JP5366293B2 - 液晶滴下装置及び液晶滴下方法 - Google Patents
液晶滴下装置及び液晶滴下方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5366293B2 JP5366293B2 JP2008264150A JP2008264150A JP5366293B2 JP 5366293 B2 JP5366293 B2 JP 5366293B2 JP 2008264150 A JP2008264150 A JP 2008264150A JP 2008264150 A JP2008264150 A JP 2008264150A JP 5366293 B2 JP5366293 B2 JP 5366293B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- dropping
- substrate
- stage
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
前記ノズルからの前記液晶の吐出量を測定する秤量器と、
前前記秤量器によって前記ノズルからの前記液晶の吐出量を測定し、測定した前記吐出量の適否を判定する滴下精度確認処理を実行する制御装置と、を有し、
前記制御装置は、前記滴下精度確認処理に要する期間が、前記液晶が滴下された基板を前記ステージ上から搬出し、新たな基板を前記ステージに搬入する搬出及び搬入動作に要する期間よりも長いときには、前記滴下精度確認処理を、複数回の前記搬出及び搬入動作の期間に分けて実行するように構成される。
前記ノズルからの前記液晶の吐出量を測定し、測定した前記吐出量の適否を判定する滴下精度確認工程を有し、
前記滴下精度確認工程に要する期間が、前記液晶が滴下された基板を前記ステージ上から搬出し、新たな基板を前記ステージに搬入する搬出及び搬入動作に要する期間よりも長いときには、前記滴下精度確認工程を、複数回の前記搬出及び搬入動作の期間に分けて実行するように構成される。
a.ヘッド101(ノズル123)をカップ142の上方に移動させ、ノズル123からカップ142に一回の滴下動作分の液晶201を滴下させ、その後、ヘッド101を予め設定されている待機位置に戻させる動作。
b.カップ142内の液晶(1回の滴下動作分の液晶201)201の重量を測定し、測定した液晶201の重量が許容範囲内か否かを判定する動作。
c.カップ142内の液晶201を廃棄する動作。
ここで、液晶201の重量の測定は、カップ142内に液晶201を滴下する前後での電子天秤141の測定値の差から求めることができる。また、カップ142内の液晶201の廃棄は、例えば、横転機構を介して電子天秤141の計量部上にカップ142を搭載しておき、カップ142を電子天秤141に隣接して配置した廃棄トレーに向けて横転させることにて行うことができる。
20−1、20−2、20−3、20−4 滴下ユニット(液晶滴下装置)
30 基板受け渡し機構
32 上流端
34 下流端
40 搬送ロボット
101 ヘッド
110 搭載部
111 ステージ
111a 台座
112 移動装置
120 滴下部
121 取り出しポート
122 備蓄室
123 ノズル
124 固定部
126 回転軸
127 回転部
128 カム
129 モータ
130 プランジャ
134 流路
140 容器
150 移動装置
141 電子天秤
142 カップ
160 制御装置
200 ガラス基板
201 液晶
202 シール剤
Claims (5)
- 基板を載置するステージに対して前記基板が搬入及び搬出され、前記搬入によってステージ上に載置された基板上にノズルから液晶を吐出させて滴下する液晶滴下装置において、
前記ノズルからの前記液晶の吐出量を測定する秤量器と、
前記秤量器によって前記ノズルからの前記液晶の吐出量を測定し、測定した前記吐出量の適否を判定する滴下精度確認処理を実行する制御装置と、を有し、
前記制御装置は、前記滴下精度確認処理に要する期間が、前記液晶が滴下された基板を前記ステージ上から搬出し、新たな基板を前記ステージに搬入する搬出及び搬入動作に要する期間よりも長いときには、前記滴下精度確認処理を、複数回の前記搬出及び搬入動作の期間に分けて実行することを特徴とする液晶滴下装置。 - 前記秤量器は、前記ノズルから吐出された液晶を収容する計量用容器を有し、
この計量用容器内に収容された前記液晶を廃棄する廃棄手段を備え、
前記制御装置は、前記廃棄手段を制御して前記計量用容器内に収容された前記液晶を廃棄することを特徴とする請求項1に記載の液晶滴下装置。 - 前記制御装置は、前記滴下精度確認処理での判定で前記吐出量が不適であると判定した場合に、前記ノズルから吐出させる前記液晶の量を補正することを特徴とする請求項1または2に記載の液晶滴下装置。
- 基板を載置するステージに対して前記基板が搬入及び搬出され、前記搬入によってステージ上に載置された基板上にノズルから液晶を吐出させて滴下する液晶滴下方法において、
前記ノズルからの前記液晶の吐出量を測定し、測定した前記吐出量の適否を判定する滴下精度確認工程を有し、
前記滴下精度確認工程に要する期間が、前記液晶が滴下された基板を前記ステージ上から搬出し、新たな基板を前記ステージに搬入する搬出及び搬入動作に要する期間よりも長いときには、前記滴下精度確認工程を、複数回の前記搬出及び搬入動作の期間に分けて実行するようにしたことを特徴とする液晶滴下方法。 - 前記滴下精度確認工程での判定で前記吐出量が不適であると判定した場合に、前記ノズルから吐出させる前記液晶の量を補正することを特徴とする請求項4に記載の液晶滴下方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008264150A JP5366293B2 (ja) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 液晶滴下装置及び液晶滴下方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008264150A JP5366293B2 (ja) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 液晶滴下装置及び液晶滴下方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010091950A JP2010091950A (ja) | 2010-04-22 |
