JP5370354B2 - 偏光板、偏光板保護フィルムの製造方法および液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明の目的は、偏光板および液晶表示装置に関し、特に高温高湿環境下においても硬度むらと平面性の発生を抑制し、光漏れや色むらに優れる偏光板、およびこの偏光板を有する液晶表示装置に関する。

近年、液晶表示装置はその普及に伴い、さらなる薄型化、大型化、また高性能化がすすみ、それに伴って、保護フィルムであるセルロースエステルフィルムにおいても、高い性能が求められている。

特に液晶表示装置の大型化に伴い、従来では問題とされなかった程度の色むらや光漏れという問題が顕在化し、これらの問題への対処が求められており、セルロースエステルフィルムの物性を調整することでこれらの特性を向上させる手段が模索されている。

特許文献１では、光漏れという問題がセルロースエステルフィルムの音速と関連することに着目し、セルロースエステルフィルムの溶液流延製膜時における残留溶媒量とフィルム乾燥温度により音速を調整し、その結果光漏れを抑え、液晶表示装置の表示品位を改善するという技術を提案している。

しかし、溶液流延製膜法の音速調整技術では、最終的なフィルム中の残留溶媒が紫外線吸収剤等の添加剤の移動を生じさせることでフィルム内部の均質性を損なわせ、結果セルロースエステルフィルムを偏光板化した場合に、低高湿の繰り返しによるカール（湿度カール）の発生や、液晶表示装置の色むらを誘発させてしまうことが判明した。

一方、残留溶媒を削減する方法としては溶融流延製膜法が知られており（特許文献２）、特許文献３にはこの方法を用いて、セルロースエステルフィルムの湿度カールを改良する技術が開示されている。

特に特許文献３では、弾性率が１．５〜２．９５ｋＮ／ｍ²であることが必要とされることが記載されている。

しかしながら、本発明者らの検討によれば、この偏光板の場合、低湿高湿の繰り返しだけでなく、今後期待される、四季を通した屋外での用途に求められる高温高湿環境下では、偏光板の硬度と平面性が大きく劣化してしまい、液晶の光漏れを誘発することが判明した。
特開２００５−１７５７４号公報 特開２０００−３５２６２０号公報 特開２００７−２２１６号公報

本発明は、高温高湿環境下で硬度むらと平面性の発生を抑制し、光漏れや色むらに優れる偏光板、およびこの偏光板を有する液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。

１．偏光子と、この偏光子を挟む２枚の偏光板保護フィルム１および２とからなる偏光板において、前記偏光板保護フィルム１は、下記式（Ａ１）および（Ａ２）を同時に満足し、含有溶媒量が０．０１質量％以下であり、１００℃における製膜方向または幅手方向の少なくとも一方の音速が１．６〜２．２ｋｍ／ｓであるセルロースエステルフィルムであり、前記偏光板保護フィルム２は、その厚み方向のレターデーションＲｔのばらつきが１０ｎｍ以下である光学異方性フィルムであることを特徴とする偏光板。

式（Ａ１） ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ａ２） １．０≦Ｙ≦２．５
（式中、Ｘはセルロースエステルのアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基の置換度を表す。）
２．前記音速が、０．９≦音速（ＴＤ）／音速（ＭＤ）≦１．１の関係となることを特徴とする前記１に記載の偏光板。
（ＭＤは製膜方向、ＴＤは幅手方向を表す）
３．前記１または２に記載の偏光板に使用する偏光板保護フィルムの製造方法であって該偏光板保護フィルムは、溶融製膜によって製膜され、かつフィルムの製膜方向に下記式（Ｂ）で表される延伸速度が１０００％／ｍｉｎ〜３００００％／ｍｉｎで延伸することにより得られることを特徴とする前記１または２に記載の偏光板に使用する偏光板保護フィルムの製造方法。

式（Ｂ）
延伸速度（％／ｍｉｎ）＝｛（延伸後寸法／延伸前寸法）−１｝×１００（％）／延伸に要する時間（ｍｉｎ）
４．前記１または２記載の偏光板を備えることを特徴とする液晶表示装置。

本発明の偏光板によれば、高温高湿環境下で硬度むらと平面性の発生を抑制し、光漏れや色むらに優れるという効果がある。

本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法を実施する装置の概略フローシートである。

符号の説明

１ 押出し機
２ フィルター
３ スタチックミキサー
４ 流延ダイ
５ 回転支持体（第１冷却ロール）
６ 挟圧回転体（タッチロール）
７ 回転支持体（第２冷却ロール）
８ 回転支持体（第３冷却ロール）
９、１１、１３、１４、１５ 搬送ロール
１０ セルロースエステルフィルム
１６ 巻取り装置

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
＜偏光板＞
本発明の偏光板は、偏光子と、この偏光子を挟む２枚の偏光板保護フィルム１および２とからなる偏光板において、前記偏光板保護フィルム１は、下記式（Ａ１）および（Ａ２）を同時に満足し、含有溶媒量が０．０１質量％以下、１００℃における製膜方向または幅手方向の少なくとも一方の音速が１．６〜２．２ｋｍ／ｓであるセルロースエステルフィルムであり、前記偏光板保護フィルム２は、その厚み方向のレターデーションＲｔのばらつきが１０ｎｍ以下である光学異方性フィルムであることを特徴とする。

式（Ａ１） ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ａ２） １．０≦Ｙ≦２．５
（式中、Ｘはセルロースエステルのアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基の置換度を表す。）
〈偏光板保護フィルム１〉
本発明の偏光板保護フィルム１は、１００℃における、少なくともフィルム製膜方向か幅手方向のどちらか一方の音速が１．６〜２．２ｋｍ／ｓであるセルロースエステルフィルムであることが特徴である。

このような音速を有するセルロースエステルフィルムは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）を同時に満足するセルロースエステル、および添加剤を含む組成物を溶融流延製膜する
ことにより得ることができる。

具体的には、流動性を示す温度まで上記組成物を加熱溶融して溶融物とし、該溶融物を流延し冷却したあと、少なくともフィルムの製膜方向に下記式（１）で表される延伸速度が１０００％／ｍｉｎ〜３００００％／ｍｉｎで延伸し、好ましくはさらに幅手方向に延伸速度が４００％／ｍｉｎ〜１５００％／ｍｉｎで延伸することで、少なくともフィルム製膜方向か幅手方向のどちらか一方の音速が１．６〜２．２ｋｍ／ｓであるセルロースエステルフィルムを得ることができる。

式（１）
延伸速度（％／ｍｉｎ）＝｛（延伸後寸法／延伸前寸法）−１｝×１００（％）／延伸に要する時間（ｍｉｎ）
本発明は、溶液流延製膜法ではフィルムが破断してしまい使用することができなかった範囲の延伸速度を、溶融流延製膜法で実現することにより、セルロースエステルフィルムの音速を１．６〜２．２ｋｍ／ｓの範囲に調整し、色むらと光漏れに優れたセルロースエステルフィルムが得られることを見出したものである。

ここで延伸速度を調整することで、所望の音速をもったセルロースエステルフィルムが得られる機構については、本発明者は以下のように推察している。

同じ延伸倍率であっても延伸速度を大きくすると、フィルムにかかる荷重がより高くなり、それにより所望の音速をもったセルロースエステルフィルムを得ることができる。

さらに本発明においては、音速が製膜方向（ＭＤ）と幅手方向（ＴＤ）で以下の関係となることが光漏れに対し特に好ましいことを見出した。

式（２）０．９≦音速（ＴＤ）／音速（ＭＤ）≦１．１
本発明のセルロースエステルフィルムの音速は、ＳＯＮＩＣ ＳＨＥＥＴ ＴＥＳＴＥＲ（ＳＳＴ−１１０型、野村商事（株）製）を用いて、１００℃の環境下３時間放置したフィルムにおいて、同環境下で測定することができる。

次に本発明者は、高温高湿下での硬度むらと平面性劣化は、含有溶媒の実質ないフィルムの場合セルロースエステルの置換基に非常に強く依存することをつきとめた。

即ち、炭素数３以上に置換基が長くなると熱に対して分子内で置換基が傾き易くなってしまう。従って、炭素数３以上の置換基の数が増すと、フィルムの各々の微小領域内でバラツキが発生してしまうことに起因していると考えられる。

具体的には、高温高湿環境下に偏光板が曝されると、画面内で保護フィルムが不均一に塑性変形が生じてしまい硬度や平面性にむらを生じさせてしまう。

溶融製膜法によれば、流延製膜のための溶媒を使用しないことから、製膜乾燥後の残留溶媒量（フィルム中に最終的に含有される含有溶媒量）をセルロースエステルフィルム全体の０．０１質量％とすることができる。

ここで含有溶媒とは、流延製膜において使用した沸点１２０℃以下の有機溶媒であって、製膜終了後のフィルムの状態にあってもフィルム中に残留している溶媒をいう。

本発明のセルロースエステルフィルムは、セルロースエステルおよび添加剤とからなる。
《セルロースエステル》
本発明に用いるセルロースエステルは、炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。

セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味している。水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。さらに別の置換基が置換してもよい。

同じ置換度である場合、前記炭素数が多いとフィルムの腰がなくなるため、炭素数としては炭素数２〜６のアシル基の中で選択することが好ましい。

本発明のセルロースエステルとしては、前記（Ａ１）および（Ａ２）を同時に満足するものが必要となるが、Ｙがプロピオニル基であって、１．１≦Ｙ≦２．０が好ましく、さらに１．１≦Ｙ≦１．５が特に光漏れに対し好ましい。

本発明における置換度範囲は、延伸速度を上げることができ、さらに音速も本発明の範囲を達成することができる。

アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で６００００〜３０００００のものが好ましく、７００００〜２０００００のものがさらに好ましい。本さらに用いられるセルロースエステルは重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が４．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．４〜２．３である。

セルロースエステルの平均分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１，０００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

本発明のセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が４５ｐｐｍを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加する傾向がある。

また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなる傾向がある。従って１〜３０ｐｐｍの範囲がより好ましい。残留硫酸含有量は、ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。

本発明のセルロースエステル中の遊離酸含有量は、１〜５００ｐｐｍであることが好ましい。上記の範囲であると、ダイリップ部の付着物の増加がなく、また破断しにくい。

さらに、本発明については、１〜１００ｐｐｍの範囲であることが好ましく、さらに破断しにくくなる。特に１〜７０ｐｐｍの範囲が好ましい。遊離酸含有量はＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。

合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、さらに十分に行うことによって、残留アルカリ土類金属含有量、残留硫酸含有量、および残留酸含有量を上記の範囲とすることができ好ましい。

また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、あるいは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。

また、本発明のセルロースエステルはフィルムにした時の輝点異物が少ないものであることが好ましい。輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上が２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、さらに１００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、５０個／ｃｍ²以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ²以下であることが好ましく、１０個／ｃｍ²以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。

また、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、さらに１００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、５０個／ｃｍ²以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ²以下であることが好ましく、１０個／ｃｍ²以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。
《添加剤》
本発明におけるセルロースエステルフィルムには、フィルムに加工性を付与する可塑剤、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤、紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィルムに滑り性を付与する微粒子（マット剤）、フィルムのレターデーションを調整するレターデーション調整剤等の添加剤を含有させても良い。

（可塑剤）
本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造においては、フィルム形成材料中に少なくとも１種の可塑剤を含有することが好ましい。

本発明では、可塑剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができるが、少なくとも１種は有機酸と３価以上のアルコールが縮合した構造を有する分子量３５０〜１５００の多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。

使用することができるその他の可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤、糖エステル可塑剤等から選択される。

可塑剤の使用量は、セルロース誘導体に対して１質量％未満ではフィルムの透湿度を低減させる効果が少ないため好ましくなく、２０質量％を越えると高温耐久時のフィルムの物性が劣化するため、１〜２０質量％が好ましい。

（多価アルコールエステル系可塑剤）
本発明の多価アルコールエステル系可塑剤は、有機酸と多価アルコールとのエステルでありその有機酸は、下記一般式（１）で表される。

式中、Ｒ₁〜Ｒ₅は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Ｌは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるシクロアルキル基としては、炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、フェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、もしくはｔ−ブトキシ等の各アルコキシ基である。

また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）、アルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい））、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数１〜８のシクロアルコキシ基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。

また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８の無置換のアシル基が挙げられ（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基はさらに前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。

これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。

Ｒ₁〜Ｒ₅で表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。

Ｒ₁〜Ｒ₅のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構造を形成していてもよい。

また、Ｌで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、さらに前記のＲ₁〜Ｒ₅で表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。

中でも、Ｌで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。

また、これら本発明において可塑剤となるエステル化合物を構成する、前記一般式（１）で表される有機酸としては、少なくともＲ₁またはＲ₂に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。

なお本発明においては３価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。

本発明における、前記一般式（１）で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する３価以上のアルコール化合物としては、好ましくは３〜２０価の脂肪族多価アルコールであり、本発明おいて３価以上のアルコールは下記一般式（２）で表されるものが好ましい。

一般式（２） Ｒ′−（ＯＨ）ｍ
式中、Ｒ′はｍ価の有機基、ｍは３以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、ｍとしては３または４の多価アルコールである。

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

アドニトール、アラビトール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、イノシトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。

特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。

一般式（１）で表される有機酸と一般式（２）で表される３価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成できる。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式（１）で表される有機酸と、一般式（２）で表される多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸をあらかじめ酸クロライドあるいは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。

一般式（１）で表される有機酸と一般式（２）で表される３価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、下記一般式（３）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｒ₆〜Ｒ₂₀は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Ｒ₂₁は水素原子またはアルキル基を表す。

Ｒ₆〜Ｒ₂₀のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記一般式（１）のＲ₁〜Ｒ₅と同様の基が挙げられる。

以下に、本発明に係わる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。

（糖エステル可塑剤）
本発明のセルロースエステルフィルムは、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が１〜１２個結合した糖化合物の水酸基をエステル化した糖エステル可塑剤を使用することも好ましい。

本発明に用いられる糖エステル化合物としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、セロビオース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースなどが挙げられるが、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。

本発明に用いられる糖エステル可塑剤は、糖化合物の有する水酸基の一部または全部がエステル化されているものまたはその混合物である。

市販品としては、例えばモノペットＳＢ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。

（ポリマー可塑剤）
本発明のセルロースエステルフィルムはポリマー可塑剤を使用することも好ましい。

その中でも特にアクリル系ポリマーが好ましい。具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体（例えば、共重合比１：９９〜９９：１の間の任意の比率）等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、メタクリル酸メチルとＮ−ビニルピロリドンの共重合体（例えば、共重合比１：９９〜９９：１の間の任意の比率）、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、メタクリル酸メチルと４−ヒドロキシスチレンの共重合体（例えば、共重合比１：９９〜９９：１の間の任意の比率）、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。

数平均分子量は１，０００〜５００，０００程度が好ましく、特に好ましくは、５０００〜２０００００である。１，０００以下では揮発性が大きくなり、５００，０００を超えると可塑化能力が低下する傾向があり、セルロースエステル光学フィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす可能性がある。

これらポリマー可塑剤は１種のモノマーの繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数のモノマーの繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。

