such as a reader / writer.

【0022】上記の本発明のICカードの製造方法は、
好適には、前記ICチップを固着する工程の後に、前記
第1コアシートの前記第1配線層形成面上に第2コアシ
ートを積層する工程と、第2コアシートに対してレーザ
ー光を照射し、前記第2コアシートを貫通して前記第1
配線層あるいは前記第1スルーホール配線層に達する第
2スルーホールを開口する工程と、導電性インキを用い
たスクリーン印刷法により、前記導電性インキを前記第
2スルーホールに埋め込み、前記第1配線層あるいは前
記第1スルーホール配線層に接続する第2スルーホール
配線層を形成し、前記第2コアシートの前記第1コアシ
ートと積層する面の裏面上に、前記第2スルーホール配
線層に接続して第3配線層を形成する工程とをさらに有
する。これにより、より複雑な3層構成の配線層を形成
することが可能であり、特に上記の配線層を非接触方式
のICカード用のアンテナとして形成する場合には、よ
りインダクタンス値を高めることが可能である。
The method of manufacturing an IC card according to the present invention is as follows.
Preferably, after the step of fixing the IC chip, a step of laminating a second core sheet on the first wiring layer forming surface of the first core sheet, and irradiating the second core sheet with laser light. And the first core sheet penetrates the second core sheet.
A step of opening a wiring layer or a second through hole reaching the first through hole wiring layer, and embedding the conductive ink in the second through hole by a screen printing method using a conductive ink; Or a second through-hole wiring layer connected to the first through-hole wiring layer, and the second through-hole wiring layer is formed on the back surface of the surface of the second core sheet laminated with the first core sheet. Connecting to form a third wiring layer. This makes it possible to form a more complicated three-layered wiring layer. In particular, when the wiring layer is formed as an antenna for a non-contact type IC card, the inductance value can be further increased. It is possible.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1は、本実施形態に係る非接触型ICカ
ードの構成を示す斜視図である。第1コアシート10、
第2コアシート20、保護シート30a,30bが図示
しない接着剤層を介して積層され、ラミネート加工され
ており、非接触型ICカードが構成されている。第1コ
アシート10については、その表裏面上にそれぞれ配線
層が形成されており、図中左側にその表面上に形成され
た配線層パターンを、右側に裏面上に形成された配線層
パターンをそれぞれ示している。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a non-contact type IC card according to the present embodiment. First core sheet 10,
The second core sheet 20 and the protection sheets 30a and 30b are laminated via an adhesive layer (not shown) and laminated to form a non-contact type IC card. In the first core sheet 10, a wiring layer is formed on each of the front and back surfaces, and a wiring layer pattern formed on the front surface is shown on the left side in the drawing, and a wiring layer pattern formed on the back surface is shown on the right side in the drawing. Each is shown.

【0025】第1コアシート10の表面上には、導電性
インキがアンテナコイルのパターンに印刷されて、第1
配線層(第1アンテナとチップ接続用端子)11が形成
されている。一方、第1コアシート10の裏面上にも、
導電性インキがアンテナコイルのパターンに印刷され
て、第2配線層(第2アンテナ)13が形成されてい
る。第1配線層11および第2配線層13は、第1コア
シート10を貫通する第1スルーホールTH1内を埋め
込んで形成された第1スルーホール配線層12を介して
互いに接続されている。また、第1コアシート10の表
面上には、例えば図示しない異方性導電フィルムなどに
より、第1配線層11と接続するようにしてICチップ
14が固着されている。
On the surface of the first core sheet 10, a conductive ink is printed in a pattern of the antenna coil, and
A wiring layer (first antenna and chip connection terminal) 11 is formed. On the other hand, also on the back surface of the first core sheet 10,
Conductive ink is printed on the pattern of the antenna coil to form a second wiring layer (second antenna) 13. The first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 are connected to each other via a first through-hole wiring layer 12 formed by burying a first through-hole TH1 penetrating the first core sheet 10. An IC chip 14 is fixed on the surface of the first core sheet 10 by, for example, an anisotropic conductive film (not shown) so as to be connected to the first wiring layer 11.

【0026】第2コアシート20の表面には、導電性イ
ンキがジャンパ線のパターンに印刷されて、第3配線層
21が形成されている。第3配線層21は、第2コアシ
ート20を貫通する第2スルーホールTH2内を埋め込
んで形成された第2スルーホール配線層22を介して、
第1コアシート10の表面上に形成された第1配線層1
1に接続されている。
On the surface of the second core sheet 20, a third wiring layer 21 is formed by printing conductive ink in a jumper line pattern. The third wiring layer 21 is formed via a second through-hole wiring layer 22 formed by burying a second through-hole TH2 penetrating the second core sheet 20.
First wiring layer 1 formed on the surface of first core sheet 10
1 connected.

【0027】上記の非接触型ICカードにおいて、アン
テナコイルを構成する第1アンテナおよび第2アンテナ
は、ICチップ14からみて並列に接続されている。こ
れにより、アンテナの抵抗を減少させ、インダクタンス
値を高めることにより、リーダライタなどのICカード
用外部装置との情報の送受信を確実に行えるようにな
る。
In the above-mentioned non-contact type IC card, the first antenna and the second antenna forming the antenna coil are connected in parallel as viewed from the IC chip 14. Thus, by reducing the resistance of the antenna and increasing the inductance value, it is possible to reliably transmit and receive information to and from an external device for an IC card such as a reader / writer.

【0028】上記の非接触型ICカードの製造方法につ
いて説明する。まず、第1コアシート10に対して、例
えばYAGレーザーの基本波(発振波長1.064μ
m、出力10W、0.3秒間照射)を集光して照射し、
第1コアシート10を貫通し、開口径が10〜300μ
m(例えば100μm程度)の第1スルーホールTH1
を開口する。上記のスルーホールを開口するために用い
るレーザーとしては、CO2 (発振波長10.2μm)
レーザーなどの他のレーザーを用いることも可能であ
る。次に、第1コアシート10の表面に、導電性インキ
をスクリーン印刷して、第1アンテナおよびチップ接続
用端子を有する第1配線層11を形成する。このとき、
第1スルーホールTH1内を導電性インキ12aで例え
ば半分程度埋め込むようにする。あるいは、第1スルー
ホールTH1内を全部埋め込むようにしてもよい。次
に、第1コアシート10の裏面に、導電性インキをスク
リーン印刷して、第2アンテナを有する第2配線層13
を形成する。このとき、第1スルーホールTH1内の残
り半分を導電性インキで埋め込み、第1配線層11と第
2配線層13を接続する第1スルーホール配線層12を
形成する。第1配線層11を形成する工程で第1スルー
ホールTH1内を全部埋め込んだ場合には、第2配線層
13は第1スルーホール配線層12に接続するように形
成すればよい。
A method for manufacturing the above-mentioned non-contact type IC card will be described. First, for example, a fundamental wave of a YAG laser (oscillation wavelength 1.064 μm) is applied to the first core sheet 10.
m, output 10W, irradiation for 0.3 seconds)
Penetrates the first core sheet 10 and has an opening diameter of 10 to 300 μm
m (for example, about 100 μm) first through hole TH1
Open. The laser used for opening the above-mentioned through hole is CO 2 (oscillation wavelength 10.2 μm)
Other lasers, such as lasers, can be used. Next, conductive ink is screen-printed on the surface of the first core sheet 10 to form the first wiring layer 11 having the first antenna and the terminal for chip connection. At this time,
The inside of the first through hole TH1 is filled with, for example, about half of the conductive ink 12a. Alternatively, the entire inside of the first through hole TH1 may be buried. Next, a conductive ink is screen-printed on the back surface of the first core sheet 10 to form a second wiring layer 13 having a second antenna.
To form At this time, the other half of the first through hole TH1 is filled with conductive ink to form the first through hole wiring layer 12 connecting the first wiring layer 11 and the second wiring layer 13. When the entire first through hole TH1 is buried in the step of forming the first wiring layer 11, the second wiring layer 13 may be formed so as to be connected to the first through hole wiring layer 12.

