JP2005183847A - Method for forming wiring board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for easily forming a fine conductive layer having a low electric resistance in a through-hole of a substrate. <P>SOLUTION: Through-holes are made in a substrate 10, coated with droplets by ink jetting, and then heated to thereby form a conductive layer 30. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、配線基板の形成方法に関する。   The present invention relates to a method for forming a wiring board.

インクジェット法(液滴吐出法)により、導電性微粒子分散体を基板上に吐出して、各種の電気光学装置に含まれる配線を、所定のパターンに形成する方法が開発されてきている。たとえば、米国特許5132248号では、導電性微粒子を分散させた液状物をインクジェット法にて基板に直接パターン塗布し、その後、熱処理やレーザー照射を行って導電膜パターンに変換する方法が提案されている。この方法によれば、配線形成のプロセスが大幅に簡単になるというメリットがある。   A method has been developed in which a conductive fine particle dispersion is discharged onto a substrate by an inkjet method (droplet discharge method) to form wirings included in various electro-optical devices in a predetermined pattern. For example, US Pat. No. 5,132,248 proposes a method in which a liquid material in which conductive fine particles are dispersed is directly applied to a substrate by an ink-jet method and then converted into a conductive film pattern by heat treatment or laser irradiation. . According to this method, there is a merit that the process of wiring formation is greatly simplified.

ところで、近年、素子の微細化や低消費電力化に伴い、各種の電気光学装置に用いられる導電層の微細化や、電気抵抗値の低い導電層を形成することが求められてきている。インクジェット法により、この要求を満足させようとして、導電性微粒子分散体に含まれる導電性微粒子の配合割合を増やすとともに、塗膜を細密に重ねて形成することにより、微細で、電気抵抗値の低い導電層を形成しようとする試みがなされてきている。   Incidentally, in recent years, along with miniaturization of elements and low power consumption, it has been required to miniaturize conductive layers used in various electro-optical devices and to form conductive layers having low electric resistance values. In order to satisfy this requirement by the inkjet method, the blending ratio of the conductive fine particles contained in the conductive fine particle dispersion is increased, and the coating film is finely stacked to form a fine and low electric resistance value. Attempts have been made to form conductive layers.

しかしながら、この方法では、重ね精度の問題により配線幅が増大したり、製造時間が増加するといった問題を有している。(特許文献1参照)
米国特許第5132248号
However, this method has problems such as an increase in wiring width and an increase in manufacturing time due to an overlay accuracy problem. (See Patent Document 1)
US Pat. No. 5,132,248

本発明の目的は、簡易な方法で形成が可能であり、かつ微細で電気抵抗値の低い配線基板を形成する方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of forming a wiring board that can be formed by a simple method and is fine and has a low electric resistance value.

本発明の配線基板の形成方法は、基板の所定の位置にスルーホールを形成する工程と、
前記スルーホールに液滴吐出法により液滴を塗布する工程と、
前記液滴が塗布された前記基板を加熱処理し、前記スルーホール内に導電層を形成する工程と、
を少なくとも有する。
The method for forming a wiring board according to the present invention includes a step of forming a through hole at a predetermined position of the board,
Applying a droplet to the through hole by a droplet discharge method;
Heat treating the substrate coated with the droplets to form a conductive layer in the through hole;
At least.

また、前記スルーホールはレーザー照射により形成されること、を含む。   The through hole may be formed by laser irradiation.

本発明の配線基板の形成方法によれば、微細で電気抵抗値の低い導電層を、簡易な方法により形成することができる。   According to the method for forming a wiring substrate of the present invention, a fine conductive layer having a low electric resistance value can be formed by a simple method.

本発明によれば、レーザー光照射により基板にスルーホールを開口することができる。この方法によれば、レーザースポット径に対応した、微細な導電層を基板に形成することができる。   According to the present invention, a through hole can be opened in a substrate by laser light irradiation. According to this method, a fine conductive layer corresponding to the laser spot diameter can be formed on the substrate.

以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1〜図4は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る配線基板の形成方法の工程を模式的に示す平面図または断面図である。図1(b)は、図1(a)のA−A線に沿った断面を示す図であり、配線基板を形成するためのプラスチック基板からなる基板10を示したものである。   1 to 4 are plan views or cross-sectional views schematically showing the steps of the method for forming a wiring board according to the first embodiment to which the present invention is applied. FIG. 1B is a view showing a cross section taken along the line AA in FIG. 1A, and shows a substrate 10 made of a plastic substrate for forming a wiring substrate.

本実施の形態に係る配線基板の形成方法は、基板10に対し、図2に示したようなレーザー光40を照射することにより、基板10にスルーホール20を形成する。レーザー照射により形成された基板は図3に示す通りである。レーザー光照射装置から出力されるレーザー光40を、基板10の所定の位置に照射する。この場合、レーザー光40のスポット径を小さく絞れば絞るほど、微細なスルーホールが基板10に形成される。   In the wiring substrate forming method according to the present embodiment, the through hole 20 is formed in the substrate 10 by irradiating the substrate 10 with the laser light 40 as shown in FIG. The substrate formed by laser irradiation is as shown in FIG. A laser beam 40 output from the laser beam irradiation device is irradiated to a predetermined position of the substrate 10. In this case, a fine through hole is formed in the substrate 10 as the spot diameter of the laser beam 40 is reduced.

図3はスルーホールを形成した基板10の平面図と、C−C断面で見た断面図である。図のようにスルーホールが基板10に開口される。   FIG. 3 is a plan view of the substrate 10 in which the through holes are formed, and a cross-sectional view taken along the line CC. Through holes are opened in the substrate 10 as shown.

スルーホールを形成した基板に対し、液滴吐出法(インクジェット法)により液滴を塗布する。塗布する液滴は、再溶解性を有する導電性微粒子分散体である。なお、導電性微粒子を含有する材料(液滴)であれば、どのような材料でも適用できる。   A droplet is applied to the substrate on which the through hole is formed by a droplet discharge method (inkjet method). The applied droplet is a conductive fine particle dispersion having re-solubility. Any material (droplet) containing conductive fine particles can be used.

本実施の形態の配線基板の形成方法によれば、インクジェットによる塗布工程において、用いられる導電性微粒子の配合割合に制約を受けることがなく、用いることができる。   According to the method for forming a wiring board of the present embodiment, it can be used without being restricted by the blending ratio of the conductive fine particles used in the application process by inkjet.

次に、スルーホール内に液滴を塗布した後、加熱工程を行う。加熱は約180度〜200度程度の熱をかけることにより行う。塗布した液滴を含み基板を加熱することにより、スルーホール内に導電層30を形成することができる。   Next, after applying droplets in the through holes, a heating process is performed. Heating is performed by applying heat of about 180 to 200 degrees. By heating the substrate including the applied droplets, the conductive layer 30 can be formed in the through hole.

基板に形成したスルーホールに導電層を形成し、更に、基板表面に配線をインクジェットプロセスにより形成することにより、配線基板を形成することができる。   A wiring substrate can be formed by forming a conductive layer in a through hole formed in a substrate and further forming a wiring on the surface of the substrate by an inkjet process.

更に、一方の面(表面)をインクジェットプロセスにより液滴を塗布し、乾燥(加熱)させた後、他方の面(裏面)を同様にインクジェットプロセスにより液滴を塗布することにより、基板両面に配線を形成することが可能となる。   Further, after applying droplets on one surface (front surface) by an inkjet process and drying (heating), the other surface (rear surface) is similarly applied by droplets by an inkjet process, thereby wiring on both sides of the substrate. Can be formed.

配線の形成に関しては、所定の方法により基板表面に親撥液処理を行い、配線を形成したいところに親液処理、それ以外の領域に撥液処理する。更に、インクジェット法により塗布される液滴がつながらない間隔で液滴を塗布する。そして、乾燥(加熱)工程を行う。インクジェット塗布により液滴を塗布する工程と乾燥工程とを繰り返すことにより、配線全面に描画を行うことができるとともに、更に複数回この工程を繰り返すことにより膜厚が厚い配線を形成することが可能となる。   Regarding the formation of the wiring, a lyophilic process is performed on the substrate surface by a predetermined method, the lyophilic process is performed at a place where the wiring is to be formed, and the lyophobic process is performed on other areas. Further, the droplets are applied at intervals where the droplets applied by the ink jet method are not connected. Then, a drying (heating) step is performed. By repeating the step of applying droplets by inkjet coating and the drying step, it is possible to draw on the entire surface of the wiring, and it is possible to form a thick wiring by repeating this step more than once. Become.

導電層30を形成するために、液滴を塗布する量は、基板表面とほぼ同一(面一)となるように所定量塗布する。このようにすることにより、基板表面に凹凸を形成することなく、平坦な表面の配線基板を形成することができる。   In order to form the conductive layer 30, a predetermined amount is applied so that the amount of droplets to be applied is substantially the same as the surface of the substrate. By doing so, it is possible to form a wiring substrate having a flat surface without forming irregularities on the substrate surface.

また、基板表面に対し、導電層が凸となるように所定量液滴を塗布することも可能である(図4参照)。この場合、基板表面から凸となるので平坦性という点では前述の構成よりも凹凸となるが、基板表面に形成される配線との接続性を考慮すると密着性の高い接続を行うことができる。   It is also possible to apply a predetermined amount of droplets on the substrate surface so that the conductive layer is convex (see FIG. 4). In this case, since it becomes convex from the surface of the substrate, the surface is more uneven than the above structure in terms of flatness. However, in consideration of the connectivity with the wiring formed on the surface of the substrate, connection with high adhesion can be performed.

なお、前述のような親撥液処理ではなく、配線となる領域以外の領域に樹脂からなるバンクを形成し、バンクに囲まれた領域に液滴を塗布することにより配線を形成することも可能である。なお、その際は、前述のような液滴塗布工程とは異なり、所定の量の材料(液)を連続的描画し、そして乾燥工程を行うことにより配線を形成することができる。   Instead of the lyophobic treatment as described above, it is also possible to form a wiring by forming a bank made of resin in a region other than a region to be a wiring and applying a droplet to a region surrounded by the bank. It is. In this case, unlike the above-described droplet applying process, wiring can be formed by continuously drawing a predetermined amount of material (liquid) and performing a drying process.

以下に改良例を示す。   Examples of improvements are shown below.

前述のようなプラスチック基板(フレキシブル基板)を用いた例では、基板には何も形成されていない状態で例示したが、一方の面(もしくは両面)に配線等が形成されていても良い。配線が形成されている場合にも、前述同様、レーザー照射により所定の位置にスルーホールを開口させ、インクジェット法により液滴を塗布し、導電層を形成することができる。更に、表面と裏面の位置関係により、スルーホール内に形成した導電層を、表面の配線と裏面の配線とを繋ぐ役割とすることも可能である。本発明によれば、表裏の導通も可能となる。   In the example using the plastic substrate (flexible substrate) as described above, the substrate is exemplified in a state in which nothing is formed, but wiring or the like may be formed on one surface (or both surfaces). Even in the case where the wiring is formed, a conductive layer can be formed by opening a through hole at a predetermined position by laser irradiation and applying a droplet by an ink jet method as described above. Furthermore, depending on the positional relationship between the front surface and the back surface, the conductive layer formed in the through hole can also serve to connect the front surface wiring and the back surface wiring. According to the present invention, conduction between the front and back sides is also possible.

このような配線基板に対し、一方の面に半導体チップを実装することにより、半導体チップを搭載した半導体装置を形成することが可能となる。なお、半導体チップは、どのような形態のチップでもよく、例えば半導体チップを積層したスタック型でもよい。このような半導体装置を液晶装置、有機EL装置等の光学装置(表示装置)へ搭載することも可能であり、またこれら表示装置を携帯電話、モバイル機器等の電子機器へ搭載することも可能である。   By mounting a semiconductor chip on one surface of such a wiring board, a semiconductor device on which the semiconductor chip is mounted can be formed. The semiconductor chip may be any type of chip, for example, a stack type in which semiconductor chips are stacked. Such semiconductor devices can be mounted on optical devices (display devices) such as liquid crystal devices and organic EL devices, and these display devices can also be mounted on electronic devices such as mobile phones and mobile devices. is there.

更に、インクジェットで形成した配線上に絶縁膜を形成し、その上に更に配線をインクジェット法で形成した積層型配線基板としても良い。なお、積層型配線基板を形成する際は、例えば、基板上に最初にインクジェット法で形成した配線を第1配線とし、層間を形成する絶縁膜を介してインクジェット法により形成した配線を第2配線としたとき、第1配線と第2配線とを接続する導電層を前述の通りインクジェット法により形成することも可能である。   Furthermore, a laminated wiring board in which an insulating film is formed on a wiring formed by ink jet and a wiring is further formed thereon by an ink jet method may be used. When forming the multilayer wiring board, for example, the wiring first formed on the substrate by the ink jet method is used as the first wiring, and the wiring formed by the ink jet method through the insulating film forming the interlayer is used as the second wiring. In this case, the conductive layer connecting the first wiring and the second wiring can be formed by the ink jet method as described above.

その際は、絶縁膜は所定の領域のみ開口しておき、開口した部分にインクジェット法により液滴を塗布する。更にその後、配線となる領域もインクジェット方により液滴を塗布することにより形成することが可能である。なお、開口部への塗布と第2配線形成の際の塗布に関し、同一プロセスで行うことも可能である。   In that case, the insulating film is opened only in a predetermined region, and droplets are applied to the opened portion by an ink jet method. Further, a region to be a wiring can be formed by applying droplets by an ink jet method. In addition, it is also possible to perform by the same process regarding application | coating to an opening part and application | coating in the case of 2nd wiring formation.