また表面の可塑剤量の測定法は特に限定されないが、例えば、ナイフなどを用いて、フィルムの表面から２０ｎｍほど削って定量分析する方法やフィルムの厚さ方向の可塑剤量をＩＲや原子吸光などでスキャンする方法などを用いて定量したものである。
〈酸化防止剤〉
本発明では、酸化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。

特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系化合物のものを好ましく用いることができる。

例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＩｒｇａｆｏｓＸＰ４０”、“ＩｒｇａｆｏｓＸＰ６０”という商品名で市販されているものを含むものが好ましい。

上記フェノール系化合物としては、２，６−ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、チバ・ジャパン株式会社、“Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”、“Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”、（株）ＡＤＥＫＡ“アデカスタブＡＯ−５０”という商品名で市販されているものが好ましい。

上記リン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”（ＡＯ２）、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６”（ＡＯ１）および“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ”（ＡＯ４）、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”（ＡＯ３）という商品名で市販されているものが好ましい。

上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４（ＡＯ２）”および“Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２”という商品名で市販されているものが好ましい。

上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ”および“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されているものが好ましい。

上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＭ”（ＡＯ５）および“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＳ”（ＡＯ３）という商品名で市販されているものが好ましい。

さらに、酸捕捉剤として米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物を含有させることも可能である。

これらの酸化防止剤等は、再生使用される際の工程に合わせて適宜添加する量が決められるが、一般には、フィルムの主原料である樹脂に対して、０．０５〜２０質量％、好ましくは０．１〜１質量％の範囲で添加される。

これらの酸化防止剤は、一種のみを用いるよりも数種の異なった系の化合物を併用することで相乗効果を得ることができる。例えば、ラクトン系、リン系、フェノール系および二重結合系化合物の併用は好ましい。
〈レターデーション調整剤〉
本発明のセルロースエステルフィルムにおいてレターデーションを調整するための化合物を含有させてもよい。

レターデーションを調整するために添加する化合物は、欧州特許第９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することもできる。

また２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。
〈着色剤〉
本発明においては、着色剤を使用することが好ましい。着色剤と言うのは染料や顔料を意味するが、本発明では、液晶画面の色調を青色調にする効果またはイエローインデックスの調整、ヘイズの低減を有するものを指す。

着色剤としては各種の染料、顔料が使用可能だが、アントラキノン染料、アゾ染料、フタロシアニン顔料などが有効である。
〈紫外線吸収剤〉
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。高分子型の紫外線吸収剤としてもよい。
〈マット剤〉
本発明では、フィルムの滑り性を付与するためにマット剤を添加することが好ましい。

本発明で用いられるマット剤としては、得られるフィルムの透明性を損なうことがなく、溶融時の耐熱性があれば無機化合物または有機化合物どちらでもよく、例えば、タルク、マイカ、ゼオライト、ケイソウ土、焼成珪成土、カオリン、セリサイト、ベントナイト、スメクタイト、クレー、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ガラス粉、ガラスフレーク、ミルドファイバー、ワラストナイト、窒化ホウ素、炭化ホウ素、ホウ化チタン、炭酸マグネシウム、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、アルミノ珪酸マグネシウム、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、二酸化チタン、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭化ケイ素、炭化アルミニウム、炭化チタン、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、ホワイトカーボンなどが挙げられる。

これらのマット剤は、単独でも二種以上併用しても使用できる。粒径や形状（例えば針状と球状など）の異なる粒子を併用することで高度に透明性と滑り性を両立させることもできる。

これらの中でも、セルロースエステルと屈折率が近いので透明性（ヘイズ）に優れる二酸化珪素が特に好ましく用いられる。二酸化珪素の具体例としては、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥＰ−１０、シーホスターＫＥＰ−３０、シーホスターＫＥＰ−５０（以上、株式会社日本触媒製）、サイロホービック１００（富士シリシア製）、ニップシールＥ２２０Ａ（日本シリカ工業製）、アドマファインＳＯ（アドマテックス製）等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。

粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いると得られるフィルムの透明性が良好にできるので好ましい。粒子の大きさは、可視光の波長に近いと光が散乱し、透明性が悪くなるので、可視光の波長より小さいことが好ましく、さらに可視光の波長の１／２以下であることが好ましい。

粒子の大きさが小さすぎると滑り性が改善されない場合があるので、８０ｎｍから１８０ｎｍの範囲であることが特に好ましい。

なお、粒子の大きさとは、粒子が１次粒子の凝集体の場合は凝集体の大きさを意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。
〈粘度低下剤〉
本発明において、溶融粘度を低減する目的として、水素結合性溶媒を添加することができる。水素結合性溶媒とは、Ｊ．Ｎ．イスラエルアチビリ著、「分子間力と表面力」（近藤保、大島広行訳、マグロウヒル出版、１９９１年）に記載されるように、電気的に陰性な原子（酸素、窒素、フッ素、塩素）と電気的に陰性な原子と共有結合した水素原子間に生ずる、水素原子媒介「結合」を生ずることができるような有機溶媒、すなわち、結合モーメントが大きく、かつ水素を含む結合、例えば、Ｏ−Ｈ（酸素水素結合）、Ｎ−Ｈ（窒素水素結合）、Ｆ−Ｈ（フッ素水素結合）を含むことで近接した分子同士が配列できるような有機溶媒をいう。

これらは、セルロース樹脂の分子間水素結合よりもセルロースとの間で強い水素結合を形成する能力を有するもので、本発明で行う溶融流延法においては、用いるセルロース樹脂単独のガラス転移温度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセルロース樹脂組成物の溶融温度を低下することができる。

または同じ溶融温度においてセルロース樹脂よりも水素結合性溶媒を含むセルロース樹脂組成物の溶融粘度を低下することができる。

水素結合性溶媒としては、例えば、アルコール類：例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−エチルヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、ドデカノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ、グリセリン等、ケトン類：アセトン、メチルエチルケトン等、カルボン酸類：例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類：例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等、ピロリドン類：例えば、Ｎ−メチルピロリドン等、アミン類：例えば、トリメチルアミン、ピリジン等、等を例示することができる。

これら水素結合性溶媒は、単独で、または２種以上混合して用いることができる。これらのうちでも、アルコール、ケトン、エーテル類が好ましく、特にメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、オクタノール、ドデカノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランが好ましい。

さらに、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランのような水溶性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ以上のものをいう。

これらの溶媒は、溶融製膜時に揮発し、最終的には含有溶媒量として０．０１質量％以下とされる。
＜溶融流延製膜法＞
本発明における溶融流延製膜とは、セルロースエステルおよび可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することを溶融製膜として定義する。

加熱溶融する成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度および表面精度などに優れるセルロースエステルフィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。
〈製膜方法〉
以下、フィルムの製膜方法について説明する。

（セルロースエステルと添加剤の溶融ペレット製造工程）
溶融押出に用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出機に供給し１軸や二軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押し出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。

原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で７０〜１４０℃で３時間以上乾燥し、水分率を２００ｐｐｍ以下、さらに１００ｐｐｍ以下にしておくことが好ましい。

添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。酸化防止剤等少量の添加剤さらに均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、セルロースエステルに含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。

真空ナウターミキサーなどが乾燥と混合を同時にできるので好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したＮ₂ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。

また、押出機への供給ホッパー等は保温しておくことが吸湿防止できるので好ましい。

マット剤やＵＶ吸収剤などは、得られたペレットにまぶしたり、フィルム製膜時に押出機中で添加したりしてもよい。

押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、二軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

ニーダーディスクは、混錬性を向上できるが、せん断発熱に注意が必要である。ニーダーディスクを用いなくても混合性は十分である。ベント孔からの吸引は必要に応じて行えばよい。低温であれば揮発成分はほとんど発生しないのでベント孔なしでもよい。

ペレットの色は、黄味の指標であるｂ＊値が−５〜１０の範囲にあることが好ましく、−１〜８の範囲にあることがさらに好ましく、−１〜５の範囲にあることがより好ましい。

ｂ＊値は分光測色計ＣＭ−３７００ｄ（コニカミノルタセンシング（株）製）で、光源をＤ６５（色温度６５０４Ｋ）とし、視野角１０°で測定することができる。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

（セルロースエステルと添加剤の溶融物をダイから押し出す工程）
除湿熱風や真空または減圧下で乾燥したポリマーを１軸や二軸タイプの押出し機を用いて、押し出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去したあと、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロール上で固化させる。

供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。

押し出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。

ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。

濾過精度を粗、密と連続的に複数回繰り返した多層体としたものが好ましい。また、濾過精度を順次上げていく構成としたり、濾過精度の粗、密を繰り返す方法をとることで、フィルターの濾過寿命が延び、異物やゲルなどの補足精度も向上できるので好ましい。

ダイに傷や異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥をダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力ないものを用いることが好ましい。

押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ０．２Ｓ以下となるように研磨したものが挙げられる。

可塑剤などの添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。

（ダイから押し出された溶融物を冷却ロールと弾性タッチロールとの間に押圧しながら流延する工程）
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

（延伸工程）
本発明では、上記のようにして得られたフィルムは冷却ロールに接する工程を通過後、フィルムをフィルム製膜方向に下記式（１）で表される延伸速度が１０００％／ｍｉｎ〜３００００％／ｍｉｎで延伸することが、フィルムの音速を所望の音速に制御する上で好ましい方法である。

延伸に要する時間は延伸工程の距離とフィルム搬送速度から算出し、延伸後寸法は延伸前に決まった長さでしるしをつけておき、延伸後の長さを測定することで求めた。

式（１）
延伸速度（％／ｍｉｎ）＝｛（延伸後寸法／延伸前寸法）−１｝×１００（％）／延伸に要する時間（ｍｉｎ）
さらに、前記フィルムの幅手方向に前記式（１）で表される延伸速度が４００％／ｍｉｎ〜１５００％／ｍｉｎで延伸すること、前記フィルムを少なくとも製膜方向か幅手方向のどちらか一方に５０％〜２００％延伸することが好ましい。

延伸倍率が小さすぎると、好ましい音速値をもつセルロースエステルフィルムを得ることが困さらになり、逆に大きすぎると、フィルムが破断してしまったり、自重に耐え切れず、フィルムがたるんでしまう。

延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。

延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。

フィルム構成材料のガラス転移温度Ｔｇはフィルムを構成する材料種および構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。光学フィルムを作製する場合、Ｔｇは１１０℃以上、好ましくは１２５℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によってフィルムの温度環境が変化する。

このときフィルムの使用環境温度よりもフィルムのＴｇが低いと、延伸によってフィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するレターデーション値およびフィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。

フィルムのＴｇが高過ぎると、フィルム構成材料をフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、またフィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Ｔｇは２５０℃以下が好ましい。

また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。

延伸温度が低すぎると破断してしまう場合があり、高すぎると所望のレターデーションが得られない場合がある。

延伸は、幅手方向で制御された均一な温度分布下で行うことが好ましい。好ましくは±２℃以内、さらに好ましくは±１℃以内、特に好ましくは±０．５℃以内である。

巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。

なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。

以下、その延伸方法について説明する。

延伸は製膜方向（ＭＤ）の延伸（縦延伸）、幅手方向（ＴＤ）の延伸（横延伸）、およびこれらの組み合わせによって実施される。縦延伸は、ロール延伸（出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて製膜方向に延伸）や固定端延伸（フィルムの両端を把持しこれを製膜方向に次第に早く搬送して製膜方向に延伸）等により行うことができる。

また横延伸は、テンター延伸｛フィルムの両端をチャックで把持しこれを横方向（製膜方向と直角方向）に広げて延伸｝等により行うことができる。

本発明において延伸倍率としては、少なくとも一方に１％〜２５０％、より好ましくは２％〜２００％、さらに好ましくは３％〜１５０％である。縦、横均等に延伸してもよいが、一方の延伸倍率を他方より大きくし不均等に延伸するほうがより好ましい。

縦（ＭＤ）、横（ＴＤ）いずれを大きくしてもよいが、小さい方の延伸倍率は０％〜３０％が好ましく、より好ましくは０％〜２５％であり、さらに好ましくは０％〜２０％である。大きいほうの延伸倍率は１％〜２５０％であり、より好ましくは１０％〜２００％、さらに好ましくは３０％〜１５０％である。

延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／（延伸前の長さ）
これらの縦延伸と横延伸は、それぞれ単独で行ってもよく（一軸延伸）、組み合わせて行ってもよい（二軸延伸）。二軸延伸の場合、縦、横逐次で実施してもよく（逐次延伸）、同時に実施してもよい（同時延伸）。

製膜方向の延伸の延伸速度は、１０００％／ｍｉｎ〜３００００％／ｍｉｎが好ましく、より好ましくは５０００％／ｍｉｎ〜２００００％／ｍｉｎ、さらに好ましくは１００００％／分〜２００００％／ｍｉｎである。多段延伸の場合、延伸速度は各段の延伸速度の平均値を指す。

さらに、前記フィルムの幅手方向へ前記式（１）さらにされる延伸速度が４００％／ｍｉｎ〜１５００％／ｍｉｎで延伸することが好ましい。より好ましくは５００％／ｍｉｎ〜１４００％／ｍｉｎ、さらに好ましくは６００％／分〜１３００％／ｍｉｎである。

このような延伸に引き続き、縦または横方向に０％〜１０％緩和することが好ましい。さらに、延伸に引き続き、１５０℃〜２５０℃で１秒〜３分熱固定することも好ましい。

ここで、Ｒｏとは面内レターデーションを示し、面内の製膜方向ＭＤの屈折率と幅手方向ＴＤの屈折率との差に厚みを乗じたもの、Ｒｔとは厚み方向レターデーションを示し、面内の屈折率（製膜方向ＭＤと幅方向ＴＤの平均）と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。

延伸は、例えばフィルムの製膜方向および幅手方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。

互いに直交する二軸方向に延伸することは、フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを所定の範囲に入れるために有効な方法である。

ここで、ｎｘとはフィルムＭＤ方向の屈折率、ｎｙとはＴＤ方向の屈折率、ｎｚとは厚み方向の屈折率である。

例えばフィルム製膜方向に延伸した場合、幅手方向の収縮が大き過ぎると、ｎｚの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制、あるいは幅手方向にも延伸することで改善できる。幅手方向に延伸する場合、幅手方向で屈折率に分布が生じることがある。

この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、フィルムを幅手方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。

この場合でも、フィルム製膜方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅手方向の位相差の分布を少なくできる。

互いに直交する二軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のむらが問題となることがある。

本発明のセルロースエステルフィルムの膜厚変動は、±３％、さらに±１％の範囲とすることが好ましい。

延伸後、フィルムの端部をスリッターにより製品となる幅にスリットして裁ち落としたあと、エンボスリングおよびバックロールよりなるナール加工装置によりナール加工（エンボッシング加工）をフィルム両端部に施し、巻取り機によって巻き取ることにより、セルロースエステルフィルム（元巻き）の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。

ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。

なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。

一般的に、溶融押し出しでは流延ダイの形状により、端部側の滞留時間が長くなる傾向が知られており、それによりフィルム端部の着色が促進されると考えられる。本発明では溶融押し出し直後のフィルム幅手方向の端部のイエローインデックスＹｅと、フィルム中央部分のイエローインデックスＹｃは下式を満たすことが好ましく、より好ましくはＹｅ／Ｙｃが３．０以下である。

Ｙｅ／Ｙｃが５．０より大きいと、フィルム端部を切除して、原料として再利用した際に、生産したフィルムの着色が増加する。なお、本発明で端部のイエローインデックスとはフィルム幅手方向の両端部から３０ｍｍ以内での最大値と定義する。

式 １．０≦Ｙｅ／Ｙｃ≦５．０
光学フィルムの場合、該フィルムの厚さは、１０〜５００μｍが好ましい。特に、下限は２０μｍ以上、好ましくは３０μｍ以上である。上限は１５０μｍ以下、好ましくは１２０μｍ以下である。特に好ましい範囲は２５以上〜９０μｍである。

フィルムが厚いと、偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的に適さなくなる。一方、フィルムが薄いと、フィルムの透湿性が高くなり、偏光子を湿度から保護する能力が低下する傾向がある。

（機能性層の形成）
本発明のセルロースエステルフィルム製造に際し、延伸の前および／または後で透明導電層、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。

特に、透明導電層、ハードコート層、反射防止層、易接着層、防眩層および光学補償層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各および面処理を必要に応じて施すことができる。
＜偏光板保護フィルム２＞
その厚み方向のレターデーションＲｔのばらつきが１０ｎｍ以下である光学異方性フィルムであることを特徴とする。

この光学異方性フィルムにおいて、波長５５０ｎｍにおける正面方向のレターデーションを、自動複屈折計（王子計測器社製、ＫＯＢＲＡ−２１）を用いて測定した。

このとき、光学異方性フィルムの幅方向に１０ｍｍ間隔で正面方向のレターデーションを測定し、その測定値の算術平均値を面内レターデーションＲｏ、厚さ方向レターデーションＲｔとし、一方で前記幅方向に１０ｍｍ間隔で測定した値の内、Ｒｔ最大値とＲｔ最小値との差を厚さ方向レターデーションＲｔのばらつきとした。

本発明に用いられる光学異方性フィルムは、色補償、視野角補償等の光学補償の機能を備え、液晶表示装置の視認性を向上させる効果を有する。

さらに幅方向および製膜方向で複屈折性が制御されたフィルムであり、その厚み方向のレターデーションＲｔが３０〜５００ｎｍであるフィルムである。

このような光学異方性フィルムとしては、一軸性を有するフィルム、二軸性を有するフィルム、およびこれらの積層体を挙げることができ、使用する液晶セルのモードに応じて適宜選択される。

本発明の光学異方性フィルムは、下記のレターデーションを有することを特徴とする。

０≦Ｒｏ≦３００
３０≦Ｒｔ≦５００
好ましくは、
１．１≦Ｒｔ／Ｒｏ
１０≦Ｒｏ≦２５０
５０≦Ｒｔ≦４００
さらに好ましくは、
１．２≦Ｒｔ／Ｒｏ
２０≦Ｒｏ≦２００
８０≦Ｒｔ≦３５０
である。

なお、面内レターデーションＲｏ、厚さ方向のレターデーションＲｔは、該フィルムの面内の主屈折率をｎｘ（ＭＤ方向）、ｎｙ（ＴＤ方向）とし、該フィルムの厚さ方向の屈折率をｎｚとし、該フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とした際に、Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄで示される値である。

光学異方性フィルムとしては、熱可塑性樹脂を含有するフィルムを延伸したもの、無延伸の熱可塑性樹脂フィルム上に光学異方性層を形成したもの、熱可塑性樹脂を含有するフィルム上に光学異方性層を形成したあと、さらに延伸したもの等を用いることができる。延伸フィルムは、単層の形態であっても、複数積層した形態であってもよい。

これらの熱可塑性樹脂としては、透明性、低複屈折性、寸法安定性等に優れることから、特にセルロースエステル、脂環式オレフィンポリマー、ポリプロピレン系樹脂が好ましく用いられる。

熱可塑性樹脂には、必要に応じてレターデーション上昇剤を添加することができる。レターデーション上昇剤とは、熱可塑性樹脂に添加した際に、無添加の場合に比べてレターデーションを上昇させる化合物のことである。

セルロースエステルにレターデーション上昇剤を添加する場合には、セルロースアセテート１００質量％に対して、０．０１〜２０質量％の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量％の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量％の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５〜２質量％の範囲で使用することが最も好ましい。

二種類以上のレターデーション上昇剤を併用してもよい。レターデーション上昇剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましい。レターデーション上昇剤は、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。

また、レターデーション上昇剤としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることが好ましい。

なお、本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は、一般に、不飽和ヘテロ環である。

芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。

芳香族性ヘテロ環は、一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１、３、５−トリアジン環が含まれる。

芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１、３、５−トリアジン環が好ましい。

レターデーション上昇剤が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。

二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

前記熱可塑性樹脂を含むフィルムを延伸する方法としては、テンターを用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法；固定するクリップの間隔が開かれて縦方向の延伸と同時にガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸したあとにその両端部をクリップ把持してテンターを用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法；横または縦方向に左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機や、横または縦方向に左右等速度の送り力もしくは引張り力または引取り力を付加できるようにして、移動する距離が同じで延伸角度θを固定できるようにしたもしくは移動する距離が異なるようにしたテンター延伸機を用いて斜め延伸する方法：が挙げられる。

延伸温度としては、光学異方性フィルムを形成する材料、特に樹脂の中で、ガラス転移温度が最も低い樹脂のガラス転移温度をＴｇとすると、通常Ｔｇ〜Ｔｇ＋５０℃の範囲で行うことができる。

また、前記光学異方性フィルムの形成には、支持体上に高分子化合物や液晶性化合物を用いて異方性層を形成し光学異方性フィルムとすることができる。これらは、単独で使用してもよいし併用してもよい。

前記高分子化合物としては、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン等を使用できる。

具体的には、特表平８−５１１８１２号（国際公開番号 ＷＯ９４／２４１９１号）、同２０００−５１１２９６号（国際公開番号 ＷＯ９７／４４７０４号）等記載の化合物が挙げることができる。

前記液晶性化合物としては、棒状液晶でも、ディスコティック液晶でも良く、またそれらが高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。

棒状液晶の好ましい例としては、特開２０００−３０４９３２号公報に記載のものが挙げられる。

ディスコティック液晶の好ましい例としては、特開平８−５０２０６号公報に記載のものが挙げることができる。

また、前記光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、０．７〜５μｍであることが最も好ましい。

ただし、液晶セルのモードによっては、高い光学的異方性を得るために、３〜１０μｍとする場合もある。

光学異方性層を含む光学異方性フィルムの製造方法は、特に限定されず、例えば、前記高分子化合物および／または液晶性化合物を熱可塑性樹脂を含むフィルム等に塗工して塗工膜を製造し、その塗工膜をさらに延伸や収縮させることにより製造できる。
＜偏光板＞
本発明の偏光板について述べる。

偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明のセルロースエステルフィルムをアルカリ鹸化処理し、処理したフィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。

セルロースエステルフィルム以外の光学異方性フィルムの場合は、アクリル系またはウレタン系接着剤を使用することが好ましい。

本発明の偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであって、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。

偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。

該偏光子の面上に、本発明のセルロースエステルフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

本発明に従い溶融流延製膜方法により製造される長尺状セルロースエステルフィルムは、長尺状の偏光子（偏光フィルム）とアルカリケン化処理を施して貼合することができるため、特に１００ｍ以上の長尺で生産的効果が得られ、１５００ｍ、２５００ｍ、５０００ｍとより長尺化する程偏光板製造の生産的効果が高まる。

また、本発明のセルロースエステルフィルムを用いた偏光板はリワーク性に優れるため、偏光板収率が向上するという効果も得ることができる。
＜液晶表示装置＞
本発明のセルロースエステルフィルムを含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができる。

本発明の偏光板は、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＣＰＡ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ Ｐｉｎｗｈｅｅｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等に用いることができる。

液晶表示装置はカラー化および動画表示用の装置として応用され、本発明により表示品質が改良され、コントラストの改善や偏光板の耐性が向上したことにより、疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
＜セルロースエステルの合成＞
特表平６−５０１０４０号公報の例Ｂを参考にして、プロピオン酸、酪酸、酢酸の添加量を調整して、アセチル基置換度、プロピオニル基置換度、ブチリル基置換度を表１のように変化させた６種類のセルロースエステルを合成した。

得られたセルロースエステルの置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に基づいて算出した。
＜溶融法による偏光板保護フィルム１の作製＞
８０℃で６時間乾燥済み（水分率２００ｐｐｍ）のセルロースエステルＣ−１、１００質量部、一般式（３）の可塑剤Ｎｏ．６４を４質量部、スクロースオクタベンゾエート（分子量８６３）４質量部、紫外線吸収剤ＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ（株）製）１．０５質量部、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（チバ・ジャパン（株）製）０．５質量部、アデカスタブＰ
ＥＰ−３６（ＡＤＥＫＡ（株）製）０．０８質量部、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ（住友化学（株）製）０．２質量部、シーホスターＫＥＰ−３０（日本触媒（株）製）０．１質量部を真空ナウターミキサーで８０℃、１Ｔｏｒｒで３時間混合しながらさらに乾燥した。

得られた混合物を、二軸式押出機を用いて２３５℃で溶融混合しペレット化した。

セルロースエステルフィルムの製膜は図１に示す製造装置で行った。

ペレット（水分率５０ｐｐｍ）を、１軸押出機を用いてＴダイから表面温度が１００℃の第１冷却ロール上に溶融温度２４５℃でフィルム状に溶融押し出し、初期膜厚１２８μｍ、幅１．０ｍのキャストフィルムを毎分３５ｍの長さで得た。

この際第１冷却ロール上でフィルムを２ｍｍ厚の金属表面を有する弾性タッチロールで押圧した。

得られたフィルムを、まずロール周速差を利用した延伸機によって１９５℃で製膜方向に６０％で延伸速度１０００％／ｍｉｎで延伸し、膜厚８０μｍの保護フィルム１０１を得た。

次に、セルロースエステル、延伸速度、延伸倍率、初期膜厚を表２のように変更した以外は本発明のセルロースエステルフィルム１０１と同様にして、膜厚８０μｍの本発明および比較の保護フィルム１０２〜１２２を得た。

このとき幅手方向の延伸は、製膜方向に延伸したあと、予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーン（各ゾーン間には各ゾーン間の断熱を確実にするためのニュートラルゾーンも有する）を有するテンターにて延伸ゾーンにおいて１６５℃で行い、その後３０℃まで冷却し、クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落としてフィルムを得た。

〈溶液流延製膜法によるフィルム試料１２３、１２４の作製〉
シーホスターＫＥＰ−３０（日本触媒（株）製）１１質量部、エタノール８９質量部以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合したあと、マントンゴーリンで分散をし、微粒子分散液を作製した。

メチレンクロライド９９質量部を入れた溶解タンクにセルロースエステルＣ−１、４質量部を添加し、加熱して完全に溶解させたあと、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。

濾過後のセルロースエステル溶液を十分に攪拌しながら、ここに微粒子分散液を１１質量部ゆっくりと添加した。

さらに、アトライターにて分散を行ったあと、日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。

下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。メチレンクロライドの一部（約４０質量部）はあらかじめ分けておき、溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルを攪拌しながら投入した。

これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、さらに可塑剤を添加、溶解させた。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。

主ドープ液１００質量部と微粒子添加液２質量部となるように加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、ベルト流延装置により、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延し剥離、乾燥させた。

その後試料１０１同様に、ロール周速差を利用した延伸機によって１９５℃、１５０００％／ｍｉｎで６０％延伸し、さらにテンターにて幅手方向に１７０℃、７００％／ｍｉｎで７０％延伸し、比較試料１２３を得た。

〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド ３００質量部
エタノール ５２質量部
セルロースエステル（Ｃ−１） １００質量部
一般式（３）で表される可塑剤Ｎｏ．６４ ８質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ９００（チバ・ジャパン株式会社製） １．２質量部
次に、延伸速度、延伸倍率、初期膜厚を表１のように変更した以外はセルロースエステルフィルム１２３と同様にして、膜厚８０μｍの保護フィルム１２４を得ようとしたが、製膜方向への延伸した際に破断してしまった。

さらに比較試料として特開２００７−２２１６号公報の実施例１に記載の比較試料１および比較試料２を作製し、それぞれ試料１２５、１２６とした。

これらの保護フィルム１０１〜１２６について含有溶媒量を測定したところ試料１０１〜１２２、１２５、１２６は０．０１質量部以下であり、試料１２３、１２４は０．１％であった。

また音速について評価した。結果は表２に示す。

〈含有溶媒量〉
各試料を２０ｍｌの密閉ガラス容器に入れ、下記ヘッドスペース加熱条件にて処理したあと、下記ガスクロマトグラフィーにて予め使用した溶媒について検量線を作成し測定を行った。含有溶媒量は、偏光板保護フィルム１の全体の質量に対する質量部で表した。

機器：ＨＰ社 ５８９０ＳＥＲＩＥＳ II
カラム：Ｊ＆Ｗ社 ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、長さ３０ｍ）
検出：ＦＩＤ
ＧＣ昇温条件：４０℃で５分間保持したあと、８０℃／分で１００℃まで昇温
ヘッドスペース加熱条件：１２０℃で２０ｍｉｎ
〈音速〉
本発明のセルロースフィルムの音速は、２３℃９０％ＲＨ環境に試験試料を１時間設置し、その後同環境を１００℃へ昇温させ３時間保持した後２３℃５５％ＲＨに１時間放置し、同環境下ＳＯＮＩＣ ＳＨＥＥＴ ＴＥＳＴＥＲ（ＳＳＴ−１１０型、野村商事（株）製）を用いてフィルム製膜方向および幅手方向について測定した。
＜ハードコート層・反射防止層フィルムの作製＞
作製した偏光板保護フィルム１の試料Ｎｏ１〜１２６を用いて、その一方の面にハードコート層および反射防止層を形成し、ハードコート付き反射防止フィルム１０１〜１２６を作製した。

〈ハードコート層〉
下記ハードコート層組成物を乾燥膜厚３．５μｍとなるように塗布し、８０℃にて１分間乾燥した。次に高圧水銀ランプ（８０Ｗ）にて１５０ｍＪ／ｃｍ²の条件で硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。ハードコート層の屈折率は１．５０であった。

〈ハードコート層組成物（Ｃ−１）〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（２量体以上の成分を２割程度含む）
１０８質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製） ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １８０質量部
酢酸エチル １２０質量部
〈中屈折率層〉
前記ハードコートフィルムのハードコート層の上に、下記中屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃、０．１ｍ／秒の条件で１分間乾燥させた。

この時、指触乾燥終了（塗布面を指で触って乾燥していると感じる状態）までは非接触フローターを使用した。非接触フローターとしては、ベルマッティク社製の水平フロータータイプのエアータンバーを使用した。

フローター内静圧は９．８ｋＰａとし、約２ｍｍ幅手方向に均一に浮上させて搬送した。乾燥後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を、１３０ｍＪ／ｃｍ²照射して硬化させ、中屈折率層を有する中屈折率層フィルムを作製した。

この中屈折率層フィルムの中屈折率層の厚さは８４ｎｍで、屈折率は１．６６であった。

〈中屈折率層組成物〉
２０％ＩＴＯ微粒子分散物（平均粒径７０ｎｍ、イソプロピルアルコール溶液）
１００質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ６．４質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製） １．６質量部
テトラブトキシチタン ４．０質量部
１０％ＦＺ−２２０７（日本ユニカー社製、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液） ３．０質量部
イソプロピルアルコール ５３０質量部
メチルエチルケトン ９０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２６５質量部
〈高屈折率層〉
前記中屈折率層の上に、下記高屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃、０．１ｍ／秒の条件で１分間乾燥させた。この時、指触乾燥終了（塗布面を指で触って乾燥していると感じる状態）までは非接触フローターを使用した。

非接触フローターは中屈折率層形成と同じ条件とした。乾燥後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１３０ｍＪ／ｃｍ²照射して硬化させ、高屈折率層を有する高屈折率層フィルムを作製した。

〈高屈折率層組成物〉
テトラ（ｎ）ブトキシチタン ９５質量部
ジメチルポリシロキサン（信越化学社製 ＫＦ−９６−１０００ＣＳ） １質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン（信越化学社製 ＫＢＭ５０３）
５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １７５０質量部
イソプロピルアルコール ３４５０質量部
メチルエチルケトン ６００質量部
なお、この高屈折率層フィルムの高屈折率層の厚さ５０μｍ、屈折率は１．８２であった。

〈低屈折率層〉
最初にシリカ系微粒子（空洞粒子）の調製を行った。
（シリカ系微粒子Ｐ−１の調製）
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ₂濃度２０質量部のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ₂として０．９８質量部のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ₂Ｏ₃として１．０２質量部のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。

その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。

添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量部のＳｉＯ₂・Ａｌ₂Ｏ₃核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ₂濃度３．５質量部）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量部になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。

次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ₂・Ａｌ₂Ｏ₃多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。

上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温したあと、エチルシリケート（ＳｉＯ₂２８質量部）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。

次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量部のシリカ系微粒子の分散液を調製した。

このシリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さ、平均粒径、ＭＯｘ／ＳｉＯ₂（モル比）、及び屈折率を表３に示す。

ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定し、屈折率は標準屈折液としてＣＡＲＧＩＬＬ製のＳｅｒｉｅｓＡ、ＡＡを用い、以下の方法で測定した。

〈粒子の屈折率の測定方法〉
（１）粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。
（２）これを１２０℃で乾燥し、粉末とする。
（３）屈折率が既知の標準屈折液を２、３滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。
（４）上記（３）の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率をコロイド粒子の屈折率とする。

（低屈折率層の形成）
Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄を９５ｍｏｌ％、Ｃ₃Ｆ₇−（ＯＣ₃Ｆ₆）₂₄−Ｏ−（ＣＦ₂）₂−Ｃ₂Ｈ₄−Ｏ−ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃を５ｍｏｌ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径６０ｎｍの上記シリカ系微粒子Ｐ−１を３５質量部添加し、１．０Ｎ−ＨＣｌを触媒に用いて、さらに溶媒で希釈した低屈折率コーティング剤を作製した。

上記活性線硬化樹脂層または高屈折率層上にダイコーター法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０℃で１分間乾燥したあと、紫外線照射を行うことにより、屈折率１．３７の低屈折率層を形成した。
＜偏光板保護フィルム２である光学異方性フィルムＡ〜Ｆの作製＞
（光学異方性フィルムＡの作製）
アセチル基置換度１．３０、プロピオニル基置換度１．２５、総アシル基置換度２．５５のセルロースエステルに対し、一般式（１）の化合物Ｎｏ．６１を８質量部、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（チバ・ジャパン株式会社製）０．５質量部、アデカスタイプＰＥＰ−３６（株式会社ＡＤＥＫＡ製）０．０８質量部、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ（住友化学株式会社製）０．２質量部、シーホスターＫＥＰ−３０（株式会社日本触媒製）０．０７質量部を真空ナウターミキサーで８０℃、１Ｔｏｒｒで３時間混合しながらさらに乾燥した。

得られた混合物を、二軸式押出機を用いて２３５℃で溶融混合しペレット化した。ペレット（水分率５０ｐｐｍ）を、金属製のリーフディスク形状のフィルター、またギアポンプを組み合わせた、１軸押出機を用いてＴダイから表面温度が１２５℃の第１冷却ロール上に溶融温度２５０℃でフィルム状に溶融押し出し、幅１．０ｍのキャストフィルムを毎分１５ｍの長さで得た。

この際、第１冷却ロール上でフィルムを２ｍｍ厚の金属表面を有する弾性タッチロールで押圧した。さらに予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーンを有するテンターにて、幅手方向に１５５℃で延伸倍率５５％で延伸速度２００％／ｍｉｎで延伸したあと、３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落として、厚さ４０μｍのフィルムを得た。

得られた、光学異方性フィルムはＲｏが５０ｎｍ、Ｒｔが１３０ｎｍ、Ｒｔのばらつきは７ｎｍであった。
（光学異方性フィルムＢの作製）
光学異方性フィルムＡの作製においてセルロースエステルを、アセチル基置換度１．２０、プロピオニル基置換度１．２５、総アシル基置換度２．４５のセルロースエステルに変更し、さらに幅手方向の延伸条件を温度１５０℃、延伸倍率３０％、延伸速度７００％で延伸した以外は同様にして、光学異方性フィルムＢを作製した。得られた、光学異方性フィルムはＲｏが５０ｎｍ、Ｒｔが１３２ｎｍ、Ｒｔのばらつきは１２ｎｍであった。
（光学異方性フィルムＣの作製）
光学異方性フィルムＡの作製において、第１冷却ロール温度を１１０℃にし毎分３０ｍの速さでフィルムを作製し、さらに幅手方向の延伸条件を温度１６０℃、延伸倍率５０％、延伸速度７００％で延伸した以外は同様にして、光学異方性フィルムＣを得た。得られた、光学異方性フィルムはＲｏが５１ｎｍ、Ｒｔが１２８ｎｍ、Ｒｔのばらつきは１８ｎｍであった。
（光学異方性フィルムＤの作製）
アセチル基置換度０．３５、プロピオニル基置換度２．４７、総アシル基置換度２．８２のセルロースエステルに対し、化合物Ｂを０．５質量部、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ（住友化学株式会社製）０．１質量部、二酸化珪素部粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）０．０５質量部を真空ナウターミキサーで８０℃、１Ｔｏｒｒで３時間混合しながらさらに乾燥した。

得られた混合物を二軸式押出機を用いて２３５℃で溶融混合しペレット化した。ペレット（水分率５０ｐｐｍ）を、金属製のリーフディスク形状のフィルター、またギアポンプを組み合わせた、１軸押出機を用いてＴダイから表面温度が１０５℃の第１冷却ロール上に溶融温度２２５℃でフィルム状に溶融押し出し、幅１．０ｍのキャストフィルムを毎分１５ｍの長さで得た。

この際、第１冷却ロール上でフィルムを２ｍｍ厚の金属表面を有する弾性タッチロールで押圧した。

さらに予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーンを有するテンターにて、幅手方向に１２８℃で延伸倍率４５％で延伸速度２００％／ｍｉｎで延伸したあと、３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落として、厚さ４０μｍのフィルムを得た。

得られた、光学異方性フィルムはＲｏが４９ｎｍ、Ｒｔが１４１ｎｍ、Ｒｔのばらつきは８ｎｍであった。
化合物Ｂ

（光学異方性フィルムＥの作製）
ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン社製、ＺＥＯＮＯＲ１４２０Ｒ）のペレットを７０℃で２時間乾燥して水分を除去したあと、リーフディスク形状のポリマーフィルター、またギアポンプを組み合わせた、１軸押出機を用いてＴダイから表面温度が１０５℃の冷却ロール上に溶融温度２４５℃でフィルム状に溶融押し出し、幅１．０ｍのキャストフィルムを毎分１５ｍの長さで得た。

さらに予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーンを有するテンターにて、幅手方向に１４３℃で、延伸倍率７５％で延伸速度１５０％／ｍｉｎで延伸したあと、３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落として、厚さ４０μｍのフィルムを得た。

得られた、光学異方性フィルムはＲｏが４８ｎｍ、Ｒｔが１３８ｎｍ、Ｒｔのばらつきは７ｎｍであった。
（比較光学異方性フィルムＦの作製）
ポリプロピレン系樹脂（出光石油化学社製 Ｆ７０４）を７０℃で２時間乾燥して水分を除去したあと、リーフディスク形状のポリマーフィルター、またギアポンプを組み合わせた、１軸押出機を用いてＴダイから表面温度が１０５℃の冷却ロール上に溶融温度２４０℃でフィルム状に溶融押し出し、幅１．０ｍのキャストフィルムを毎分１５ｍの長さで得た。

さらに予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーンを有するテンターにて、幅手方向に１４０℃で、延伸倍率６５％で延伸速度１５０％／ｍｉｎで延伸したあと、３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落として、厚さ４０μｍのフィルムを得た。

得られた、光学異方性フィルムはＲｏが５０ｎｍ、Ｒｔが１４３ｎｍ、Ｒｔのばらつきは９ｎｍであった。
＜偏光板および液晶表示装置の作製＞
（アルカリケン化処理）
上記作製した保護フィルム１０１〜１２６と光学異方性フィルムＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆは下記に記載するアルカリケン化処理した。

ケン化工程 ２．５Ｍ−ＮａＯＨ ５０℃ ９０秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
中和工 １０質量部ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥。

〈偏光子の作製と貼り合わせ〉
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で６倍に製膜方向に延伸して偏光子を作った。

次に、ポリビニルアルコール系の接着剤を用いて、偏光子の透過軸とフィルムの面内遅相軸が平行になるように偏光子の片面に保護フィルム、反対面に光学異方性フィルムを表２に示す組み合わせになるように貼り合わせ偏光板１０１〜１２６を得た。
＜液晶表示装置の作製＞
得られた偏光板はソニー株式会社製３２型液晶テレビ“ＢＲＡＶＩＡ”ＫＤＬ−３２Ｊ５０００にあらかじめ貼合されていた偏光板を注意深く剥がし、もともと貼ってあった偏光板の透過軸にあわせ、光学異方性フィルム側を液晶セル側に粘着剤を介して貼り付け液晶表示装置を作製した。

硬度ムラ、平面性、光漏れ、色むらについての評価結果を表４に示す。
＜評価＞
〈硬度ムラ〉
各偏光板を６０℃９０％ＲＨの条件で１００時間放置し、２３℃５５％ＲＨに戻し１００時間を経過したあとに、異なる硬度の鉛筆を用い、１ｋｇ荷重下でＪＩＳ Ｋ５４００で示される試験法に基づき硬度試験を行った。各々の偏光板の反射防止フィルムの幅手方向に１０分割し、各位置での鉛筆硬度を測定し、下記の評価基準で評価した。

◎：各位置での表面硬度にムラが全く認められない
○：各位置での表面硬度にムラが僅かに認められる
×：各位置での表面硬度にムラが認められる
硬度ムラは○以上の評価であれば、実用上問題ない。

〈液晶表示装置での平面性〉
各液晶表示装置について、６０℃９０％ＲＨの条件で１００時間放置し、２３℃５５％ＲＨに戻し１００時間を経過したあとに、電源をオフにして液晶表示装置の表面を暗室にて３波長蛍光灯の反射光での目視から、下記評価基準で評価した。

◎：干渉縞が認められない
○：干渉縞が僅かに認められる
×：干渉縞がクッキリと現れる
平面性は○以上の評価であれば、実用上問題ない。

〈液晶表示装置での光漏れ〉
各液晶表示装置について、６０℃９０％ＲＨの条件で１００時間放置し、２３℃５５％ＲＨに戻し１００時間を経過したあとに、液晶表示装置を黒表示して画面内の光漏れを目視評価し、下記基準で評価した。

◎：光漏れがまったくない
○：弱い光漏れが１〜２箇所ある
△：強い光漏れが１〜２箇所ある
×：強い光漏れが３箇所以上ある。

光漏れは○以上の評価であれば、実用上問題ない。

〈液晶表示装置での色ムラ〉
各液晶表示装置について、６０℃９０％ＲＨの条件で１００時間放置し、２３℃５５％ＲＨに戻し１００時間を経過したあとに、液晶表示装置を暗室内で明表示して正面より目視観察し、下記基準で評価した。

○：全体的に均一であり色がない
×：画面上に僅かに色として認められる部分がある

表４に記載の通り、本発明に関わる試料では、硬度むらがほとんどなく、平面性にも優れていることがわかった。また光漏れおよび色むらがなく視認性に優れていることがわかった。一方、本発明以外の試料では、硬度むらあるいは平面性が大きく劣り、さらに光漏れあるいは色むらの視認性が劣る結果となった。

Claims (9)

1. 下記式（Ａ１）および（Ａ２）を同時に満足するセルロースエステル、および添加剤を含む組成物を加熱溶融して溶融物とし、該溶融物を流延し冷却する工程を経て得られたフィルムを、製膜方向に下記式（Ｂ）で表される延伸速度が１０００％／ｍｉｎ〜３００００％／ｍｉｎで延伸して、成膜方向または幅手方向の少なくとも一方の、下記測定方法による音速が１．６〜２．２ｋｍ／ｓであり、偏光子を介して液晶セルと反対側に用いるセルロースエステルフィルムとすることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
   式（Ａ１） ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
   式（Ａ２） １．１≦Ｙ≦２．０
   （式中、Ｘはセルロースエステルのアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基の置換度を表す。）
   式（Ｂ）
   延伸速度（％／ｍｉｎ）＝｛（延伸後寸法／延伸前寸法）−１｝×１００（％）／延伸に要する時間（ｍｉｎ）
   音速測定方法：２３℃９０％ＲＨ環境に試験試料を１時間設置し、その後同環境を１００℃へ昇温させ３時間保持した後２３℃５５％ＲＨに１時間放置し、同環境下ＳＯＮＩＣ ＳＨＥＥＴ ＴＥＳＴＥＲ（ＳＳＴ−１１０型、野村商事（株）製）を用いて測定する。
2. 前記フィルム成膜方向の延伸に加え、幅手方向に延伸速度が４００％／ｍｉｎ〜１５００％／ｍｉｎで延伸することを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
3. 前記添加剤が、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤、糖エステル可塑剤から選択される可塑剤であって、セルロースエステルに対して１〜２０質量％で含有されることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
4. 可塑剤が多価アルコールエステル系可塑剤であることを特徴とする請求項３に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
5. 前記添加剤が、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が１〜１２個結合した糖化合物の水酸基をエステル化した糖エステル可塑剤であることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
6. 可塑剤がアクリル系ポリマーであることを特徴とする請求項３に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
7. 前記添加剤が、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系化合物から選ばれる酸化防止剤であることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
8. 前記添加剤が、水素結合性溶媒であることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
9. 延伸に引き続き、縦または横方向に０％〜１０％緩和することを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。