JP5377128B2 - 光電変換装置および光電変換装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は色素増感型太陽電池等の光電変換装置およびその製造方法に関するものである。

太陽電池には、バルク型結晶系のシリコン太陽電池、非晶質のシリコン薄膜を用いてなる薄膜型アモルファスシリコン系太陽電池等の様々な形態がある。また、シリコン原料の削減を目的とし、このようなシリコンを利用しない次世代太陽電池として、色素増感型太陽電池が注目されている。

このような色素増感型太陽電池としては、増感色素が坦持された第１の電極と、該第１の半導体電極と対向するように配置された第２の電極と、この一対の電極間に注入された電解質と、を備えている。この電解質は、外部に漏れないように、電解質室に収納されている。電解質室に電解質を注入するためには、電解質の注入孔を電解質室の一部に形成する必要があった。そこで、この注入孔から電解質が外部へ漏れるのを防止すべく、封止部等によって電解質室を外部から封止していた。このような封止部は、外部への漏れを十分に抑制すべく、第１封止部と該第１封止部を覆うように設けられた第２封止部のように、二重封止されているものがあった（例えば、特許文献１参照）。

特開２００４−１１９１４９号公報

しかしながら、特許文献１に開示された色素増感型太陽電池は、第１封止部および第２封止部から成る接合材が外部から応力を受けると、接合材が変形することにより応力が発生する。

このような外部からの応力は、接合材の破壊、接合材接着部位の剥がれ等の不具合を発生させ、その結果、光電変換装置の信頼性を低下させてしまう問題があった。

本発明は、上記従来の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、長期間、気密性および接合信頼性を維持することが可能な信頼性の高い光電変換装置を得ることである。

本発明の光電変換装置に係る一実施形態は、収容部を有するとともに該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体と、前記収容部に収容された光電変換体と、前記孔部の開口を覆うように、前記基体に接合材を介して接合された蓋体と、を備え、前記接合材の断面において、前記接合材は、前記孔部側の端部およびその反対側の端部よりも中央部が薄くなっていることを特徴とする。

本発明の光電変換装置において好ましくは、前記孔部を塞ぐ封孔部材をさらに具備することを特徴とする。

本発明の光電変換装置において好ましくは、前記接合材は、前記封孔部材と離間して前記基体に接合されていることを特徴とする。

本発明の光電変換装置において好ましくは、前記蓋体は、前記封孔部材と接触していることを特徴とする。

本発明の光電変換装置において好ましくは、前記蓋体は、前記封孔部材と空隙を介して離間していることを特徴とする。

本発明の光電変換装置において好ましくは、前記接合材はガラスから成ることを特徴とする。

本発明の光電変換装置の製造方法に係る一実施形態は、光電変換体の収容部を有するとともに該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体を準備する工程と、前記基体上に接合材を介して蓋体を、前記孔部の開口を覆うように載置する工程と、前記接合材を、その中央部が側面側の部位よりも高温となるように熔融させて前記蓋体と前記基板とを貼り合わせる工程と、前記接合材を冷却し、前記中央部を前記側面側の部位よりも大きく収縮させて前記接合材の中央部を薄くする工程と、を含むことを特徴とする。

本発明の光電変換装置の製造方法に係る他の実施形態は、光電変換体の収容部を有するとともに該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体を準備する工程と、前記基体上に接合材を介して蓋体を、前記孔部の開口を覆うように載置する工程と、前記接合材を熔融させて前記蓋体と前記基板とを貼り合わせる際、前記接合材の中央部に気泡を発生させるか、または、気泡を大きくする工程と、前記接合材を冷却し、前記気泡を収縮させて前記接合材の中央部を薄くする段階と、を含むことを特徴とする。

本発明によれば、長期間、気密性および接合信頼性を維持することが可能な信頼性の高い光電変換装置を得ること。

本発明に係る光電変換装置の第１の実施の形態を示す断面図である。 本発明に係る光電変換装置の第２の実施の形態を示す断面図である。 本発明に係る光電変換装置の第３の実施の形態を示す断面図である。 本発明に係る光電変換装置の第４の実施の形態を示す断面図である。