このように、第1配線、絶縁層、第2配線のように、各配線と各配線の間に絶縁層を配置した構造を複数層形成することにより多層配線基板を形成することができる。この場合も、配線及び絶縁層の開口部にインクジェット法により前述のような液滴を塗布し、加熱乾燥させることにより導電層及び配線を形成することができる。なお、絶縁層も材料を選定することによりインクジェット法により形成することも可能である。その場合には、配線形成用のインクジェット装置と絶縁層形成用のインクジェット装置を用意し、連続的に配置したライン構成とすることにより効率良くインクジェットプロセスを行うことができる。更には、配線形成の場合には、全領域への塗布、そして厚い膜厚の配線を形成するために、インクジェット塗布を複数回行わなければならない。その場合には、配線形成用のインクジェット装置と絶縁層形成用のインクジェット装置を複数セット用意し、それらを並べて連続的に流す方法も適用できる。   In this way, a multilayer wiring board can be formed by forming a plurality of layers in which an insulating layer is arranged between each wiring, such as the first wiring, the insulating layer, and the second wiring. Also in this case, the conductive layer and the wiring can be formed by applying the above-described droplets to the openings of the wiring and the insulating layer by an ink jet method and drying by heating. Note that the insulating layer can also be formed by an ink-jet method by selecting a material. In that case, an inkjet process can be efficiently performed by preparing an inkjet apparatus for forming a wiring and an inkjet apparatus for forming an insulating layer and adopting a continuously arranged line configuration. Furthermore, in the case of wiring formation, inkjet coating must be performed a plurality of times in order to apply to the entire region and to form a wiring having a large film thickness. In that case, a method of preparing a plurality of sets of ink-jet devices for forming wirings and ink-jet devices for forming insulating layers, and arranging them in a continuous manner can also be applied.

更に、このように連続的に装置を配置し、ライン状にして形成した場合、基板がテープ状の材料であれば、リールtoリールでの製造方法も適用できる。   Further, when the apparatus is continuously arranged and formed in a line shape in this way, a reel-to-reel manufacturing method can be applied if the substrate is a tape-like material.

以上、本発明の好適な実施の形態について述べたが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で各種の態様を取り得る。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these, Various aspects can be taken within the scope of the summary of this invention.

図1(a)は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る導電層の形成方法の1工程を模式的に示す平面図。図1(b)は、図1(a)のA−Aにおける断面を模式的に示す図。FIG. 1A is a plan view schematically showing one step of a method for forming a conductive layer according to a first embodiment to which the present invention is applied. FIG.1 (b) is a figure which shows typically the cross section in AA of Fig.1 (a). 本発明を適用した第1の実施の形態に係る配線基板の形成方法の1工程を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically 1 process of the formation method of the wiring board which concerns on 1st Embodiment to which this invention is applied. 本発明を適用した第1の実施の形態に係る導電層の形成方法の1工程を模式的に示す平面図。The top view which shows typically 1 process of the formation method of the conductive layer which concerns on 1st Embodiment to which this invention is applied. 本発明を適用した第1の実施の形態に係る導電層の形成方法の1工程を模式的に示す平面図。The top view which shows typically 1 process of the formation method of the conductive layer which concerns on 1st Embodiment to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板、 30 導電層、 40 レーザー光
10 substrate, 30 conductive layer, 40 laser light

Claims (5)

基板の所定の位置にスルーホールを形成する工程と、
前記スルーホールに液滴吐出法により液滴を塗布する工程と、
前記液滴が塗布された前記基板を加熱処理し、前記スルーホール内に導電層を形成する工程と、
を少なくとも有する配線基板の形成方法。
Forming a through hole at a predetermined position of the substrate;
Applying a droplet to the through hole by a droplet discharge method;
Heat treating the substrate coated with the droplets to form a conductive layer in the through hole;
A method of forming a wiring board having at least
請求項1記載の配線基板の形成方法において、
前記スルーホールはレーザー照射により形成されること、を含む配線基板の形成方法。
In the formation method of the wiring board of Claim 1,
A method for forming a wiring board, comprising: forming the through hole by laser irradiation.
請求項1記載の導電層の形成方法において、
前記導電層が形成された前記基板の一部に塗布層を形成すること、を含む配線基板の形成方法。
In the formation method of the conductive layer of Claim 1,
Forming a coating layer on a part of the substrate on which the conductive layer is formed.
請求項3に記載の配線基板の形成方法において、
前記塗布層を液滴吐出法により形成すること特徴とする、配線基板の形成方法。
In the formation method of the wiring board of Claim 3,
A method of forming a wiring board, wherein the coating layer is formed by a droplet discharge method.
請求項1〜請求項4のいずれかに記載の配線基板の形成方法において、
前記液滴吐出法による液滴は、導電性微粒子が分散された液滴である、配線基板の形成方法。


































In the formation method of the wiring board in any one of Claims 1-4,
A method for forming a wiring board, wherein the droplets formed by the droplet discharge method are droplets in which conductive fine particles are dispersed.


































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