JP5386636B2 - 走査電子顕微鏡及び試料観察方法 - Google Patents
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Description
102 引き出し電極
103 陽極
104,203,501,601 電子線
105 コンデンサレンズ
106 アパーチャ
107 偏向器
108,503 対物レンズ
109 ブースタ電極
110,504 試料
111,721 二次電子
112 検出器
113 リターディング電源
114 制御部
115 表示部
116 記憶手段
117 画像処理部
201,401,701 シリコンウェーハ
202,402,704 絶縁膜
204,405,711,722 正帯電
301 電子線走査領域A
302,603 電子線走査方向a
303 電子線走査領域B
304 電子線走査方向b
305 角度θ
311 コンタクトホール正常部
312 コンタクトホール欠陥部
403 初期状態の電子線照射方向
404 次ステップの電子線照射方向
502 アライナ
505 光軸
602 プリチャージ領域A
604 電子線傾斜角
605,611 方位角
702 絶縁層
703 シリコン層
712 低仰角二次電子
713 高仰角二次電子
801 従来技術によるプリチャージの照射領域
802 最上部ライン
803,804 円
805 半径r1
806 半径r2
807 領域A
808,815,825 模式図
811 始めのステップにて電子線走査を固定した位置
812 次のステップにて電子線走査を固定する位置
813 領域B
814 領域C
821 次のステップにて電子線走査を固定した位置
822 最終ステップにて電子線走査を固定する位置
823 領域D
824 領域E
901 Rotationチェックボタン
902 Beam Tiltチェックボタン
911 Aspect Ratio入力部
Claims (13)
- 試料に対して一次電子線を走査することにより前記試料のプリチャージを実行し、当該プリチャージが実行された試料上の領域に前記一次電子線を走査して得られる二次電子または反射電子を検出する走査電子顕微鏡において、
前記一次電子線を前記試料に対して走査し、かつ前記検出された二次電子または反射電子に基づく信号を出力する電子光学系と、
前記電子光学系を制御する制御部とを備え、
当該制御部は、前記プリチャージの実行時には、該プリチャージの実行領域に対して、入射角の異なる複数の方向から前記一次電子線が走査されるように前記電子光学系を制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記制御部は、前記一次電子線をXY平面内で二次元走査させ、
更に、当該二次元走査の走査領域を、前記プリチャージの実行領域の中心を回転中心とする平面内で回転させることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1または2のいずれか1項に記載の走査電子顕微鏡において、
前記プリチャージの実行時に行われる前記一次電子線の走査の向きが一定時間毎に変化することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記試料に対する前記一次電子線の入射角度または前記試料のアスペクト比を設定するGUIが表示される表示画面を備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 試料上の所定領域に対して一次電子線を走査することにより当該所定領域のプリチャージを実行し、当該プリチャージの実行領域に含まれる領域に対して前記一次電子線を走査して当該走査領域の画像を取得する走査電子顕微鏡において、
前記一次電子線を前記試料に対して走査する電子光学系と、
前記電子光学系を制御する制御部とを備え、
前記所定領域に対し当該所定領域を含むようなリング形状の走査領域を設定し、前記走査領域を変形しながら前記一次電子線を照射することにより、前記プリチャージを実行することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項5に記載の走査電子顕微鏡において、
前記リング形状の走査領域を帯電処理する時間を前記リング形状の走査領域の外径毎に設定可能なGUIが表示される表示画面を有することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項5に記載の走査電子顕微鏡において、
プリチャージ処理の条件設定をするGUIを有し、前記GUIは前記リング形状の走査領域を用いてプリチャージを行うモードの選択手段を有することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項5に記載の走査電子顕微鏡において、
前記制御部は、前記設定されたリング形状の走査領域に対して、スパイラル走査を実行するよう前記電子光学系を制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 試料に電子線を走査することによりプリチャージを実行し、前記プリチャージの実行領域に含まれる領域に対して前記電子線を走査して画像を取得する走査電子顕微鏡において、
前記電子線を前記試料に対して走査する電子光学系と、
前記電子光学系を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記電子線の走査ラインの中点が所定の円周に接しながら、前記走査ラインを回転させて走査するように制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 観察領域を含む領域をプリチャージ照射領域に設定するステップと、
観察領域の中心と同心の第一のリング状領域を複数の走査方向から走査を行う第一のプリチャージステップと、
前記第一のリング状領域と同心であって、前記第一のリング状領域とは異なる外径の第二のリング状領域を複数の走査方向から走査を行う第二のプリチャージステップと、
前記第一のプリチャージステップと前記第二のプリチャージステップを繰り返すことにより、プリチャージ処理が完了した前記観察領域を観察するステップとを有する試料観察方法。 - 試料に対して一次電子線を走査することにより前記試料のプリチャージを実行し、当該プリチャージが実行された試料上の領域に前記一次電子線を走査して得られる二次電子または反射電子を検出することで画像を取得する画像取得方法において、
前記プリチャージは、該プリチャージの実行領域に対して、入射角の異なる複数の方向から前記一次電子線が走査されることによって行われることを特徴とする画像取得方法。 - 試料上の所定領域に対して一次電子線を走査することにより当該所定領域のプリチャージを実行し、当該プリチャージの実行領域に含まれる領域に対して前記一次電子線を走査して当該走査領域の画像を取得する画像取得方法において、
前記プリチャージは、前記所定領域に対し当該所定領域を含むようなリング形状の走査領域を設定し、前記走査領域を変形しながら前記一次電子線を照射することにより行われることを特徴とする画像取得方法。 - 試料に電子線を走査することによりプリチャージを実行し、前記プリチャージの実行領域に含まれる領域に対して前記電子線を走査して画像を取得する画像取得方法において、
前記プリチャージは、前記電子線の走査ラインの中点が所定の円周に接しながら、前記走査ラインを回転させて走査するように行われることを特徴とする画像取得方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012513764A JP5386636B2 (ja) | 2010-05-06 | 2011-04-20 | 走査電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010106084 | 2010-05-06 | ||
JP2010106084 | 2010-05-06 | ||
JP2011002650 | 2011-01-11 | ||
JP2011002650 | 2011-01-11 | ||
JP2012513764A JP5386636B2 (ja) | 2010-05-06 | 2011-04-20 | 走査電子顕微鏡及び試料観察方法 |
PCT/JP2011/002300 WO2011138853A1 (ja) | 2010-05-06 | 2011-04-20 | 走査電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011138853A1 JPWO2011138853A1 (ja) | 2013-07-22 |
JP5386636B2 true JP5386636B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=44903709
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012513764A Expired - Fee Related JP5386636B2 (ja) | 2010-05-06 | 2011-04-20 | 走査電子顕微鏡及び試料観察方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8519334B2 (ja) |