本発明の光電変換装置は、収容部を有する基体を具備する。基体は、例えば、一対の基板を対向させ、枠状の封止材でこれらを接合することにより、一対の基板と封止材で形成された収容部を有するものとなる。これに限らず、凹部を有する基板に蓋を接合したものでもよい。

収容部には光電変換体が収容される。光電変換体は、光を受光して電気を生じるものも含まれ、導電させることにより光を生じるものも含まれる。光電変換体は、例えば、チップ状や層状等の種々の形状の半導体素子が含まれる。また、光電変換体は、電解質と色素が吸着された半導体とを具備する色素増感型光電変換体も含まれる。

基体は、収容部と基体の外部とを連通する孔部を有する。孔部は、光電変換体の一部としての電解質や、光電変換体を封止するための絶縁材料等を、収容部内に注入するための注入孔でもよい。また、孔部は、収容部内の気体を排出するための排出孔でもよい。

以下に、本発明の光電変換装置に係る実施の形態について模式的に示した図面を参照しながら詳細に説明する。

図１は、本発明の光電変換装置に係る第１の実施形態を示した断面図である。光電変換装置Ｘは、一主面同士が対向するように配置された一対の基板（以下、第１の基板１、第２の基板２とする）と、第１の基板１および第２の基板２の一主面にそれぞれ第１の電極３および第２の電極４が形成されている。また、光電変換装置Ｘは、第１の基板１と第２の基板２の一主面間における間隙内に電解質５が配されている。言い換えれば、電解質５は、第１の電極３と第２の電極４との間に挟まれるように配されている。この電解質５は、外部への漏れを防止すべく、周囲が封止材６で覆われている。また、第１の電極３上には、色素が坦持された半導体層７が形成されている。

また、第２の基板２および第２の電極４には、外部から電解質５を注入するため等に用いる孔部８が形成されている。そして、光電変換装置Ｘは、電解質５が外部に漏れるのを防止すべく、第２の基板２の他主面側に、蓋体１０が接合材１２を介して接合されている。そして、第２の基板２と蓋体１０の対向面に直交するとともに接合材１２の孔部８側の側面およびその反対側の側面を横切る接合材１２の断面において、接合材１２の中央部が薄くなっている。すなわち、孔部８を取り囲むように接合材１２は枠状に形成されており、その枠状の接合材１２の内周側および外周側の部位の厚みに比べて、中央部が薄く形成されている。そのため、接合材１２による気密封止を確保しながら、接合材１２の形状により蓋体１０に応力を加え、蓋体１０との接合部分を対向する第２の基板２側に凸となるように変形させている。このようにすることで、蓋体１０の孔部８に対応する部位、すなわち、蓋体１０の接合材１２より内側の部位が、光電変換装置Ｘの外側（孔部８とは反対側）に凸となるように変形し、光電変換装置Ｘの外部からの応力に強い形状とすることができる。

以下に、上述した本発明の実施の形態に係る光電変換装置を構成する部材の詳細を示す。

＜第１および第２の基板＞
第１の基板１は、一主面上で第１の電極３、および該第１の電極３上に配置された半導体層７を支持するものである。また、第１の基板１は、主として光が入射される側に設けられるため、透光性を有している。

この第１の基板１の材質としては、例えば、可視光に対して透光性を有する青板ガラス、白板ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料、またはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の樹脂材料が挙げられる。

第２の基板２は、一主面上で第２の電極４を支持するものである。この第２の基板２は、第１の基板１と同様に透光性を有する材質で構成されていれば、光の入射面（受光面）をより拡大し、光電変換効率を高めることができる。また、この第２の基板２は、光の入射側に位置していなくとも良いため、透光性が小さいものであってもよい。このような透光性が小さい材質としては、例えば、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、タングステン、ステンレスまたはアルミニウム合金等の金属材料が挙げられる。このような導電性を有する金属材料であれば、第１の基板１自体が電極として作用するため、第２の電極４は不要となり、部品点数を低減できる。また、第２の基板２は、電解質５に対する耐食性を向上させるという観点から、チタン、ニッケル、タングステンで構成すると好適である。

また、第２の基板２には、電解質５を外部から注入するため等に用いる孔部８が形成されている。この孔部８は、電解質５を第１および第２の基板の間に注入できる大きさであれば、形状等は特に限定されるものではなく、例えば、横断面形状が円形状、楕円形、または四角形等の多角形等であってもよい。孔部８の大きさとしては、例えば、横断面形状が円形状であれば、直径が０．１〜３ｍｍ程度がよい。また、本実施の形態では、孔部８が１つしか設けられていないが、複数個あってもよい。さらに、本実施の形態では、第２の基板２に孔部８が設けられているが、第１の基板１のみに設けてもよく、また、第１および第２の基板それぞれに設けてもよい。なお、孔部８は、電解質５を注入するだけでなく、電解質５の排出、色素溶液の注入および排出等にも使用可能である。

＜第１および第２の電極＞
第１の電極３は、半導体層７で発電された電流を取りだす機能を有し、第１の基板１の一主面に設けられている。この第１の電極３は、第１の基板１の他主面側から光が入射されるため、可視光に対して透光性を有するほうが好ましい。

第１の電極３の材質としては、例えば、ＩＴＯ（錫ドープインジウム酸化物：酸化インジウム錫）層、ＦＴＯ（フッ素ドープ錫酸化物）層、または酸化錫層で形成される。また、第１の電極３の厚みは、製造の簡易さ、および適度なシート抵抗とするという観点から、０．３〜２μｍ程度がよい。このような第１の電極３は、例えば、ＣＶＤ法、スパッタリング法、スプレー法等によって層状に形成される。

第２の電極４は、電解質５に電荷を渡すためのものであり、第２の基板２の一主面に設けられている。この第２の電極４の材質としては、第２の基板４も受光部として利用するのであれば、第１の電極３と同じ材料、即ち、上述した透光性を有する材料を用いればよい。一方、第２の基板４から光を受光しないのであれば、第２の電極４は、透光性材料で
構成しなくてもよく、例えば、チタン、ニッケル、またはタングステン等の金属材料で構成してもよい。

また、第２の電極４は、電解質５との接触面にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｉｒ等や、カーボン、ＰＥＤＯＴ：ＴｓＯ（ポリエチレンジオキシチオフェン−トルエンスルフォネート）等から成る図示していない触媒層を形成すれば、電解質５への電荷移動を効率良く行うことができる。

＜電解質＞
電解質５は、第２の電極４から受けとった電荷を半導体層７に坦持された色素に渡す機能を有している。この電解質５は、孔部８から注入できる状態のものであればよく、例えば、液状（電解液）、ゲル状等を用いることができ、注入後に固体になるようなものであってもよい。

電解質５は、電解液の場合、例えば、ヨウ素／ヨウ化物塩、臭素／臭化物塩、コバルト錯体、フェロシアン化カリウム等が挙げられる。なお、「ヨウ素／ヨウ化物塩」という表記は、電解質の化学反応によってヨウ素とヨウ化物塩の含有率が変化するものであることを意味する。また、電解質５は、注入時に液状またはゲル状であり、注入後に固体となるものの場合、ゲル電解質、ポリマー電解質等の固体電解質、ポリチオフェン・ポリピロール、ポリフェニレンビニレン等の導電性ポリマー、またはフラーレン誘導体、ペンタセン誘導体、ペリレン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の有機分子電子輸送剤等が挙げられる。また、電解質５の厚み、即ち、第１の基板１の一主面と第２の基板の一主面との間の距離は、１〜５００μｍ程度がよい。

＜封止部材＞
封止部材６は、第１の基板１と第２の基板２との間に電解質５を閉じ込めるべく、電解質５の周囲に配され、電解質５の外部への漏れを低減するための部材である。この封止部材６は、例えば、ガラスフリットのようなガラス材料、ポリエチレン、変性ポリエチレン、マレイン酸変性ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、マレイン酸変性ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、またはアクリレート樹脂等の樹脂材料が挙げられる。また、封止部材６を樹脂材料で構成する場合は、電解質５と接触する部位に、上述した有機材料を配し、該有機材料の外周部をさらにガラス材料で覆うような構成であれば、より気密性および機械的強度を高めることができる。

第１の実施形態においては、この封止部材６と第１の基板１と第２の基板２とで、収容部を有する基体２０を構成している。

＜半導体層＞
半導体層７は、色素を気孔内に担持する機能を有する多孔質体で構成されている。このように多孔質の半導体層７は、表面積が大きく、色素をより多く担持（吸着）させることができるため、効率良く光を吸収して光電変換効率向上に寄与する。

