JP5343442B2 - レーザビーム整形装置 - Google Patents
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Description
さらに、集光ディスク12とピンホールディスク13との間にはビームスプリッタ16が固定配置されている。
図7において、光源30は、光ファイバの端面の点光源であって、発散光を発光する。第1凸レンズ31は、光源30からの発散光を正の屈折力により光束を光軸側に屈折させてビーム径を絞りながら凹レンズ32に入射させる。凹レンズ32は、第1凸レンズ32の出射光を負の屈折力により光束を外側に屈折させてほぼ平行光にする。各レンズの球面収差は、光源から出力された際の光強度のガウス分布を平坦な光強度分布にする。
図8(a)において、凸レンズ34では、球面収差により、その外周側に入射する光束はレンズ近くの焦点距離f1に収束し、内周に入射する光束はf1よりも遠い焦点距離f2に収束する。
また、凹レンズ32は、第1凸レンズ31でビーム径全体が絞られるため、凹レンズ32の内側にビームが入射するので凹レンズ32の球面収差は弱くなり、ビーム全体を平行光に近くすると共に光強度分布を平坦にすることができる。第2凸レンズ33は、絞られたビーム径を拡大することでズーミングを可能にする。
なお、従来からレーザー光整形装置としては、一対のレンズアレイを組み合わせたホモジナイザを用いてレーザー光の光強度分布を均一化する構成が知られている。また、二つの非球面レンズを用いてレーザー光の強度分布を均一化するという技術も知られている。
一対のレンズアレイを組み合わせたホモジナイザを用いたり、二つの非球面レンズを用いてレーザー光の強度分布を均一化する場合、構成が複雑となり、コストが高くなり、アレイレンズと非球面レンズの加工性が悪いという問題がある。
また、空間的に均一パワー分布の平行レーザービームを生成するためであるが、できたビームパワー分布は均一になっていない。
図9(a),(b)において、縦軸はビームの相対強度を示し、横軸はビーム径を示している。なお、入射光はNA=0.09の光ファイバ端面からの発散光である。
これに対して、図9(b)は、光強度分布補正後の分布であって、光強度は、ビームの中心からの距離aで急峻に減衰していることが分かる。
しかしながら、光強度はビームの中心からの距離aで急峻に減衰しているが、シェーディングは約30%程度である(周辺パワーは中心より30%低くなっている)。
ニッポウディスク式共焦点顕微鏡のレーザービームを整形し、均一ビームで試料を照明し、カメラで捕らえる蛍光イメージのシェーディングを低減し、レーザーの光量利用効率を向上することを目的としている。
一端からレーザ光を入力し他端から前記レーザの拡散光を放射状に放出する光ファイバと、該光ファイバの他端から所定の距離離れた位置で前記拡散光の光軸に配置され、前記拡散光を所定のビーム径に制御する一方の面が球状に形成され、他方の面がフラット状に形成された第1レンズと、一方の面がフラット他方の面が凹レンズ状に形成された第2レンズと、前記第2レンズから所定の距離を隔てて配置されたコリメートレンズレンズからなり、前記第1,第2レンズはフラットな面を対向させて所定の空間を隔てて配置されると共に前記第1、第2レンズの曲率、厚さを前記コリメートレンズのところで各光線が均一に分布するように光線追跡アルゴリズムを行って最適化したことを特徴とする。
一端からレーザ光を入力し他端から前記レーザの拡散光を放射状に放出する光ファイバと、該光ファイバの他端から所定の距離離れた位置で前記拡散光の光軸に配置され、前記拡散光を所定のビーム径に制御する一方の面が球状に形成され、他方の面がフラット状に形成された第1レンズと、一方の面がフラット他方の面が凹レンズ状に形成された第2レンズと、前記第2レンズから所定の距離を隔てて配置されたコリメートレンズレンズからなり、前記第1,第2レンズはフラットな面を対向させて所定の空間を隔てて配置されると共に前記第1、第2レンズの曲率、厚さを前記コリメートレンズのところで各光線が均一に分布するように光線追跡アルゴリズムを行って最適化したので、レーザビームを整形し、均一ビームで試料を照明し、カメラで捕らえる蛍光イメージのシェーディングを低減し、レーザの光量利用効率の向上を実現することができる。
図1において、光源1は、光ファイバの端面の点光源であって、発散光を発光する。一方の面が球状に形成され、他方の面がフラット状に形成された第1レンズ2は光源1からの発散光を入射する。3は一方の面がフラット他方の面が凹レンズ状に形成された第2レンズであり、第1レンズを透過したレーザビームを透過させる。これらのレンズはフラットな面を対向させて所定の空間を隔てて配置されている。
上述の構成において第1,第2レンズは新しいアルゴリズムを用いて各レンズの曲率、厚さなどを最適化されている。
即ち、ファイバから出たビームはガウス分布であり、光線の分布は不均一となっている。そのため、コリメートレンズのところで各光線が均一に分布するように光線追跡アルゴリズムを行って第1、第2レンズの曲率、厚さなどを最適化する。
従って本発明は、上記実施例に限定されることなく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、変形を含むものである。
2 第1レンズ
3 第2レンズ
4 コリメートレンズ
9 集光レンズ
11 共焦点用光スキャナ
12 集光ディスク
13 ピンホールディスク
14 ドラム
15 モータ
16 ビームスプリッタ
17 対物レンズ
18 試料
20 カメラ
31 第1凸レンズ
32,35 凹レンズ
33 第2凸レンズ
19 ピーム拡大レンズ
20 光強度分布補正光学系
30 光源
31 第1凸レンズ
32,35 凹レンズ
33 第2凸レンズ
34 凸レンズ
35 凹レンズ
Claims (1)
- 一端からレーザ光を入力し他端から前記レーザの拡散光を放射状に放出する光ファイバと、該光ファイバの他端から所定の距離離れた位置で前記拡散光の光軸に配置され、前記拡散光を所定のビーム径に制御する一方の面が球状に形成され、他方の面がフラット状に形成された第1レンズと、一方の面がフラット他方の面が凹レンズ状に形成された第2レンズと、前記第2レンズから所定の距離を隔てて配置されたコリメートレンズレンズからなり、前記第1,第2レンズはフラットな面を対向させて所定の空間を隔てて配置されると共に前記第1、第2レンズの曲率、厚さを前記コリメートレンズのところで各光線が均一に分布するように光線追跡アルゴリズムを行って最適化したことを特徴とするレーザビーム整形装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008202725A JP5343442B2 (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | レーザビーム整形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008202725A JP5343442B2 (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | レーザビーム整形装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010039246A JP2010039246A (ja) | 2010-02-18 |
JP5343442B2 true JP5343442B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=42011865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008202725A Active JP5343442B2 (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | レーザビーム整形装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5343442B2 (ja) |
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JP4976115B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2012-07-18 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 楕円ビーム整形光学系とその均一性向上方法 |
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2008
- 2008-08-06 JP JP2008202725A patent/JP5343442B2/ja active Active
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