【0029】次に、第1配線層のチップ接続用の端子部
分に、図示しない異方性導電フイルムを転写して貼付
(仮圧着)し、ICチップ14を図示しない異方性導電
フイルム上に戴置させ、上方から圧着(本圧着)して、
ICチップ14を第1配線層11に接続して固着させ
る。次に、ICチップ用孔23を予め開口した第2コア
シート20を、ICチップ用孔23部分にICチップを
嵌込させて、接着剤などを介して第1コアシート10の
第1配線層11形成面上に積層させる。次に、第2コア
シート20に対して、例えばYAGレーザーの基本波を
上記と同様に照射し、第2コアシート20を貫通して第
1配線層11に達し、開口径が10〜300μm(例え
ば100μm程度)の第2スルーホールTH2を開口す
る。次に、第2コアシート20の表面に、導電性インキ
をスクリーン印刷して、第3配線層(ジャンパ線)21
を形成する。このとき、第2スルーホールTH2内を導
電性インキ全部埋め込み、第1配線層11と第3配線層
21を接続する第2スルーホール配線層22を形成す
る。
Next, an anisotropic conductive film (not shown) is transferred and attached (temporarily press-bonded) to a terminal portion for chip connection of the first wiring layer, and the IC chip 14 is placed on the anisotropic conductive film (not shown). And then press-fit (finally press-fit) from above.
The IC chip 14 is connected to and fixed to the first wiring layer 11. Next, the second core sheet 20 having the IC chip holes 23 previously opened is fitted with the IC chip into the IC chip holes 23, and the first wiring layer of the first core sheet 10 is bonded via an adhesive or the like. 11 is laminated on the formation surface. Next, the second core sheet 20 is irradiated with, for example, a fundamental wave of a YAG laser in the same manner as described above, penetrates the second core sheet 20, reaches the first wiring layer 11, and has an opening diameter of 10 to 300 μm ( A second through hole TH2 (for example, about 100 μm) is opened. Next, conductive ink is screen-printed on the surface of the second core sheet 20 to form a third wiring layer (jumper line) 21.
To form At this time, the conductive ink is entirely buried in the second through-hole TH2, and a second through-hole wiring layer 22 connecting the first wiring layer 11 and the third wiring layer 21 is formed.

【0030】次に、第2コアシート20の上層および第
1コアシート10の下層にそれぞれ接着剤を介して保護
シート30a,30bを積層させ、ラミネート加工し、
さらにカードサイズに打ち抜いて所望の非接触型ICカ
ードとする。
Next, protective sheets 30a and 30b are respectively laminated on the upper layer of the second core sheet 20 and the lower layer of the first core sheet 10 via an adhesive, and laminated.
Further, the desired non-contact type IC card is punched out to a card size.

【0031】上記の本実施形態の非接触型ICカードの
製造方法においては、第1コアシート10に開口する第
1スルーホールTH1と、第2コアシート20に開口す
る第2スルーホールTH2は、それぞれYAGレーザー
などのレーザー光を照射して形成するので、10〜30
0μmの微細な径のスルーホールを開口することが可能
である。これにより、スクリーン印刷法により導電性イ
ンキをスルーホール内に埋め込んだときに導電性インキ
がコアシートの裏面ににじみ出すことを抑制し、安定な
スルーホールによる接続を実現することができる。
In the method of manufacturing a non-contact type IC card according to the present embodiment, the first through hole TH1 opened in the first core sheet 10 and the second through hole TH2 opened in the second core sheet 20 are: Each is formed by irradiating a laser beam such as a YAG laser.
It is possible to open a through hole having a fine diameter of 0 μm. Thereby, when the conductive ink is embedded in the through hole by the screen printing method, it is possible to suppress the conductive ink from oozing to the back surface of the core sheet, and to realize a stable connection by the through hole.

【0032】第1コアシート10、第2コアシート2
0、および保護シート30a,30bを構成する樹脂と
しては特に限定はなく、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリカーボネ
ート(PC)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン共重合体(ABS)、ポリプロピレン(PP)、ポリ
エチレン(PE)、共重合ポリエステル(PETGな
ど)、ポリアミド、ポリエチレンナフタレート(PE
N)などの樹脂シートを用いることが可能である。ま
た、接着剤もエポキシ樹脂などの熱硬化型樹脂系接着剤
あるいはポリエステル樹脂などの熱可塑性樹脂系接着剤
を用いることが可能である。また、接着剤を用いずに熱
圧ラミネート加工を行って積層させることも可能であ
る。
First core sheet 10, second core sheet 2
No particular limitation is imposed on the resin constituting the protective sheets 30a and 30b, and polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), polypropylene (PP), polyethylene (PE), copolymerized polyester (such as PETG), polyamide, polyethylene naphthalate (PE
It is possible to use a resin sheet such as N). As the adhesive, a thermosetting resin-based adhesive such as an epoxy resin or a thermoplastic resin-based adhesive such as a polyester resin can be used. It is also possible to perform lamination by performing hot-press lamination without using an adhesive.

【0033】また、上記の本実施形態においては、第1
コアシート10に開口された第1スルーホールTH1、
あるいは、第2コアシート20に開口された第2スルー
ホールTH2として、1つの接続点に対して並べて形成
された複数個の副スルーホール群から構成され、これら
の複数個の副スルーホール群に導電体をを埋め込んで第
1スルーホール配線層あるいは第2スルーホール配線層
とすることができる。図2(a)は、スルーホールを1
個の開口部から構成する場合のスルーホール配線層部分
の拡大断面図である。第1配線層11と第2配線層13
は第1コアシート10に開口された第1スルーホールT
Hに第1スルーホール配線層12が埋め込まれて、第1
配線層11と第2配線層13を接続している。一方、図
2(b)はスルーホールを3個の開口部(副スルーホー
ル)から構成する場合のスルーホール配線層部分の拡大
断面図である。第1配線層11と第2配線層13は第1
コアシート10に開口された複数個の副スルーホールT
H’に副スルーホール配線層12’が埋め込まれて第1
スルーホール配線層12が構成されており、第1配線層
11と第2配線層13を接続している。ここで、上記の
副スルーホールのそれぞれの開口径を10〜300μm
とすることにより、各副スルーホールにおける導電性イ
ンキのコアシートの裏面へににじみ出しを抑制し、安定
なスルーホールによる接続を実現することができる。ま
た、第1スルーホール配線層12と第1配線層11、あ
るいは、第1スルーホール配線層12と第2配線層13
との接触面積を増大させるので、スルーホール配線層に
よる第1配線層と第2配線層の接続の信頼性を向上させ
ることができる。
In the above embodiment, the first
A first through hole TH1 opened in the core sheet 10,
Alternatively, the second through-hole TH2 opened in the second core sheet 20 is constituted by a plurality of sub-through-hole groups formed side by side with respect to one connection point. A first through-hole wiring layer or a second through-hole wiring layer can be formed by embedding a conductor. FIG. 2 (a) shows one through hole.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a through-hole wiring layer portion in the case of being constituted by a plurality of openings. First wiring layer 11 and second wiring layer 13
Is the first through hole T opened in the first core sheet 10
H, the first through-hole wiring layer 12 is embedded,
The wiring layer 11 and the second wiring layer 13 are connected. On the other hand, FIG. 2B is an enlarged cross-sectional view of a through-hole wiring layer portion when the through-hole is formed of three openings (sub through-holes). The first wiring layer 11 and the second wiring layer 13
A plurality of sub through holes T opened in the core sheet 10
H ′ is embedded with the sub through-hole wiring layer 12 ′,
A through-hole wiring layer 12 is formed, and connects the first wiring layer 11 and the second wiring layer 13. Here, the opening diameter of each of the sub through holes is 10 to 300 μm.
By doing so, it is possible to suppress the bleeding of the conductive ink into the back surface of the core sheet in each of the sub through holes, and to realize a stable connection through the through holes. Further, the first through-hole wiring layer 12 and the first wiring layer 11 or the first through-hole wiring layer 12 and the second wiring layer 13
Therefore, the reliability of connection between the first wiring layer and the second wiring layer by the through-hole wiring layer can be improved.