このような多孔質の半導体層７の材料としては、例えば、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）、インジウム（Ｉｎ）、イットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、タンタル（Ｔａ）、ハフニウム（Ｈｆ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、カルシウム（Ｃａ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）等の金属の少なくとも１種の金属酸化物半導体がよく、また窒素（Ｎ）、炭素（Ｃ）、弗素（Ｆ）、硫黄（Ｓ）、塩素（Ｃｌ）、リン（Ｐ）等の非金属元素の１種以上を含有していてもよい。特に、酸化チタンは、電子エネルギーバンドギャップが可視光のエネルギーより大きい２〜５ｅＶの範囲にあり、好ましい。また、多孔質の半導体層は、電子エネルギー準位においてその伝導帯が色素の伝導帯よりも低いｎ型半導体がよい。

また、半導体層７は、多孔質体であるため、内部に微細な空孔（空孔径が好ましくは１
０〜４０ｎｍ程度のもの）を多数有している。また、半導体層７の厚みは、光電変換作用を最適化するという観点から、１〜５０μｍがよく、より好適には１０〜３０μｍがよい。また、半導体層７と第１の電極３との間に、ｎ型酸化物半導体の極薄（厚み２００ｎｍ程度）の緻密層を挿入するとよく、逆電流を抑制する効果がある。

色素は、例えば、ルテニウム−トリス、ルテニウム−ビス、オスミウム−トリス、オスミウム−ビス型の遷移金属錯体、多核錯体、またはルテニウム−シス−ジアクア−ビピリジル錯体、またはフタロシアニンやポルフィリン、多環芳香族化合物、ローダミンＢ等のキサンテン系のものを用いること色素が好ましい。

多孔質の半導体層７に色素を吸着させるためには、色素に少なくとも１個以上のカルボキシル基、スルホニル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アリール基、ホスホリル基等を置換基として有することが有効である。ここで、置換基は色素自体を多孔質の半導体層７に強固に化学吸着させることができ、励起状態の増感色素から多孔質の半導体層７へ容易に電荷移動できるものであればよい。

半導体層７に色素を吸着させる方法としては、例えば、第１の基板１上に形成された半導体層７を、色素を溶解した溶液に浸漬する方法が挙げられる。半導体層７に色素を吸着させる際、色素を溶解させる溶液の溶媒としては、例えば、エタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等の窒素化合物等を１種または２種以上混合したものが挙げられる。溶液中の色素の濃度は５×１０^−５〜２×１０^−３ｍｏｌ／ｌ（ｌ（リットル）：１０００ｃｍ^３）程度が好ましい。

第１の実施形態においては、色素が吸着された半導体層７と電解質５とで光電変換体２１を構成している。

＜蓋体＞
蓋体１０は、孔部８の開口を覆うことにより、電解質５の外部への漏れあるいは外部からの酸素、水分の浸入をより低減するための部材である。この蓋体１０は、接合材１２を介して第２の基板２の外表面に接合されている。蓋体１０は、電解質５や酸素、水分を透過し難い材質のもがよく、特に無機材料が好ましい。このような無機材料としては、例えば、青板ガラス、白板ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、タングステン、ステンレスまたはアルミニウム合金等の金属材料が挙げられる。

＜接合材＞
接合材１２は、孔部８を取り囲むようにして第２の基板２の外表面に接合されている。そして、接合材１２は、接合材１２中において、孔部側１２ａおよび外側１２ｃと比べ、中央部１２ｂが薄く形成されている。このようにすることで、蓋体１０に応力を加えることができる。このとき、応力の加わる方向が、蓋体１０の接合材１２との接合部が接合材１２側へ引っ張られる方向となる。その結果、蓋体１０の孔部８に対応する部位（蓋体１０の接合材１２より内側の部位）を、孔部８とは反対側（光電変換装置Ｘの外側）に押し出すような応力が生じる。よって、光電変換装置Ｘに外部から応力が加わった場合、これに対抗する方向へ応力を加えられていることとなり、外部からの応力による蓋体１０の変形を抑制するこができる。