JP5366293B2 true JP5366293B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=42254707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008264150A Active JP5366293B2 (ja) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 液晶滴下装置及び液晶滴下方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5366293B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106031914B (zh) * | 2015-03-12 | 2018-03-27 | 技鼎股份有限公司 | 即时监控材料供给装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11248927A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-17 | Seiko Epson Corp | フィルター製造装置とフィルター製造装置におけるインク重量測定方法 |
JP3742000B2 (ja) * | 2000-11-30 | 2006-02-01 | 富士通株式会社 | プレス装置 |
KR100488535B1 (ko) * | 2002-07-20 | 2005-05-11 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정토출장치 및 토출방법 |
JP4107248B2 (ja) * | 2003-03-12 | 2008-06-25 | セイコーエプソン株式会社 | 膜形成方法、膜形成装置、液晶の配置方法、液晶の配置装置、液晶装置、液晶装置の製造方法、並びに電子機器 |
JP2006133556A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
KR20060082641A (ko) * | 2005-01-13 | 2006-07-19 | 삼성전자주식회사 | 액정 적하량 측정 시스템 및 이를 이용한 액정 적하량측정 방법 |
JP4889967B2 (ja) * | 2005-07-01 | 2012-03-07 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 液状物質滴下装置及び液状物質滴下方法 |
JP2008155187A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Shibaura Mechatronics Corp | 液状物質滴下装置及び方法 |
-
2008
- 2008-10-10 JP JP2008264150A patent/JP5366293B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010091950A (ja) | 2010-04-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100711069B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR101932434B1 (ko) | 수지몰드장치 | |
TWI460020B (zh) | Smearing and smearing method | |
KR101375848B1 (ko) | 기판식각장치 및 이를 이용한 액정표시소자 제조라인 | |
TWI533367B (zh) | 半導體裝置的製造裝置及半導體裝置的製造方法 | |
US10684501B2 (en) | Manufacturing system and manufacturing method | |
JP2001230191A (ja) | 処理液供給方法及び処理液供給装置 | |
KR101257569B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 장치 | |
JP5576173B2 (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
JP4982306B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP5366293B2 (ja) | 液晶滴下装置及び液晶滴下方法 | |
CN108325788B (zh) | 涂敷装置以及涂敷方法 | |
CN110943005B (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
US10246782B2 (en) | Methods for etching a workpiece, an apparatus configured to etch a workpiece, and a non-transitory computer readable medium | |
JP2015026650A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
JP2007007611A (ja) | 液状物質滴下装置及び液状物質滴下方法 | |
JP4030697B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5554133B2 (ja) | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP2010058097A (ja) | 塗布方法および塗布装置、並びにプラズマディスプレイ用部材の製造方法およびその製造装置。 | |
KR20070038888A (ko) | 도포막 형성 장치 및 그 제어 방법 | |
JP7394732B2 (ja) | 樹脂供給方法、樹脂成形品の製造方法及び樹脂成形装置 | |
WO2020222303A1 (ja) | 積層面材の製造方法および装置 | |
JP2011233576A (ja) | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 | |
KR20220152140A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
JP4444739B2 (ja) | 塗布方法および塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111011 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121024 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130909 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5366293 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |