JP5302998B2 - ウォータービーム加工装置 - Google Patents
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Description
そして、最適なコリメート径を採択することで、ノズルに導光されるレーザーのビーム品質を好適に調整して、高精度な集光調整を実現しワークの加工品質を向上させることができる。
このため、本発明に係るウォータービーム加工装置は、レンズユニットに及ぼす熱影響を低減することで、レンズユニットの熱歪みを抑制して、より精度管理が容易で高精度な集光調整が可能となる。
このため、本発明に係るウォータービーム加工装置は、集光点の位置ずれの範囲を狭くすることができるため、コリメート径調整機構によりコリメート径を調整し、XYZ軸移動テーブルにより集光点を調整することで、精度管理が容易で高精度な集光調整が可能となる。
ウォータービーム加工装置1は、ファイバ12から照射されたレーザーLをコリメートレンズ41および集光レンズ42によりノズル6の入口開口部6aに集光して、レーザーLを噴流液柱WJ内に導いている。
ファイバ12は、光ファイバケーブルであり、レーザー発振器11から発振されたレーザーLを導光して照射口12aから照射する。
XYZ軸移動テーブル2は、XY軸移動テーブル21にZ軸移動テーブル22を載置し、Z軸移動テーブル22にファイバ12を固定して、制御装置9によりファイバ12をXYZ軸方向に移動させるようになっている。
導入窓14は、レーザーL2を透過させて高圧室13a内まで導くための部材であり、一般にサファイヤやガラス部材等を採用することができる。
アパチャ3は、上下方向に移動自在にコリメート径調整機構5に支持され、レンズユニット4から分離した別体として構成されている。
ウォータービーム加工装置1では、アパチャ3がレンズユニット4から分離した別体として構成されているため、アパチャ3を効率よく冷却してレンズユニット4に対する熱影響を効果的に抑制することができる。具体的には、XYZ軸方向におけるレンズユニット4における熱歪みをそれぞれ2μm以下に低減することが可能である。このため、精度管理が容易で、高精度な集光調整が可能となる。
集光レンズ42は、平行光L3をノズル6に集光してレーザーL3を噴流液柱WJ内に導くレンズであり、本実施形態においては1枚構成としたが複数枚で構成することもできる。平行光L3は、集光レンズ42により、導入窓14から高圧室13aを通ってノズル6の入口開口部6aに集光される。
コリメート径調整機構5は、アパチャ3を支持する支持部材51と、支持部材51を光軸L0の方向に移動自在にガイドするガイド部材52と、を備え、制御装置9により支持部材51を光軸L0の方向に移動させることができるようになっている。
入口開口部6aのノズル径は、例えば100〜200μm程度であり、入口開口部6aの上面の中心に合わせてレーザーL2を集光させた場合にウォータービームWBのレーザー出力が最大(ジャストフォーカス)となる。
参照する図1は、コリメート径調整工程および焦光点調整工程が終了して集光調整が完了した状態を示す。図4は、コリメート径調整工程を示し、(a)は調整前の状態を示し、(b)は調整後の状態を示す。図5は、焦光点調整工程を示し、(a)はファイバ12の上下方向を調整した状態を示し、(b)はファイバ12の水平方向を調整してすべての調整が完了した状態を示す。なお、図4と図5において、説明の便宜上、レーザーLの照射方向等におけるずれ量を強調して表示しているが、基本的に極めて微調整の範囲である。
このため、コリメートレンズ41に到達するレーザー径d1が図4(b)に示す調整後のコリメート径dよりも大きくなりすぎている。最初に、コリメート径調整工程によりコリメート径dを調整する。
具体的には、図4(b)に示すように、レーザー出力計測装置8(図1)によりウォータービームWB(図1)の出力を検出しながら、コリメート径調整機構5によりアパチャ3を下方に移動させて予め設定したコリメート径dおよびウォータービームWBの設定出力が得られるように調整する。
具体的には、集光点調整工程では、レーザー出力計測装置8により、噴流液柱WJ内に導かれたレーザーL2(ウォータービームWB)の出力を検出しながら、ウォータービームWBの出力が最大となるように集光調整して、レーザーL2の集光点をノズル6の入口開口部6aに合わせている。
図5(b)は、図5(a)の状態からXY軸移動テーブル21により、ファイバ12を図の左方向に移動させて、ファイバ12の照射口12aの水平方向の位置を調整し、ノズル6の入口開口部6aにおける集光調整が完了した状態である。
例えば、本実施形態においては、コリメート径調整工程(図4参照)の後で集光点調整工程(図5参照)を実行することとしたが、これに限定されるものではなく、工程順を変えて集光点調整工程の後でコリメート径調整工程を実行してもよいし、予め集光点調整工程により仮調整をした後に本実施形態のようなコリメート径調整工程と集光点調整工程を実行してもよいし、コリメート径調整工程の後で集光点調整工程を実行し、さらにコリメート径調整工程を実行してもよいし、これらの工程を繰り返し実行してもよい。
2 XYZ軸移動テーブル(移動テーブル)
3 アパチャ
4 レンズユニット
5 コリメート径調整機構
6 ノズル
6a 入口開口部
8 レーザー出力計測装置(集光検出装置)
9 制御装置
11 レーザー発振器
12 ファイバ(レーザー照射源)
13 ベース部材
31 開口部
32 冷却装置
41 コリメートレンズ
42 集光レンズ
L0 光軸
L,L1,L2 レーザー
L3 平行光(レーザー)
WJ 噴流液柱(ウォータジェット)
WB ウォータービーム
WR 噴流液体
d コリメート径
Claims (2)
- レーザーを照射するレーザー照射源と、
このレーザー照射源を移動させて照射されたレーザーの焦光点を調整する移動テーブルと、
開口部を通過する前記レーザーの光量を調整するアパチャと、
このアパチャを通過したレーザーを集光させるコリメートレンズおよび集光レンズからなるレンズユニットと、
噴流液体を噴射して噴流液柱を形成するノズルと、を備え、前記レンズユニットにより集光されたレーザーを前記噴流液柱内に導いて加工するウォータービーム加工装置であって、
前記移動テーブルは、前記レーザーの光軸に直交するXY平面内、および前記光軸方向に沿うZ軸方向に移動可能なXYZ軸移動テーブルであり、
前記アパチャと前記レンズユニットとの前記光軸方向における距離を調整して前記コリメートレンズに到達するレーザー径を調整するコリメート径調整機構を備え、
前記コリメート径調整機構は、
前記レンズユニットおよび前記ノズルをベース部材に固定して配設し、
前記アパチャを前記レンズユニットに対して前記光軸方向に移動自在に前記ベース部材に配設し、
前記レンズユニットに対して前記アパチャを移動させて、当該アパチャと前記コリメートレンズとの前記光軸方向における距離を調整し、
前記アパチャは、前記レンズユニットから分離した別体として構成し、
前記レーザー照射源の照射口から前記コリメートレンズまでの距離は、前記集光レンズから前記ノズルまでの距離よりも長いこと、
を特徴とするウォータービーム加工装置。 - 前記アパチャを冷却する冷却装置を備えたことを特徴とする請求項1に記載のウォータービーム加工装置。
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