【0034】実施例1 本実施例の非接触型ICカードは、第1コアシートの表
面上にアンテナコイルを有し、裏面上にジャンパ線を有
し、両者をスルーホールで接続した配線層を内蔵するI
Cカードであり、その要部である第1コアシートについ
て、図3により説明する。図3(a)は第1コアシート
10の表面側からの平面図であり、図3(b)は図3
(a)中のX−X’における断面図であり、図3(c)
は第1コアシート10の裏面側からの平面図であり、図
中のX−X’は図3(a)中のX−X’の位置に相当す
る。
Embodiment 1 The non-contact type IC card of this embodiment has an antenna coil on the front surface of a first core sheet, a jumper wire on the back surface, and a wiring layer in which both are connected by through holes. Built-in I
The first core sheet, which is a C card and a main part thereof, will be described with reference to FIG. FIG. 3A is a plan view of the first core sheet 10 from the front side, and FIG.
FIG. 3C is a sectional view taken along line XX ′ in FIG.
Is a plan view from the back side of the first core sheet 10, and XX ′ in the figure corresponds to the position of XX ′ in FIG.

【0035】第1コアシート10の表面上には、導電性
インキがアンテナコイルのパターンに印刷されて、第1
配線層(アンテナとチップ接続用端子)11が形成され
ている。一方、第1コアシート10の裏面上にも、導電
性インキがパターン印刷されて、第2配線層(ジャンパ
線)13が形成されている。第1配線層11および第2
配線層13は、第1コアシート10を貫通する第1スル
ーホールTH1内を埋め込んで形成された第1スルーホ
ール配線層12を介して互いに接続されている。また、
第1コアシート10の表面上には、例えば異方性導電フ
ィルム14により、第1配線層11のチップ接続部と接
続するようにしてICチップ14が固着されている。
On the surface of the first core sheet 10, a conductive ink is printed in a pattern of the antenna coil, and
A wiring layer (antenna and chip connection terminal) 11 is formed. On the other hand, the second wiring layer (jumper line) 13 is also formed on the back surface of the first core sheet 10 by pattern printing of the conductive ink. First wiring layer 11 and second wiring layer 11
The wiring layers 13 are connected to each other via a first through-hole wiring layer 12 formed by burying a first through-hole TH <b> 1 penetrating the first core sheet 10. Also,
The IC chip 14 is fixed on the surface of the first core sheet 10 by, for example, an anisotropic conductive film 14 so as to be connected to the chip connecting portion of the first wiring layer 11.

【0036】上記の非接触型ICカードの製造方法につ
いて説明する。まず、図4(a)に示すように、厚さ2
50μmのPETからなる第1コアシート10に対し
て、YAGレーザーの基本波(波長1.064μm、出
力10W、0.3秒間照射)を集光して照射し、第1コ
アシート10を貫通し、開口径が100μmの第1スル
ーホールTH1を開口した。次に、図4(b)に示すよ
うに、第1コアシート10の表面に、導電性インキをス
クリーン印刷して、アンテナコイルおよびチップ接続用
端子を有する第1配線層11を形成した。このとき、第
1スルーホールTH1内を導電性インキ12aで例えば
半分程度埋め込むようにした。上記のような開口径のス
ルーホールTH1には、導電性インキが良好に埋め込ま
れ、また、埋め込まれた導電性インキがコアシートの裏
面へにじみ出ることもなかった。
A method for manufacturing the above-mentioned non-contact type IC card will be described. First, as shown in FIG.
The YAG laser fundamental wave (wavelength 1.064 μm, output 10 W, irradiation for 0.3 seconds) is focused and irradiated on the first core sheet 10 made of 50 μm PET, and penetrates the first core sheet 10. A first through hole TH1 having an opening diameter of 100 μm was opened. Next, as shown in FIG. 4B, a conductive ink was screen-printed on the surface of the first core sheet 10 to form a first wiring layer 11 having an antenna coil and a terminal for chip connection. At this time, the inside of the first through hole TH1 was filled with, for example, about half of the conductive ink 12a. The conductive ink was satisfactorily embedded in the through hole TH1 having the opening diameter as described above, and the embedded conductive ink did not ooze to the back surface of the core sheet.

【0037】上記の第1配線層11の乾燥後、図4
(c)に示すように、第1コアシート10の裏面に、導
電性インキをスクリーン印刷して、ジャンパ線となる第
2配線層13を形成した。このとき、第1スルーホール
TH1内の残り半分を導電性インキで埋め込むことで第
1スルーホールTH1内に第1スルーホール配線層12
が形成され、第1配線層11と第2配線層13の導通が
達成された。上記のようにして形成した第1配線層11
と第2配線層13から構成されるアンテナコイルについ
て、チップ接続用端子間の回路抵抗を測定したところ、
約10Ωであり、またインダクタンス値は1.4μH
で、十分な特性を有していることが判った。
After the first wiring layer 11 is dried, FIG.
As shown in (c), a conductive ink was screen-printed on the back surface of the first core sheet 10 to form a second wiring layer 13 serving as a jumper line. At this time, the first half of the first through-hole wiring layer 12 is embedded in the first through-hole TH1 by embedding the other half of the first through-hole TH1 with conductive ink.
Was formed, and conduction between the first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 was achieved. First wiring layer 11 formed as described above
When the circuit resistance between the chip connection terminals was measured for the antenna coil composed of the second wiring layer 13 and
It is about 10Ω and the inductance value is 1.4μH
It turned out that it has sufficient characteristics.

【0038】次に、図5(d)に示すように、第1配線
層のチップ接続用の端子部分に、異方性導電フイルム1
5を転写して貼付(仮圧着)し、ICチップ14を異方
性導電フイルム15上に戴置させ、上方から圧着(本圧
着)して、ICチップ14を第1配線層11に接続して
固着させた。次に、図5(e)に示すように、ICチッ
プ用孔を予め開口した厚さ250μmのPETからなる
第2コアシート20を、ICチップ用孔23部分にIC
チップを嵌込させて、接着剤40を介して第1コアシー
ト10の第1配線層11形成面上に積層させた。ここ
で、接着剤40の厚みは20μmとした。次に、図5
(f)に示すように、第2コアシート20の上層および
第1コアシート10の下層にそれぞれ接着剤41,42
をそれぞれ20μmの厚さで塗布した厚さ100μmの
白色のPETからなる保護シート30a,30bを積層
させ、熱圧平面プレスによりラミネート加工し、さらに
カードサイズに打ち抜き、厚さ760μmのICカード
を得た。
Next, as shown in FIG. 5D, an anisotropic conductive film 1 is provided on the terminal portion for chip connection of the first wiring layer.
5 is transferred and affixed (temporary pressure bonding), the IC chip 14 is placed on the anisotropic conductive film 15, and pressure-bonded (main pressure bonding) from above to connect the IC chip 14 to the first wiring layer 11. And fixed. Next, as shown in FIG. 5E, a second core sheet 20 made of PET having a thickness of 250 μm in which holes for IC chips are opened in advance,
The chip was fitted and laminated on the first wiring layer 11 forming surface of the first core sheet 10 via the adhesive 40. Here, the thickness of the adhesive 40 was 20 μm. Next, FIG.
As shown in (f), adhesives 41 and 42 are provided on the upper layer of the second core sheet 20 and the lower layer of the first core sheet 10, respectively.
Are laminated on each other with a thickness of 100 μm, and protective sheets 30 a and 30 b made of white PET each having a thickness of 20 μm, laminated by a hot-press plane press, and punched into a card size to obtain an IC card having a thickness of 760 μm. Was.

【0039】実施例2 本実施例の非接触型ICカードは、第1コアシートの表
面上に第1アンテナを有する第1配線層と、裏面上に第
2アンテナを有する第2配線層を有し、さらに第1コア
シートに積層する第2コアシート上に第1配線層に接続
するジャンパ線となる第3配線層を有し、第1〜3配線
層をスルーホールで接続した配線層を内蔵するICカー
ドであり、その要部である第1コアシートおよぶ第2コ
アシートについて、図6により説明する。図6(a)は
第2コアシート20の表面(第3配線層形成面)側から
の平面図であり、図6(b)は図6(a)中のX−X’
における断面図である。図6(c)は第1コアシート1
0の表面側からの平面図であり、図6(d)は図6
(c)中のY−Y’における断面図であり、図6(e)
は第1コアシート10の裏面側からの平面図であり、図
中のY−Y’は図6(c)中のY−Y’の位置に相当す
る。
Embodiment 2 The contactless IC card of this embodiment has a first wiring layer having a first antenna on the front surface of a first core sheet and a second wiring layer having a second antenna on the back surface. Further, a wiring layer having a third wiring layer serving as a jumper line connected to the first wiring layer on a second core sheet laminated on the first core sheet and connecting the first to third wiring layers with through holes is provided. A first core sheet and a second core sheet, which are built-in IC cards and are essential parts thereof, will be described with reference to FIG. FIG. 6A is a plan view of the second core sheet 20 from the front surface (the surface on which the third wiring layer is formed), and FIG. 6B is XX ′ in FIG. 6A.
FIG. FIG. 6C shows the first core sheet 1.
FIG. 6D is a plan view from the front side of FIG.
FIG. 6C is a sectional view taken along line YY ′ in FIG.
Is a plan view from the back side of the first core sheet 10, and YY ′ in the figure corresponds to the position of YY ′ in FIG. 6C.

