JP5385348B2 - 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 - Google Patents
結晶材料の研磨方法及び研磨装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5385348B2 JP5385348B2 JP2011169475A JP2011169475A JP5385348B2 JP 5385348 B2 JP5385348 B2 JP 5385348B2 JP 2011169475 A JP2011169475 A JP 2011169475A JP 2011169475 A JP2011169475 A JP 2011169475A JP 5385348 B2 JP5385348 B2 JP 5385348B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- crystal material
- single crystal
- temperature
- phase transition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Description
102,202,302 回転ステージ
103,203,303 回転軸
104,204,303 研磨治具
105,205,305 研磨対象
206,306 駆動軸
207 赤外線ランプ
307 抵抗ヒータ
Claims (7)
- 結晶の構造相転移を有する単結晶材料を研磨する結晶材料の研磨方法であって、
前記単結晶材料を用いて作製した素子の使用温度領域が前記単結晶材料の相転移温度より高く、前記素子を作製する温度領域が前記単結晶材料の相転移温度より低い場合に、前記単結晶材料を前記使用温度領域に設定し、前記使用温度領域において前記単結晶材料が発現する結晶構造と同一の結晶構造を発現した状態で、前記単結晶材料の表面の研磨を行うことを特徴とする結晶材料の研磨方法。 - 前記単結晶材料を固定する治具と前記単結晶材料を研磨する研磨盤を固定する治具の少なくとも一方の温度を調整し、前記単結晶材料を前記使用温度領域に設定し、前記単結晶材料が発現する結晶構造と同一の結晶構造を発現した状態を維持することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記単結晶材料は、ペロブスカイト型結晶構造を有することを特徴とする請求項1または2に記載の研磨方法。
- 前記単結晶材料が発現する結晶構造は、立方晶であることを特徴とする請求項3に記載の研磨方法。
- 前記単結晶材料は、タンタル酸ニオブ酸カリウムを主成分とする結晶材料であることを特徴とする請求項3または4に記載の研磨方法。
- 結晶の構造相転移を有する単結晶材料を研磨するための研磨装置であって、
前記単結晶材料を固定する治具と前記単結晶材料を研磨する研磨盤を固定する治具の少なくとも一方の温度を調整する温度調整手段を備え、
前記単結晶材料を用いて作製した素子の使用温度領域が前記単結晶材料の相転移温度より高く、前記素子を作製する温度領域が前記単結晶材料の相転移温度より低い場合に、前記温度調整手段は、少なくとも一方の治具の温度を前記使用温度領域に調整して、前記単結晶材料を前記使用温度領域に設定し、前記使用温度領域において前記単結晶材料が発現する結晶構造と同一の結晶構造を発現した状態を維持することを特徴とする研磨装置。 - 前記研磨盤と前記研磨盤を固定する治具との間に、前記研磨盤より熱膨張係数の小さい基体を配置することを特徴とする請求項6に記載の研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011169475A JP5385348B2 (ja) | 2011-08-02 | 2011-08-02 | 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011169475A JP5385348B2 (ja) | 2011-08-02 | 2011-08-02 | 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007299783A Division JP2009125820A (ja) | 2007-11-19 | 2007-11-19 | 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011240485A JP2011240485A (ja) | 2011-12-01 |
JP5385348B2 true JP5385348B2 (ja) | 2014-01-08 |
Family
ID=45407666
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011169475A Expired - Fee Related JP5385348B2 (ja) | 2011-08-02 | 2011-08-02 | 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5385348B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63278219A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-15 | Sharp Corp | ワイドバンドギャップ半導体の形成方法 |
JPH02279273A (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-15 | Citizen Watch Co Ltd | 研磨装置および研磨方法 |
JP3623781B2 (ja) * | 2001-05-14 | 2005-02-23 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路及びその製造方法 |
JP2005081485A (ja) * | 2003-09-08 | 2005-03-31 | Tube Systems:Kk | 高温メカノケミカル研磨方法と装置 |
DE102004040429B4 (de) * | 2004-08-20 | 2009-12-17 | Peter Wolters Gmbh | Doppelseiten-Poliermaschine |
JP4579762B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2010-11-10 | 日本電信電話株式会社 | 光デバイス |
JP2007136560A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Hamai Co Ltd | 平面研磨装置 |
-
2011
- 2011-08-02 JP JP2011169475A patent/JP5385348B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011240485A (ja) | 2011-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9880443B2 (en) | Electro-optic beam deflector device having adjustable in-plane beam control | |
JP4825847B2 (ja) | 光学素子およびその製造方法 | |
US7570320B1 (en) | Thermo-optic liquid crystal waveguides | |
CN102224444B (zh) | 光调制器 | |
JP2005526991A (ja) | 電気光学セラミック材料および素子 | |
Ye et al. | Liquid crystal lens with focus movable in focal plane | |
CN102483555A (zh) | 光学元件的制造方法 | |
Tian et al. | Effects of Growth Temperature on Crystal Morphology and Size Uniformity in KTa1–x Nb x O3 and K1–y Na y NbO3 Single Crystals | |
JP3848093B2 (ja) | 光導波路素子、光波長変換素子および光導波路素子の製造方法 | |
JP2014089340A (ja) | 電気光学素子、および電気光学素子の製造方法 | |
JP5385348B2 (ja) | 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 | |
JPS61252532A (ja) | 強誘電性スメクチック液晶電気光学装置の製造方法 | |
JP2009125820A (ja) | 結晶材料の研磨方法及び研磨装置 | |
CN100439953C (zh) | 光波导路装置和使用它的相干光源及光学装置 | |
Kumaragurubaran et al. | Growth of 4-in diameter near-stoichiometric lithium tantalate single crystals | |
Shinozaki et al. | Self-organized homo-epitaxial growth in nonlinear optical BaAlBO3F2 crystal crossing lines patterned by laser in glass | |
JP2002072266A (ja) | タンタル酸リチウム単結晶の強誘電分極反転を利用した光機能素子 | |
JP2015210492A (ja) | 波長変換素子 | |
JP2009092712A (ja) | 光機能素子の製造方法及びタンタル酸リチウム単結晶の製造方法 | |
CN1916673B (zh) | 光学元件 | |
Mishra et al. | Modelling domain switching of ferroelectric BaTiO3 integrated in silicon photonic waveguides | |
KR20080041398A (ko) | 파장변환 장치 및 그 제작 방법 | |
CN100399058C (zh) | 光学材料、光学透镜及棱镜 | |
JPH05158079A (ja) | 光偏向素子 | |
US20080284973A1 (en) | Layer alignment of smectic liquid crystals |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130502 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131001 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131003 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5385348 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |