JP5391629B2 - レンズ、光学装置及びレンズの製造方法 - Google Patents
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Description
波長λが350nm≦λ≦450nmの光を出射する光源を有する光学装置に用いられるレンズにおいて、
樹脂を成形した、像側開口数NAが0.7以上の成形部と、
前記成形部上に形成された1層又は複数層の反射防止膜と、を備え、
前記樹脂は環状オレフィン樹脂であり、
前記反射防止膜の層構成のうち少なくとも前記成形部に接している第1層がSixOyで構成され、SiとOとの組成比r(=y/x)が式(1)の条件を満たすことを特徴とするレンズが提供される。
1.40≦r≦1.75 … (1)
波長λが350nm≦λ≦450nmの光を出射する光源を有する光学装置に用いられるレンズの製造方法において、
樹脂を成形して像側開口数NAが0.7以上の成形部を形成する工程と、
前記成形部上に、1層又は複数層の反射防止膜であってその層構成のうち少なくとも前記成形部に接する第1層がSixOyである反射防止膜を形成する工程と、を備え、
前記樹脂は環状オレフィン樹脂であり、
前記反射防止膜を形成する工程では、蒸着源としてSiOを用いるとともに蒸着装置内にO2ガスを導入し、前記O2ガスの導入圧力を調整してSiとOとの組成比r(=y/x)が式(1)の条件を満たすSixOyの層を形成することを特徴とするレンズの製造方法が提供される。
1.40≦r≦1.75 … (1)
1.40≦r≦1.75 … (1)
環状オレフィン樹脂(三井化学製APEL)を用いて作成した樹脂レンズ基材(Blu−Ray用対物レンズ)の入射側、出射側の表面上にSixOy層単層からなる反射防止膜を下記、表2に記載の膜厚で形成した。
膜厚は、設計波長に対して屈折率(n)×膜厚(d)が略波長/4となるように設定した。ndを波長/4に設定することで、光の干渉効果により反射防止効果を得ることができる。但し、設計波長(最も反射率が低くなるように設定する波長)としては、レンズ面の形状と全体の透過率を考慮し、入射面側(S1面側)では470nmとし、出射面側(S2面側)では440nmとして膜厚を設定した。
(2.1)収差変動の測定
各サンプル1〜5に対し、温度環境75℃、強度10mW、照射スポット径1mm、照射時間1000hの条件下で405nmのレーザ光源で光照射し、サンプル1〜5ごとに照射前後における球面収差の変動量ΔSA3を測定した。測定には内製トワイマン・グリーン型干渉計を用いた。球面収差の変動量ΔSA3の基準を±0.03rms以下と規定し、その条件を満たすか否かでサンプル1〜5を評価した。その評価結果を表2に示す。表2中、上記基準を満たす場合には「○」と、上記基準を満たさない場合には「×」と記載している。
サンプル1〜5の第1層と同種類の酸化シリコン膜を、光学ガラスBK7に100nm成膜し、日立ハイテク製U4100分光光度計を用いて350〜450nmにおける光の吸収率を測定した。透明性を評価する際の基準として350nm〜450nmで2%以上の光吸収が確認されるか否かでサンプル1〜5を評価した。その評価結果を表2に示す。表2中、2%未満の光吸収にとどまった場合には「○」と、2%以上の光吸収が確認された場合には「×」と記載している。
表2に示す通り、組成比rが1.40≦r≦1.75の範囲にあるサンプル1,2からは、いずれも収差変動,透明性の観点で良好な結果が得られた。これに対し、組成比rが1.75を上回るサンプル3は収差変動が大きく、組成比rが1.40未満のサンプル4,5は短波長領域(350nm〜450nm)における光吸収が大きかった。以上から、反射防止膜の第1層(SixOy)における組成比rを1.40≦r≦1.75の範囲に収めることが、収差変動,透明性の観点で有用であることがわかる。