このような中央部１２ｂが薄い接合材１２は、例えば、蓋体１０と第２の基板２とを接合する際、接合材１２を、その中央部１２ｂが側面側（孔部８側およびその反対側）の部位１２ａ，１２ｃよりも高温となるように熔融させた後、接合材１２を冷却し、接合材１２の中央部１２ｂを側面側の部位１２ａ，１２ｃよりも大きく収縮させることによって、接合材１２の中央部１２ｂを薄くさせることができる。つまり、接合材１２がより高温となっている状態から冷却した場合の方が、収縮率が大きくなるため、冷却後の接合材１２は高温となっていた部位が薄くなる。

接合材１２の中央部１２ｂを高温とする方法は、例えば、ビームパターン中央部で強度の大きいレーザー光を、接合材１２に照射することにより、側面側の部位１２ａ，１２ｃと中央部１２ｂとに温度差を生じさせることができる。

また、レーザー光のビームパターンが例えば円形であれば、レーザーを走査させることによって接合材１２の側面側部位１２ａ，１２ｃは中央部１２ｂより僅かに早くレーザー照射が終了し、固化する。その後中央部１２ｂが固化・収縮する際には、側面側部位１２ａ、１２ｃは既に固化し、収縮に追随できないため、中央部１２ｂの収縮は側面側部位１２ａ、１２ｃよりも薄く形成できる。

また、中央部１２ｂが薄い接合材１２は、接合材１２を熔融させて蓋体１０と第２の基板２とを接合する際、接合材１２の中央部１２ｂに気泡を発生させるか、または、中央部１２ｂの気泡を大きくした後、接合材１２を冷却し、上記の気泡を収縮させて接合材１２の中央部１２ｂを薄くさせることができる。つまり、気泡を構成する気体は冷却時の収縮率が大きいため、接合材１２の熔融時において中央部１２ｂの気泡の占有体積を側面側の部位１２ａ，１２ｃよりも大きくしておけば、接合材１２を冷却した際、気泡で占有されていた部位が大きく収縮することとなる。

このように接合材１２の中央部１２ｂに気泡を発生させるか、または、中央部１２ｂの気泡を大きくするための方法としては、接合材１２中に気体や水分を含ませておき、蓋体１０と第２の基板２とを接合材１２を介して接合する際、接合材１２の中央部１２ｂをレーザー照射等で局所的に加熱することにより、含ませておいた気体や水分を気泡として成長させることができる。また、接合材１２中に加熱によりガスを生じる物質を含ませておいてもよい。

接合材１２は、スクリーン印刷法またはディスペンス法によって、蓋体１０または第２の基板２上に形成されることが好ましい。スクリーン印刷法やディスペンス法で接合材１２を塗布する際、空気が接合材１２中に混入されやすくなる。その結果、接合材、混入した空気を膨張させることによって、気泡を良好かつ容易に生じさせることができる。

接合材１２の材質としては、蓋体１０と第２の基板２とを接合できるものであればどのような材料でもよいが、好ましくはガラスから成るのがよい。接合材１０がガラスから成る場合、緻密な材料であるため気密封止を良好にすることができる。また、接合材１２は、蓋体１０と第２の基板２との接合時にレーザで局所的に加熱されることが好ましい。これにより、電解質５へ熱が伝達されるのを有効に抑制できる。このようなレーザで加熱可能な接合材１２の材質としては、レーザ吸収成分とガラス成分を含むガラスフリットであることが好ましい。このレーザ吸収成分は、レーザ光を選択的に吸収し、そのエネルギーを熱に変換することでガラスフリットを効率よく熔融し、焼結させる役割を担う。このレーザ吸収成分は、ガラスフリットを成すマトリックスの一部として熔融されていることが好ましいが、マトリックス中に偏析していてもよい。また、ガラスフリットの熱膨張係数は、第２の基板２の熱膨張係数と近くなるようにすれば、クラック等の不具合の発生を低減することができる。ガラスフリットを成すガラス成分としては、例えば、ＳｉＯ_２−Ｂｉ_２Ｏ_３−ＭＯ_Ｘ系、Ｂ_２Ｏ_３−Ｂｉ_２Ｏ_３−ＭＯ_Ｘ系、ＳｉＯ_２−ＣａＯ−Ｎａ（Ｋ）_２Ｏ−ＭＯ_Ｘ系、Ｐ_２Ｏ_５−ＭｇＯ−ＭＯ_Ｘ系（Ｍは一種以上の金属元素で、Ｘは整数である。）などが挙げられる。また、レーザ吸収成分としては、例えば、クロム、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、銅、または炭素の単体または酸化物、もしくはこれら２種以上の化合物が挙げられる。また、第２の基板２を、ガラスを含む材料で構成すれば、接合材１２と第２の基板２とをレーザ溶着等で容易に接合できる。