【0040】第1コアシート10の表面上には、導電性
インキがアンテナコイルのパターンに印刷されて、第1
配線層(第1アンテナとチップ接続用端子)11が形成
されている。一方、第1コアシート10の裏面上にも、
導電性インキがアンテナコイルのパターンに印刷され
て、第2配線層(第2アンテナ)13が形成されてい
る。第1配線層11および第2配線層13は、第1コア
シート10を貫通する第1スルーホールTH1内を埋め
込んで形成された第1スルーホール配線層12を介して
互いに接続されている。また、第1コアシート10の表
面上には、例えば異方性導電フィルム14により、第1
配線層11のチップ接続部と接続するようにしてICチ
ップ14が固着されている。
A conductive ink is printed on the surface of the first core sheet 10 in a pattern of the antenna coil, and
A wiring layer (first antenna and chip connection terminal) 11 is formed. On the other hand, also on the back surface of the first core sheet 10,
Conductive ink is printed on the pattern of the antenna coil to form a second wiring layer (second antenna) 13. The first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 are connected to each other via a first through-hole wiring layer 12 formed by burying a first through-hole TH1 penetrating the first core sheet 10. On the surface of the first core sheet 10, for example, an anisotropic conductive film 14 is used.
The IC chip 14 is fixed so as to be connected to the chip connecting portion of the wiring layer 11.

【0041】第2コアシート20の表面には、導電性イ
ンキがジャンパ線のパターンに印刷されて、第3配線層
21が形成されている。第3配線層21は、第2コアシ
ート20を貫通する第2スルーホールTH2内を埋め込
んで形成された第2スルーホール配線層22を介して、
第1コアシート10の表面上に形成された第1配線層1
1に接続されている。
On the surface of the second core sheet 20, a third wiring layer 21 is formed by printing conductive ink in a jumper line pattern. The third wiring layer 21 is formed via a second through-hole wiring layer 22 formed by burying a second through-hole TH2 penetrating the second core sheet 20.
First wiring layer 1 formed on the surface of first core sheet 10
1 connected.

【0042】上記の非接触型ICカードにおいて、アン
テナコイルを構成する第1アンテナおよび第2アンテナ
は、同一のコイルパターン(周回数、線厚、線幅)で印
刷され、ICチップ14からみて並列に接続されてい
る。これにより、アンテナの抵抗を減少させ、インダク
タンス値を高めることにより、リーダライタなどのIC
カード用外部装置との情報の送受信を確実に行えるよう
になる。
In the above-mentioned non-contact type IC card, the first antenna and the second antenna forming the antenna coil are printed with the same coil pattern (number of turns, line thickness, line width), and are parallel as viewed from the IC chip 14. It is connected to the. As a result, the resistance of the antenna is reduced and the inductance value is increased, so that an IC such as a reader / writer can be provided.
It is possible to reliably transmit and receive information to and from the card external device.

【0043】上記の非接触型ICカードの製造方法につ
いて説明する。まず、図7(a)に示すように、厚さ2
50μmのPETからなる第1コアシート10に対し
て、YAGレーザーの基本波(波長1.064μm、出
力10W、0.3秒間照射)を集光して照射し、第1コ
アシート10を貫通し、開口径が100μmの第1スル
ーホールTH1を開口した。次に、図7(b)に示すよ
うに、第1コアシート10の表面に、導電性インキをス
クリーン印刷して、第1アンテナおよびチップ接続用端
子を有する第1配線層11を形成した。このとき、第1
スルーホールTH1内を導電性インキ12aで例えば半
分程度埋め込むようにした。上記のような開口径のスル
ーホールTH1には、導電性インキが良好に埋め込ま
れ、また、埋め込まれた導電性インキが裏面へにじみ出
ることもなかった。
A method for manufacturing the above-mentioned non-contact type IC card will be described. First, as shown in FIG.
The YAG laser fundamental wave (wavelength 1.064 μm, output 10 W, irradiation for 0.3 seconds) is focused and irradiated on the first core sheet 10 made of 50 μm PET, and penetrates the first core sheet 10. A first through hole TH1 having an opening diameter of 100 μm was opened. Next, as shown in FIG. 7B, a conductive ink was screen-printed on the surface of the first core sheet 10 to form a first wiring layer 11 having a first antenna and a terminal for chip connection. At this time, the first
The inside of the through hole TH1 is filled with, for example, about half of the conductive ink 12a. The conductive ink was satisfactorily embedded in the through hole TH1 having the opening diameter as described above, and the embedded conductive ink did not ooze to the back surface.

【0044】上記の第1配線層11の乾燥後、図7
(c)に示すように、第1コアシート10の裏面に、導
電性インキをスクリーン印刷して、第2アンテナを有す
る第2配線層13を形成した。このとき、第1スルーホ
ールTH1内の残り半分を導電性インキで埋め込むこと
で第1スルーホールTH1内に第1スルーホール配線層
12が形成され、第1配線層11と第2配線層13の導
通が達成された。上記のようにして形成した第1配線層
11と第2配線層13から構成されるアンテナコイルに
ついて、チップ接続用端子とコイル内側に形成されてい
る第1スルーホール配線層12間の回路抵抗を測定した
ところ、約5Ωであり、またインダクタンス値は1.4
μHで、十分な特性を有していることが判った。
After the first wiring layer 11 is dried, FIG.
As shown in (c), a conductive ink was screen-printed on the back surface of the first core sheet 10 to form a second wiring layer 13 having a second antenna. At this time, the first through-hole wiring layer 12 is formed in the first through-hole TH1 by embedding the other half of the first through-hole TH1 with conductive ink. Continuity has been achieved. For the antenna coil composed of the first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 formed as described above, the circuit resistance between the chip connection terminal and the first through-hole wiring layer 12 formed inside the coil is determined. The measured value was about 5Ω, and the inductance value was 1.4.
At μH, it was found to have sufficient characteristics.

【0045】次に、図7(d)に示すように、第1配線
層のチップ接続用の端子部分に、異方性導電膜15を転
写して貼付(仮圧着)し、ICチップ14を異方性導電
膜15上に戴置させ、上方から圧着(本圧着)して、I
Cチップ14を第1配線層11に接続して固着させた。
次に、図8(e)に示すように、ICチップ用孔を予め
開口した厚さ250μmのPETからなる第2コアシー
ト20を、ICチップ用孔23部分にICチップを嵌込
させて、接着剤40を介して第1コアシート10の第1
配線層11形成面上に積層させた。ここで、接着剤40
の塗布厚さは20μmとした。
Next, as shown in FIG. 7D, the anisotropic conductive film 15 is transferred and attached (temporarily compressed) to the chip connecting terminal portion of the first wiring layer, and the IC chip 14 is attached. It is placed on the anisotropic conductive film 15 and pressed from above (finally pressed) to obtain I
The C chip 14 was connected and fixed to the first wiring layer 11.
Next, as shown in FIG. 8 (e), a second core sheet 20 made of PET having a thickness of 250 μm, in which holes for IC chips are previously opened, is fitted into the holes 23 for IC chips, and The first of the first core sheet 10 via the adhesive 40
It was laminated on the wiring layer 11 forming surface. Here, the adhesive 40
Was applied at a thickness of 20 μm.

【0046】次に、図8(f)に示すように、第2コア
シート20に対して、YAGレーザーの基本波を上記と
同様に照射し、第2コアシート20を貫通して第1配線
層11に達し、開口径が150μmの第2スルーホール
TH2を開口した。次に、図8(g)に示すように、第
2コアシート20の表面に、導電性インキをスクリーン
印刷して、第3配線層(ジャンパ線)21を形成した。
このとき、第2スルーホールTH2内を導電性インキで
全部埋め込んで、第1配線層11と第3配線層21を接
続する第2スルーホール配線層22を形成した。
Next, as shown in FIG. 8F, the second core sheet 20 is irradiated with the fundamental wave of the YAG laser in the same manner as described above, and penetrates the second core sheet 20 to form the first wiring. A second through-hole TH2 having an opening diameter of 150 μm was opened to reach the layer 11. Next, as shown in FIG. 8G, a third wiring layer (jumper wire) 21 was formed on the surface of the second core sheet 20 by screen printing of a conductive ink.
At this time, the inside of the second through-hole TH2 was entirely buried with conductive ink to form the second through-hole wiring layer 22 connecting the first wiring layer 11 and the third wiring layer 21.

【0047】次に、図8(h)に示すように、第2コア
シート20の上層および第1コアシート10の下層にそ
れぞれ接着剤41,42をそれぞれ20μmの厚さで塗
布した厚さ100μmの白色のPETからなる保護シー
ト30a,30bを積層させ、熱圧平面プレスによりラ
ミネート加工し、さらにカードサイズに打ち抜き、厚さ
760μmのICカードを得た。
Next, as shown in FIG. 8 (h), adhesives 41 and 42 are applied to the upper layer of the second core sheet 20 and the lower layer of the first core sheet 10, respectively, to a thickness of 20 μm and a thickness of 100 μm. The protective sheets 30a, 30b made of white PET were laminated, laminated by a hot-press flat press, and punched into a card size to obtain an IC card having a thickness of 760 μm.

【0048】実施例3 本実施例の非接触型ICカードは、第1コアシートの表
面上に第1アンテナを有する第1配線層と、裏面上に第
2アンテナを有する第2配線層を有し、さらに第1コア
シートに積層する第2コアシート上に第1配線層に接続
するジャンパ線となる第3配線層を有し、第1〜3配線
層をスルーホールで接続した配線層を内蔵するICカー
ドであり、その要部である第1コアシートおよぶ第2コ
アシートについて、図9により説明する。図9(a)は
第2コアシート20の表面(第3配線層形成面)側から
の平面図であり、図9(b)は図9(a)中のX−X’
における断面図である。図9(c)は第1コアシート1
0の表面側からの平面図であり、図9(d)は図9
(c)中のY−Y’における断面図であり、図9(e)
は第1コアシート10の裏面側からの平面図であり、図
中のY−Y’は図9(c)中のY−Y’の位置に相当す
る。
Embodiment 3 The non-contact type IC card of this embodiment has a first wiring layer having a first antenna on the front surface of a first core sheet and a second wiring layer having a second antenna on the back surface. Further, a wiring layer having a third wiring layer serving as a jumper line connected to the first wiring layer on a second core sheet laminated on the first core sheet and connecting the first to third wiring layers with through holes is provided. A first core sheet and a second core sheet which are built-in IC cards and which are main parts thereof will be described with reference to FIG. FIG. 9A is a plan view of the second core sheet 20 from the front surface (the surface on which the third wiring layer is formed), and FIG. 9B is XX ′ in FIG. 9A.
FIG. FIG. 9C shows the first core sheet 1.
FIG. 9D is a plan view from the front side of FIG.
It is sectional drawing in YY 'in (c), FIG.
Is a plan view from the back side of the first core sheet 10, and YY 'in the figure corresponds to the position of YY' in FIG. 9C.

【0049】第1コアシート10の表面上には、導電性
インキがアンテナコイルのパターンに印刷されて、第1
配線層(第1アンテナとチップ接続用端子)11が形成
されている。一方、第1コアシート10の裏面上にも、
導電性インキがアンテナコイルのパターンに印刷され
て、第2配線層(第2アンテナ)13が形成されてい
る。第1配線層11および第2配線層13は、第1コア
シート10を貫通する第1スルーホールTH1内を埋め
込んで形成された第1スルーホール配線層12を介して
直列に接続されている。また、第1コアシート10の表
面上には、例えば異方性導電フィルム14により、第1
配線層11のチップ接続部と接続するようにしてICチ
ップ14が固着されている。
On the surface of the first core sheet 10, conductive ink is printed in a pattern of the antenna coil, and
A wiring layer (first antenna and chip connection terminal) 11 is formed. On the other hand, also on the back surface of the first core sheet 10,
Conductive ink is printed on the pattern of the antenna coil to form a second wiring layer (second antenna) 13. The first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 are connected in series via a first through-hole wiring layer 12 formed by burying a first through-hole TH1 penetrating the first core sheet 10. On the surface of the first core sheet 10, for example, an anisotropic conductive film 14 is used.
The IC chip 14 is fixed so as to be connected to the chip connecting portion of the wiring layer 11.

【0050】第2コアシート20の表面には、導電性イ
ンキがジャンパ線のパターンに印刷されて、第3配線層
21が形成されている。第3配線層21は、第2コアシ
ート20を貫通する第2スルーホールTH2内を埋め込
んで形成された第2スルーホール配線層22を介して、
第1コアシート10の表面上に形成された第1配線層1
1に接続されている。
On the surface of the second core sheet 20, a third wiring layer 21 is formed by printing a conductive ink in a jumper pattern. The third wiring layer 21 is formed via a second through-hole wiring layer 22 formed by burying a second through-hole TH2 penetrating the second core sheet 20.
First wiring layer 1 formed on the surface of first core sheet 10
1 connected.

【0051】上記の非接触型ICカードの製造方法につ
いて説明する。まず、図10(a)に示すように、厚さ
250μmのPETからなる第1コアシート10に対し
て、YAGレーザーの基本波(波長1.064μm、出
力10W、0.3秒間照射)を集光して照射し、第1コ
アシート10を貫通し、開口径が100μmの第1スル
ーホールTH1を開口した。次に、図10(b)に示す
ように、第1コアシート10の表面に、導電性インキを
スクリーン印刷して、第1アンテナおよびチップ接続用
端子を有する第1配線層11を形成した。このとき、第
1スルーホールTH1内を導電性インキ12aで例えば
半分程度埋め込むようにした。上記のような開口径のス
ルーホールTH1には、導電性インキが良好に埋め込ま
れ、また、埋め込まれた導電性インキが裏面へにじみ出
ることもなかった。
A method for manufacturing the above-mentioned non-contact type IC card will be described. First, as shown in FIG. 10A, a fundamental wave (wavelength: 1.064 μm, output: 10 W, irradiation for 0.3 seconds) of a YAG laser is collected on a first core sheet made of PET having a thickness of 250 μm. Irradiated with light, penetrated the first core sheet 10, and opened a first through hole TH1 having an opening diameter of 100 μm. Next, as shown in FIG. 10B, a conductive ink was screen-printed on the surface of the first core sheet 10 to form a first wiring layer 11 having a first antenna and a chip connection terminal. At this time, the inside of the first through hole TH1 was filled with, for example, about half of the conductive ink 12a. The conductive ink was satisfactorily embedded in the through hole TH1 having the opening diameter as described above, and the embedded conductive ink did not ooze to the back surface.

【0052】上記の第1配線層11の乾燥後、図10
(c)に示すように、第1コアシート10の裏面に、導
電性インキをスクリーン印刷して、第2アンテナを有す
る第2配線層13を第1配線層と直列で接続されるよう
に形成した。このとき、第1スルーホールTH1内の残
り半分を導電性インキで埋め込むことで第1スルーホー
ルTH1内に第1スルーホール配線層12が形成され、
第1配線層11と第2配線層13の導通が達成された。
上記のようにして形成した第1配線層11と第2配線層
13から構成されるアンテナコイルについて、アンテナ
端子間の直流抵抗値を測定したところ、約110Ωであ
り、またインダクタンス値は4.2μHであり、アンテ
ナを直列に接続することでインダクタンス値を高めるこ
とが可能である。
After the first wiring layer 11 is dried,
As shown in (c), a conductive ink is screen-printed on the back surface of the first core sheet 10 to form a second wiring layer 13 having a second antenna so as to be connected in series with the first wiring layer. did. At this time, the first half of the first through hole TH1 is filled with conductive ink to form the first through hole wiring layer 12 in the first through hole TH1.
The conduction between the first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 was achieved.
When the DC resistance between the antenna terminals of the antenna coil composed of the first wiring layer 11 and the second wiring layer 13 formed as described above was measured, it was about 110Ω, and the inductance value was 4.2 μH. Thus, it is possible to increase the inductance value by connecting the antennas in series.