JP (1) | JP5386636B2 (ja) |
KR (1) | KR101386290B1 (ja) |
WO (1) | WO2011138853A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5537288B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2014-07-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビームの照射方法及び走査電子顕微鏡 |
EP2707893B1 (en) * | 2011-05-13 | 2019-01-16 | Fibics Incorporated | Microscopy imaging method and system |
US8901492B1 (en) | 2013-07-16 | 2014-12-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Three-dimensional semiconductor image reconstruction apparatus and method |
US10541104B2 (en) * | 2015-07-09 | 2020-01-21 | Applied Materials Israel Ltd. | System and method for scanning an object with an electron beam using overlapping scans and electron beam counter-deflection |
WO2020016262A1 (en) | 2018-07-20 | 2020-01-23 | Asml Netherlands B.V. | System and method for bare wafer inspection |
JP2021005497A (ja) | 2019-06-26 | 2021-01-14 | キオクシア株式会社 | 電子顕微鏡およびビーム照射方法 |
JP7305585B2 (ja) * | 2020-03-16 | 2023-07-10 | キオクシア株式会社 | 検査装置 |
US11961693B2 (en) * | 2020-11-15 | 2024-04-16 | Elve Inc. | Magneto-electrostatic sensing, focusing, and steering of electron beams in vacuum electron devices |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10312765A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-11-24 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線を用いた試料の処理方法 |
WO2002001596A1 (en) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Ebara Corporation | Charged particle beam inspection apparatus and method for fabricating device using that inspection apparatus |
JP2007059370A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-03-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像形成方法、及び荷電粒子線装置 |
JP2008123716A (ja) * | 2006-11-08 | 2008-05-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 時定数測定機能を搭載した走査型電子顕微鏡 |
JP2009037804A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム照射装置 |
JP2009043936A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
JP2010025788A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Ebara Corp | 荷電粒子ビーム検査方法及び装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4093662B2 (ja) | 1999-01-04 | 2008-06-04 | 株式会社日立製作所 | 走査形電子顕微鏡 |
JP2009099540A (ja) | 2007-09-27 | 2009-05-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料の検査,測定方法、及び走査電子顕微鏡 |
-
2011
- 2011-04-20 JP JP2012513764A patent/JP5386636B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-04-20 KR KR1020127029072A patent/KR101386290B1/ko active IP Right Grant
- 2011-04-20 WO PCT/JP2011/002300 patent/WO2011138853A1/ja active Application Filing
- 2011-04-20 US US13/639,999 patent/US8519334B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10312765A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-11-24 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線を用いた試料の処理方法 |
WO2002001596A1 (en) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Ebara Corporation | Charged particle beam inspection apparatus and method for fabricating device using that inspection apparatus |
JP2007059370A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-03-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像形成方法、及び荷電粒子線装置 |
JP2008123716A (ja) * | 2006-11-08 | 2008-05-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 時定数測定機能を搭載した走査型電子顕微鏡 |
JP2009037804A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム照射装置 |
JP2009043936A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
JP2010025788A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Ebara Corp | 荷電粒子ビーム検査方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130018853A (ko) | 2013-02-25 |
KR101386290B1 (ko) | 2014-04-17 |
US20130037716A1 (en) | 2013-02-14 |
US8519334B2 (en) | 2013-08-27 |
JPWO2011138853A1 (ja) | 2013-07-22 |
WO2011138853A1 (ja) | 2011-11-10 |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20130605 |
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A975 | Report on accelerated examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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