このようなガラスフリットを含んでなる接合材１２は、第２の基板２上にガラスフリットを配置した後、例えば、ＹＡＧレーザをガラスフリットに照射し、当該ガラスフリットを熔融させて第２の基板２と接合することによって形成される。なお、接合材１２の形状は、少なくとも孔部８の開口を囲うものであればよく、平面視して、円形、多角形等、特に限定されるものではない。但し、接合材１２の上面は、蓋体１０が接合されるため、平面状が好ましい。

また、蓋体１０の接合方法としては、接合材１２を蓋体１０に形成した後、レーザ加熱により第２の基板２に接合してもよいし、接合材１２を第２の基板２に形成した後、レーザ加熱により蓋体１０を接合してもよい。

なお、上述した例では、接合材１２自体をレーザ加熱で熔融させることによって、保護部材１０を第２の基板２に接合しているが、それに限定されない。例えば、接合材１２を、軟化点の異なる部材で構成し、レーザ加熱で軟化点の低い部材のみを熔融させることによって蓋体１０を第２の基板２に接合してもよい。

＜封孔部材＞
孔部８には孔部８を塞ぐ封孔部材９が形成されていてもよい。封孔部材９は、第１および第２の基板の間に封入された電解質５が外部に漏れるのを防ぐための部材である。この封孔部材９は、孔部８を塞ぐように、第２の基板２の他主面と接着される。

封孔部材９は、電解質５に対する耐食性が高い樹脂材料を含んでいる。このような樹脂材料としては、例えば、フィルム形状のポリエチレン、変性ポリエチレン、マレイン酸変性ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、マレイン酸変性ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、およびフッ素樹脂あるいは液体状のブチル樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂等が挙げられる。また、これらの樹脂材料は、機械的強度を高めるという観点から、必要に応じてフィラー等を含有させてもよい。

封孔部材９は、有機材料、無機材料およびこれらの複合材料のいずれでもよいが、孔部８を容易に塞ぐという観点からは、有機材料であるのが好ましい。特に、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂であれば、孔部８をより容易に塞ぐことができる。すなわち、封孔部材９を、孔部８を簡易的な方法で塞いで電解質５の漏れを防ぐための仮止めとして機能させ、保護部材１０で強固な封止を行なうことにより、作業性が良いとともに封止の信頼性をも高めることができる。

また、接合材１２は、封孔部材９から、所定の距離だけ離れて形成されていることが好ましい。このような構成により、接合材１２を第２の基板２と熱を使った溶着等で接合しても、当該熱が封孔部材９に伝わりにくい。その結果、このような形態では、封孔部材９の熱劣化を低減することができる。加えて、上述した熱が封孔部材９を介して電解質５に伝わるのを低減できるため、当該熱による電解質５の分解・変質等を低減することができる。

なお、封孔部材９と接合材１２との間隙には、封孔部材９および接合材１２よりも熱伝導率が小さい部材を充填させても、上述した効果を得ることができる。しかしながら、本実施の形態のように、接合材１２と封孔部材９とを空隙を介して離間させれば、空気等の熱伝導率が小さい気体を接合材１２と封孔部材９の間に介在させることができるため、接合材１２から封孔部材９への熱伝導をより低減することができる。

また、光電変換装置Ｘでは、蓋体１０が封孔部材９と接触している。このような形態によれば、封孔部材９に残留している熱を蓋体１０に伝導させることができるため、封孔部材９の放熱性を高めることができる。このような放熱性を高めるという観点では、蓋体１０を熱伝導率が比較的高い金属材料で構成すると好適である。加えて、このような形態によれば、高温の環境下において、電解質５が膨張しても、封孔部材９を蓋体１０で直に抑えているため、封孔部材９の第２の基板２からの剥がれを低減できる。