【0053】次に、図10(d)に示すように、第1配
線層のチップ接続用の端子部分に、異方性導電フイルム
15を転写して貼付(仮圧着)し、ICチップ14を異
方性導電フイルム15上に戴置させ、上方から圧着(本
圧着)して、ICチップ14を第1配線層11に接続し
て固着させた。次に、図11(e)に示すように、IC
チップ用孔を予め開口した厚さ250μmのPETから
なる第2コアシート20を、ICチップ用孔23部分に
ICチップを嵌込させて、接着剤40を介して第1コア
シート10の第1配線層11形成面上に積層させた。こ
こで、接着剤40の厚さは20μmとした。
Next, as shown in FIG. 10D, the anisotropic conductive film 15 is transferred and affixed (temporarily compressed) to the chip connecting terminal portion of the first wiring layer, and the IC chip 14 is attached. The IC chip 14 was mounted on the anisotropic conductive film 15 and pressed (mainly pressed) from above to connect and fix the IC chip 14 to the first wiring layer 11. Next, as shown in FIG.
A second core sheet 20 made of PET having a thickness of 250 μm, in which a hole for a chip is previously opened, is fitted with an IC chip into a hole 23 for an IC chip, and the first core sheet 10 of the first core sheet 10 is It was laminated on the wiring layer 11 forming surface. Here, the thickness of the adhesive 40 was 20 μm.

【0054】次に、図11(f)に示すように、第2コ
アシート20に対して、YAGレーザーの基本波を上記
と同様に照射し、第2コアシート20を貫通して第1配
線層11あるいは第1スルーホール配線層12に達し、
開口径が150μmの第2スルーホールTH2を開口し
た。次に、図11(g)に示すように、第2コアシート
20の表面に、導電性インキをスクリーン印刷して、第
3配線層(ジャンパ線)21を形成した。このとき、第
2スルーホールTH2内を導電性インキで全部埋め込ん
で、第1配線層11と第3配線層21を接続する第2ス
ルーホール配線層22を形成した。
Next, as shown in FIG. 11F, the second core sheet 20 is irradiated with the fundamental wave of the YAG laser in the same manner as described above, and penetrates the second core sheet 20 to form the first wiring. Reaches the layer 11 or the first through-hole wiring layer 12,
A second through hole TH2 having an opening diameter of 150 μm was opened. Next, as shown in FIG. 11G, a third wiring layer (jumper line) 21 was formed on the surface of the second core sheet 20 by screen printing of a conductive ink. At this time, the inside of the second through-hole TH2 was entirely buried with conductive ink to form the second through-hole wiring layer 22 connecting the first wiring layer 11 and the third wiring layer 21.

【0055】次に、図11(h)に示すように、第2コ
アシート20の上層および第1コアシート10の下層に
それぞれ接着剤41,42をそれぞれ20μmの厚さで
塗布した厚さ100μmの白色のPETからなる保護シ
ート30a,30bを積層させ、熱圧平面プレスにより
ラミネート加工し、さらにカードサイズに打ち抜き、厚
さ760μmのICカードを得た。
Next, as shown in FIG. 11 (h), adhesives 41 and 42 were respectively applied to the upper layer of the second core sheet 20 and the lower layer of the first core sheet 10 in a thickness of 20 μm to a thickness of 100 μm. The protective sheets 30a, 30b made of white PET were laminated, laminated by a hot-press flat press, and punched into a card size to obtain an IC card having a thickness of 760 μm.

【0056】本発明は上記の実施の形態に限定されな
い。例えば、第1〜3配線層は、非接触型ICカード用
のアンテナコイルを構成する以外の通常の配線層として
用いることも可能である。複雑な多層配線を内蔵するI
Cカード用の配線層を形成することができる。スルーホ
ールを開口するために照射するレーザー光は、YAGレ
ーザーの基本波(1.064μm)に限らず、第2高調
波(532nm)などの非線形効果により波長変換して
得た光や、CO2 レーザー、エキシマレーザーやイオン
レーザーなどのその他のレーザーを用いることもでき
る。また、スルーホールとしては、1つの接続点に対し
て並べて形成された複数個の副スルーホール群から構成
され、これらの複数個の副スルーホール群に導電体をを
埋め込んでスルーホール配線層とすることができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the first to third wiring layers can be used as ordinary wiring layers other than constituting an antenna coil for a non-contact type IC card. I with complex multilayer wiring
A wiring layer for a C card can be formed. The laser beam irradiated to open the through hole is not limited to the fundamental wave (1.064 μm) of the YAG laser, but may be light obtained by wavelength conversion by a non-linear effect such as a second harmonic (532 nm) or CO 2. Other lasers such as lasers, excimer lasers and ion lasers can also be used. The through-holes are composed of a plurality of sub-through-hole groups formed side by side with respect to one connection point, and a conductor is embedded in the plurality of sub-through-hole groups to form a through-hole wiring layer. can do.

【0057】ICカードとしては、非接触型のほか、接
触型ICモジュールも搭載したハイブリッドタイプとす
ることもできる。また、磁気ストライプなどを設けて情
報を記録する、昇華転写印刷などにより顔写真を印刷す
る、ホログラム、エンボスなどの各機能を付与すること
ができる。また、本発明のICカードとしては、タグな
どの矩形状あるいはコイン状の媒体等が含まれ、種々の
形状に適用可能である。
The IC card may be a non-contact type or a hybrid type having a contact type IC module mounted thereon. In addition, functions such as recording information by providing a magnetic stripe or the like, printing a face photograph by sublimation transfer printing or the like, hologram, embossing, and the like can be provided. Further, the IC card of the present invention includes a rectangular or coin-shaped medium such as a tag, and is applicable to various shapes.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の非接触型ICカードによれば、
第1コアシートの表裏面上に、第1配線層と第2配線層
がそれぞれ形成されており、それらが第1スルーホール
内に埋め込まれた第1スルーホール配線層により接続さ
れていて、ここでこのスルーホールは、第1コアシート
にレーザー光を照射して形成したものであるので、打ち
抜き法に比べて微細な径の孔を容易に複数個開口するこ
とが可能であり、印刷法により導電性インキをスルーホ
ール内に埋め込んだときに導電性インキがにじみ出すこ
とを抑制し、安定なスルーホールによる接続を実現する
ことができる。また、印刷法による配線層の形成は、従
来のエッチング法による場合と同様の薄型化を可能に
し、さらにコストを削減して製造されたICカードとす
ることができる。
According to the non-contact type IC card of the present invention,
A first wiring layer and a second wiring layer are respectively formed on the front and back surfaces of the first core sheet, and they are connected by a first through-hole wiring layer embedded in the first through-hole. Since this through hole is formed by irradiating the first core sheet with a laser beam, it is possible to easily open a plurality of fine-diameter holes as compared with the punching method. When the conductive ink is embedded in the through-hole, it is possible to suppress the conductive ink from oozing out, and to realize a stable connection through the through-hole. In addition, the formation of the wiring layer by the printing method enables the thinning as in the case of the conventional etching method, and can further reduce the cost to produce an IC card.

【0059】また、本発明の非接触型ICカードの製造
方法によれば、第1コアシートの表裏面上に、第1配線
層と第2配線層をそれぞれ形成し、それらを第1スルー
ホール内に埋め込まれた第1スルーホール配線層により
接続して形成するときに、第1コアシートにレーザー光
を照射して上記のスルーホールを形成することから、打
ち抜き法に比べて微細な径の孔を容易に複数個開口する
ことが可能であり、スクリーン印刷法により導電性イン
キをスルーホール内に埋め込んだときに導電性インキが
にじみ出すことを抑制し、安定なスルーホールによる接
続を実現することができる。また、スクリーン印刷によ
り配線層を形成するので、従来のエッチング法による場
合と同様の薄型化が可能であり、さらにコストを削減し
てICカードを製造することが可能となる。
Further, according to the method of manufacturing a non-contact type IC card of the present invention, a first wiring layer and a second wiring layer are formed on the front and back surfaces of the first core sheet, respectively, and the first and second wiring layers are formed in the first through holes. Since the first core sheet is irradiated with laser light to form the above-mentioned through-holes when the first through-holes are connected by the first through-hole wiring layer embedded therein, the first core sheet has a finer diameter than the punching method. A plurality of holes can be easily opened, and when the conductive ink is embedded in the through-hole by the screen printing method, the conductive ink is prevented from oozing out, and a stable connection through the through-hole is realized. be able to. Further, since the wiring layer is formed by screen printing, the thickness can be reduced as in the case of the conventional etching method, and the cost can be further reduced to manufacture an IC card.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)は本実施形態に係る非接触型ICカ
ードの構成を示す斜視図である。
FIG. 1A is a perspective view illustrating a configuration of a non-contact type IC card according to the present embodiment.

【図2】図2は本実施形態に係る非接触型ICカードに
おけるスルーホール配線層部分の拡大断面図であり、
(a)はスルーホールを1個の開口部から構成する場
合、(b)はスルーホールを3個の開口部(副スルーホ
ール)から構成する場合である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a through-hole wiring layer portion in the non-contact type IC card according to the embodiment;
(A) is a case where the through hole is formed of one opening, and (b) is a case where the through hole is formed of three openings (sub through holes).

【図3】図3は実施例1に係る非接触型ICカードの要
部を説明する図であり、図3(a)は第1コアシート1
0の表面側からの平面図であり、図3(b)は図3
(a)中のX−X’における断面図であり、図3(c)
は第1コアシート10の裏面側からの平面図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a main part of the non-contact type IC card according to the first embodiment, and FIG.
FIG. 3B is a plan view from the front side of FIG.
FIG. 3C is a sectional view taken along line XX ′ in FIG.
FIG. 3 is a plan view of the first core sheet 10 from the back side.

【図4】図4は実施例1に係る非接触型ICカードの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は第1ス
ルーホールを開口する工程まで、(b)は第1配線層を
形成する工程まで、(c)は第2配線層を形成する工程
までを示す。
FIGS. 4A and 4B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the method for manufacturing the non-contact type IC card according to the first embodiment, where FIG. 4A illustrates a process until a first through hole is opened, and FIG. (C) shows up to the step of forming the second wiring layer.

【図5】図5は図4の続きの工程を示し、(d)はIC
チップを固着する工程まで、(e)は第2コアシートを
積層する工程まで、(f)は保護シートを積層する工程
までを示す。
FIG. 5 shows a step that follows the step shown in FIG. 4;
Until the step of fixing the chip, (e) shows the step of laminating the second core sheet, and (f) shows the step of laminating the protective sheet.

【図6】図6は実施例2に係る非接触型ICカードの要
部を説明する図であり、図6(a)は第2コアシート2
0の表面(第3配線層形成面)側からの平面図であり、
図6(b)は図6(a)中のX−X’における断面図で
ある。図6(c)は第1コアシートの表面側からの平面
図であり、図6(d)は図6(c)中のY−Y’におけ
る断面図であり、図6(e)は第1コアシートの裏面側
からの平面図である。
FIG. 6 is a view for explaining a main part of a non-contact type IC card according to a second embodiment. FIG.
0 is a plan view from the front surface (third wiring layer formation surface) side of FIG.
FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line XX ′ in FIG. 6C is a plan view from the front surface side of the first core sheet, FIG. 6D is a cross-sectional view taken along line YY ′ in FIG. 6C, and FIG. It is a top view from the back side of 1 core sheet.

【図7】図7は実施例2に係る非接触型ICカードの製
造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は第1ス
ルーホールを開口する工程まで、(b)は第1配線層を
形成する工程まで、(c)は第2配線層を形成する工程
まで、(d)はICチップを固着する工程までを示す。
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a method for manufacturing a non-contact type IC card according to the second embodiment, in which FIG. 7A illustrates a process up to opening a first through hole, and FIG. Until the step of forming the wiring layer, (c) shows the step of forming the second wiring layer, and (d) shows the step of fixing the IC chip.

【図8】図8は図7の続きの工程を示し、(e)は第2
コアシートを積層する工程まで、(f)は第2スルーホ
ールを開口する工程まで、(g)は第3配線層を形成す
る工程まで、(h)は保護シートを積層する工程までを
示す。
FIG. 8 shows a step that follows the step shown in FIG. 7, and FIG.
Until the step of laminating the core sheet, (f) shows the step of opening the second through hole, (g) shows the step of forming the third wiring layer, and (h) shows the step of laminating the protective sheet.

【図9】図9は実施例3に係る非接触型ICカードの要
部を説明する図であり、図9(a)は第2コアシート2
0の表面(第3配線層形成面)側からの平面図であり、
図9(b)は図9(a)中のX−X’における断面図で
ある。図9(c)は第1コアシートの表面側からの平面
図であり、図9(d)は図9(c)中のY−Y’におけ
る断面図であり、図9(e)は第1コアシートの裏面側
からの平面図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a main part of a non-contact type IC card according to a third embodiment. FIG. 9A illustrates a second core sheet 2.
0 is a plan view from the front surface (third wiring layer formation surface) side of FIG.
FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line XX ′ in FIG. 9A. 9C is a plan view from the front surface side of the first core sheet, FIG. 9D is a cross-sectional view taken along the line YY ′ in FIG. 9C, and FIG. It is a top view from the back side of 1 core sheet.

【図10】図10は実施例3に係る非接触型ICカード
の製造方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は第
1スルーホールを開口する工程まで、(b)は第1配線
層を形成する工程まで、(c)は第2配線層を形成する
工程まで、(d)はICチップを固着する工程までを示
す。
FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a method for manufacturing a non-contact type IC card according to the third embodiment, where FIG. 10A illustrates a process up to opening a first through hole, and FIG. Until the step of forming the wiring layer, (c) shows the step of forming the second wiring layer, and (d) shows the step of fixing the IC chip.

【図11】図11は図10の続きの工程を示し、(e)
は第2コアシートを積層する工程まで、(f)は第2ス
ルーホールを開口する工程まで、(g)は第3配線層を
形成する工程まで、(h)は保護シートを積層する工程
までを示す。
FIG. 11 shows a step that follows the step shown in FIG. 10;
Up to the step of laminating the second core sheet, (f) up to the step of opening the second through hole, (g) up to the step of forming the third wiring layer, and (h) up to the step of laminating the protective sheet. Is shown.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…第1コアシート、11…第1配線層、12…第1
スルーホール配線層、13…第2配線層、14…ICチ
ップ、15…異方性導電膜、20…第2コアシート、2
1…第3配線層、22…第2スルーホール配線層、23
…ICチップ用孔、30a,30b…保護シート、40
…接着剤、TH1…第1スルーホール、TH2…第2ス
ルーホール。
10: first core sheet, 11: first wiring layer, 12: first
Through-hole wiring layer, 13: second wiring layer, 14: IC chip, 15: anisotropic conductive film, 20: second core sheet, 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 3rd wiring layer, 22 ... 2nd through-hole wiring layer, 23
... IC chip holes, 30a, 30b ... Protective sheet, 40
... adhesive, TH1 ... first through hole, TH2 ... second through hole.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 MB10 NA02 NA09 NA31 NA35 NA36 PA03 PA18 PA27 QC12 QC16 RA04 RA09 RA11 TA21 TA22 5B035 AA00 AA04 BA05 BB05 BB09 BC03 CA01 CA08 CA23 CA25 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2C005 MB10 NA02 NA09 NA31 NA35 NA36 PA03 PA18 PA27 QC12 QC16 RA04 RA09 RA11 TA21 TA22 5B035 AA00 AA04 BA05 BB05 BB09 BC03 CA01 CA08 CA23 CA25