実施例1と同様に作製された環状オレフィン樹脂(三井化学製APEL)を用いて作製した樹脂レンズ基材(Blu−Ray用対物レンズ)の入射側、出射側の表面上に、それぞれ以下の表3に示される膜厚で反射防止膜を形成した。表3中では、基材側に最も近い層を下層とし、基材から遠い側を上層としており、同じ組成比r(SixOyにおけるy/xの値)の酸化シリコン膜を設けた。中間層としては、400nmの光に対する屈折率が1.93の参加ジルコニウム層を用いた。設計波長(最も反射率が低くなるように設定する波長)としては、レンズ面の形状と全体の透過率を考慮し、入射面側(S1面側)では470nmとし、出射面側(S2面側)では440nmとして膜厚を設定した。
(2.1)収差変動の測定
各サンプル6〜8に対し、実施例1と同様の条件で球面収差の変動量ΔSA3を測定した。実施例1の基準に加え、球面収差の変動量ΔSA3の基準が±0.01rms以下のものを◎として評価した。その評価結果を表3に示す。
サンプル6〜8を実施例1と同様に評価した。その評価結果を表3に示す。
表3に示す通り、組成比rが1.40≦r≦1.75の範囲にある酸化シリコン膜を2層設けたサンプル6,7は、いずれも収差変動の点で特に良好な値を示し、上記の酸化シリコン層を複数層設けた場合に、本発明の効果が特に良好に得られることが示された。
32 半導体レーザ発振器
33 コリメータ
34 ビームスプリッタ
35 1/4波長板
36 絞り
37 対物レンズ
37a 表面
37b 表面
38 センサーレンズ群
39 センサー
40 2次元アクチュエータ
50 成形部
60 反射防止膜
61 第1層
62 第2層
63 第3層
D 光ディスク
D1 保護基板
D2 情報記録面
Claims (9)
- 波長λが350nm≦λ≦450nmの光を出射する光源を有する光学装置に用いられるレンズにおいて、
樹脂を成形した、像側開口数NAが0.7以上の成形部と、
前記成形部上に形成された1層又は複数層の反射防止膜と、を備え、
前記樹脂は環状オレフィン樹脂であり、
前記反射防止膜の層構成のうち少なくとも前記成形部に接している第1層がSixOyで構成され、SiとOとの組成比r(=y/x)が式(1)の条件を満たすことを特徴とするレンズ。
1.40≦r≦1.75 … (1) - 前記SixOyで構成された層の屈折率が1.7未満であることを特徴とする請求項1に記載のレンズ。
- 前記反射防止膜は複数層からなり、
前記複数層には、屈折率が1.7以上の層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のレンズ。 - 前記屈折率が1.7以上の層は、Ta2O5、Ta2O5とTiO2との混合物、ZrO2、ZrO2とTiO2との混合物、NbO3、HfO2のいずれかからなることを特徴とする請求項3に記載のレンズ。
- 前記波長λの光が入射する入射面と、前記波長λの光が出射する出射面とを有し、
前記SixOyで構成された層は、前記入射面と前記出射面とのうち、少なくとも前記出射面に設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のレンズ。 - 前記反射防止膜は前記入射面と前記出射面との両方に設けられており、
前記入射面における膜厚の方が前記出射面における膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項5に記載のレンズ。 - 波長λが350nm≦λ≦450nmの光を出射する光源と、
請求項1〜6のいずれか一項に記載のレンズとを有することを特徴とする光学装置。 - BD用の光ピックアップ装置であることを特徴とする請求項7に記載の光学装置。
- 波長λが350nm≦λ≦450nmの光を出射する光源を有する光学装置に用いられるレンズの製造方法において、
樹脂を成形して像側開口数NAが0.7以上の成形部を形成する工程と、
前記成形部上に、1層又は複数層の反射防止膜であってその層構成のうち少なくとも前記成形部に接する第1層がSixOyである反射防止膜を形成する工程と、を備え、
前記樹脂は環状オレフィン樹脂であり、
前記反射防止膜を形成する工程では、蒸着源としてSiOを用いるとともに蒸着装置内にO2ガスを導入し、前記O2ガスの導入圧力を調整してSiとOとの組成比r(=y/x)が式(1)の条件を満たすSixOyの層を形成することを特徴とするレンズの製造方法。
1.40≦r≦1.75 … (1)
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