次に、本発明の他の実施の形態について説明する。

図２は、本発明の光電変換装置に係る第２の実施形態を示した断面図である。光電変換装置Ｘ’は、蓋体１０が封孔部材９と離間している点で光電変換装置Ｘと相違する。

光電変換装置Ｘ’では、蓋体１０を封孔部材９と空隙を介して離間させれば、接合材１２から蓋体１０を介して伝導する熱が封孔部材９に伝わりにくくなるため、封孔部材９の熱劣化を低減することができる。

図３は、本発明の光電変換装置に係る第３の実施形態を示した断面図である。光電変換装置Ｘ’’は、封孔部材９が孔部８の内壁で支持されるように形成された点で光電変換装置Ｘと相違する。

光電変換装置Ｘ’’のように、封孔部材９が孔部８の内壁で支持されるようにすれば、封孔部材９の第２の基板２の他主面側へのはみ出しを低減することができる。その結果、接合材１２の厚みは、第２の基板２の他主面側へはみ出した封孔部材９の厚みの影響を受けにくくなり、接合材１２の形状自由度が増す。接合材１２の形状自由度が増せば、強度、形成しやすさのみで接合材１２を設計することができる。

図４は、本発明の光電変換装置に係る第４の実施形態を示した断面図である。光電変換装置Ｘ’’’は、封孔部材９が孔部８の内壁と第２の基板２の他主面とで接着されている点で、光電変換装置Ｘ，Ｘ’，Ｘ’’と相違する。

光電変換装置Ｘ’’’のように、封孔部材９が孔部８の内壁と第２の基板２の他主面とで接着されれば、封孔部材９は接着面積増加による接着強度が増し、特に電解質５側への引っ張り応力に対する強度を増すことができる。

なお、図４では封孔部材９と蓋体１０は離間しているが、このような形態に限定するものではない。図４の構成で封孔部材９と蓋体１０を接触させると、封孔部材９の強度を蓋体１０で補強できる、もしくは、蓋体１０の強度を封孔部材９で補強することができる。

Ｘ、Ｘ’、Ｘ’’、Ｘ’’’：光電変換装置
１：第１の基板
２：第２の基板
３：第１の電極
４：第２の電極
５：電解質
６：封止部材
７：半導体層
８：孔部
９：封孔部材
１０：蓋体
１２：接合材
１２ａ：接合材の孔部側部（内周部）
１２ｂ：接合材の中央部
１２ｃ：接合材の外側部（外周部）
２０：基体
２１：光電変換体

Claims (8)

1. 収容部を有するとともに該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体と、
   前記収容部に収容された光電変換体と、
   前記孔部の開口を覆うように、前記基体に接合材を介して接合された蓋体と、を備え、
   前記接合材の断面において、前記接合材は、前記孔部側の端部およびその反対側の端部よりも中央部が薄くなっていることを特徴とする光電変換装置。
2. 前記孔部を塞ぐ封孔部材をさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
3. 前記接合材は、前記封孔部材と離間して前記基体に接合されていることを特徴とする請求項２に記載の光電変換装置。
4. 前記蓋体は、前記封孔部材と接触していることを特徴とする請求項２または３に記載の光電変換装置。
5. 前記蓋体は、前記封孔部材と空隙を介して離間していることを特徴とする請求項２または３に記載の光電変換装置。
6. 前記接合材はガラスから成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の光電変換装置。
7. 光電変換体の収容部を有するとともに該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体を準備する工程と、
   前記基体上に接合材を介して蓋体を、前記孔部の開口を覆うように載置する工程と、
   前記接合材を、その中央部が側面側の部位よりも高温となるように熔融させて前記蓋体と前記基板とを貼り合わせる工程と、
   前記接合材を冷却し、前記中央部を前記側面側の部位よりも大きく収縮させて前記接合材の中央部を薄くする工程と、を含むことを特徴とする光電変換装置の製造方法。
8. 光電変換体の収容部を有するとともに該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体を準備する工程と、
   前記基体上に接合材を介して蓋体を、前記孔部の開口を覆うように載置する工程と、
   前記接合材を熔融させて前記蓋体と前記基板とを貼り合わせる際、前記接合材の中央部に気泡を発生させるか、または、気泡を大きくする工程と、
   前記接合材を冷却し、前記気泡を収縮させて前記接合材の中央部を薄くする段階と、を含むことを特徴とする接合構造の製造方法。

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