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ICチップおよび当該ICチップに接続す
る配線層を内蔵するICカードであって、 第1コアシートと、 前記第1コアシートを貫通するように、レーザー光照射
により開口された第1スルーホールと、 前記第1スルーホールを埋め込んで形成された第1スル
ーホール配線層と、 前記第1コアシートの一方の面上に形成され、前記第1
スルーホール配線層に接続して形成された第1配線層
と、 前記第1コアシートの他方の面上に形成され、前記第1
スルーホール配線層に接続して形成された第2配線層と
を有し、 前記第1配線層に接続して前記第1コアシート上に前記
ICチップが固着されているICカード。
1. An IC card having a built-in IC chip and a wiring layer connected to the IC chip, comprising: a first core sheet; and a first core sheet opened by laser light irradiation so as to penetrate the first core sheet. A first through-hole, a first through-hole wiring layer formed by embedding the first through-hole, and a first through-hole formed on one surface of the first core sheet;
A first wiring layer formed by being connected to the through-hole wiring layer; and a first wiring layer formed on the other surface of the first core sheet.
An IC card having a second wiring layer formed connected to the through-hole wiring layer, wherein the IC chip is fixed on the first core sheet connected to the first wiring layer.
【請求項2】前記第1スルーホールの開口径が、10〜
300μmである請求項1記載のICカード。
2. An opening diameter of said first through hole is 10 to 10.
The IC card according to claim 1, which has a thickness of 300 µm.
【請求項3】前記第1スルーホールが、1つの接続点に
対して並べて形成された複数個の副スルーホール群から
構成されており、 前記第1スルーホール配線層が、前記複数個の副スルー
ホール群を埋め込んで、前記第1配線層と前記第2配線
層を接続するように形成されている請求項1あるいは2
に記載のICカード。
3. The first through-hole comprises a plurality of sub-through-hole groups formed side by side with respect to one connection point, and the first through-hole wiring layer comprises a plurality of sub-through-hole wiring layers. 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a through hole group is buried to connect the first wiring layer and the second wiring layer.
2. The IC card according to 1.
【請求項4】前記第1および第2配線層とスルーホール
配線層が、前記ICカードと当該ICカード用外部装置
とが非接触方式で通信を行うためのアンテナを構成する
請求項1〜3のいずれかに記載のICカード。
4. The antenna according to claim 1, wherein the first and second wiring layers and the through-hole wiring layer form an antenna for performing non-contact communication between the IC card and an external device for the IC card. The IC card according to any one of the above.
【請求項5】前記第1配線層が第1アンテナを構成し、 前記第2配線層が第2アンテナを構成し、 前記第1アンテナおよび前記第2アンテナが並列に接続
されている請求項4記載のICカード。
5. The first wiring layer forms a first antenna, the second wiring layer forms a second antenna, and the first antenna and the second antenna are connected in parallel. The described IC card.
【請求項6】前記第1配線層が第1アンテナを構成し、 前記第2配線層が第2アンテナを構成し、 前記第1アンテナおよび前記第2アンテナが直列に接続
されている請求項4記載のICカード。
6. The first wiring layer forms a first antenna, the second wiring layer forms a second antenna, and the first antenna and the second antenna are connected in series. The described IC card.
【請求項7】前記第1コアシートの前記第1配線層形成
面上に第2コアシートが積層しており、 前記第2コアシートを貫通して前記第1配線層あるいは
前記第1スルーホール配線層に達するように、レーザー
光照射により開口された第2スルーホールと、 前記第2スルーホールを埋め込んで前記第1配線層ある
いは前記第1スルーホール配線層に接続して形成された
第2スルーホール配線層と、 前記第2コアシートの前記第1コアシートと積層する面
の裏面上に形成され、前記第2スルーホール配線層に接
続して形成された第3配線層とをさらに有する請求項1
〜6のいずれかに記載のICカード。
7. A first core sheet, wherein a second core sheet is laminated on the first wiring layer forming surface of the first core sheet, and the first wiring layer or the first through hole penetrates the second core sheet. A second through hole opened by laser light irradiation so as to reach the wiring layer; and a second through hole formed by filling the second through hole and connecting to the first wiring layer or the first through hole wiring layer. The semiconductor device further includes a through-hole wiring layer, and a third wiring layer formed on the back surface of the surface of the second core sheet laminated with the first core sheet and connected to the second through-hole wiring layer. Claim 1
7. The IC card according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】ICチップおよび当該ICチップに接続す
る配線層を内蔵するICカードの製造方法であって、 第1コアシートに対してレーザー光を照射し、前記第1
コアシートを貫通する第1スルーホールを開口する工程
と、 導電性インキを用いたスクリーン印刷法により、前記第
1コアシートの一方の面上に第1配線層を形成する工程
と、 導電性インキを用いたスクリーン印刷法により、前記第
1コアシートの他方の面上に第2配線層を形成する工程
と、 前記第1配線層に接続して前記第1コアシート上に前記
ICチップを固着する工程とを有し、 前記第1配線層を形成する工程および/または前記第2
配線層を形成する工程において、前記導電性インキを前
記第1スルーホールに埋め込み、前記第1配線層および
前記第2配線層を接続するための第1スルーホール配線
層を形成するICカードの製造方法。
8. A method for manufacturing an IC card including an IC chip and a wiring layer connected to the IC chip, wherein the first core sheet is irradiated with laser light.
A step of opening a first through hole penetrating the core sheet; a step of forming a first wiring layer on one surface of the first core sheet by a screen printing method using a conductive ink; Forming a second wiring layer on the other surface of the first core sheet by a screen printing method using, and connecting the IC chip to the first core sheet by connecting to the first wiring layer Forming the first wiring layer and / or forming the second wiring layer.
In the step of forming a wiring layer, manufacturing of an IC card in which the conductive ink is buried in the first through hole and a first through hole wiring layer for connecting the first wiring layer and the second wiring layer is formed. Method.
【請求項9】前記第1スルーホールを開口する工程にお
いては、開口径が10〜300μmとなるように第1ス
ルーホールを開口する請求項8記載のICカードの製造
方法。
9. The method for manufacturing an IC card according to claim 8, wherein in the step of opening the first through hole, the first through hole is opened so that the opening diameter becomes 10 to 300 μm.
【請求項10】前記第1および第2配線層とスルーホー
ル配線層が、前記ICカードと当該ICカード用外部装
置とが非接触方式で通信を行うためのアンテナを構成す
る請求項8あるいは9に記載のICカードの製造方法。
10. The antenna according to claim 8, wherein the first and second wiring layers and the through-hole wiring layer form an antenna for performing non-contact communication between the IC card and the external device for the IC card. 3. The method for manufacturing an IC card according to item 1.
【請求項11】前記第1配線層が第1アンテナを構成
し、 前記第2配線層が第2アンテナを構成し、 前記第1アンテナおよび前記第2アンテナを並列に接続
して形成する請求項10記載のICカードの製造方法。
11. The first wiring layer forms a first antenna, the second wiring layer forms a second antenna, and is formed by connecting the first antenna and the second antenna in parallel. 11. The method for manufacturing an IC card according to item 10.
【請求項12】前記第1配線層が第1アンテナを構成
し、 前記第2配線層が第2アンテナを構成し、 前記第1アンテナおよび前記第2アンテナを直列に接続
して形成する請求項10記載のICカードの製造方法。
12. The first wiring layer forms a first antenna, the second wiring layer forms a second antenna, and is formed by connecting the first antenna and the second antenna in series. 11. The method for manufacturing an IC card according to item 10.
【請求項13】前記ICチップを固着する工程の後に、 前記第1コアシートの前記第1配線層形成面上に第2コ
アシートを積層する工程と、 第2コアシートに対してレーザー光を照射し、前記第2
コアシートを貫通して前記第1配線層あるいは前記第1
スルーホール配線層に達する第2スルーホールを開口す
る工程と、 導電性インキを用いたスクリーン印刷法により、前記導
電性インキを前記第2スルーホールに埋め込み、前記第
1配線層あるいは前記第1スルーホール配線層に接続す
る第2スルーホール配線層を形成し、前記第2コアシー
トの前記第1コアシートと積層する面の裏面上に、前記
第2スルーホール配線層に接続して第3配線層を形成す
る工程とをさらに有する請求項8〜12のいずれかに記
載のICカードの製造方法。
13. A step of laminating a second core sheet on the first wiring layer forming surface of the first core sheet after the step of fixing the IC chip, and applying a laser beam to the second core sheet. Irradiating the second
The first wiring layer or the first wiring layer extends through a core sheet.
A step of opening a second through-hole reaching the through-hole wiring layer, and embedding the conductive ink in the second through-hole by a screen printing method using a conductive ink to form the first wiring layer or the first through-hole. Forming a second through-hole wiring layer connected to the hole wiring layer, and connecting the second through-hole wiring layer to the third wiring on the back surface of the surface of the second core sheet laminated with the first core sheet; The method for manufacturing an IC card according to claim 8, further comprising a step of forming a layer.
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