JP5268659B2 - 基板収納方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
請求項14記載の基板収納方法は、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の基板収納方法において、前記基板収納容器は、容器の前面が開放可能に設けられたフープであることを特徴とする。
上記目的を達成するために、請求項15記載の記憶媒体は、基板に所定の処理を施す基板処理室と、前記基板を収納する基板収納容器と、前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記基板収納方法は、前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、前記待機ステップにおける前記遅延時間は、前記搬入ステップにおいて、前記基板収納容器に収納される最後の基板が収納された後、計測開始されることを特徴とする。
請求項16記載の記憶媒体は、基板に所定の処理を施す基板処理室と、前記基板を収納する基板収納容器と、前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記基板収納方法は、前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板の種類に応じて変更されることを特徴とする。
請求項17記載の記憶媒体は、基板に所定の処理を施す基板処理室と、前記基板を収納する基板収納容器と、前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記基板収納方法は、前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板に施される処理内容に応じて変更されることを特徴とする。
請求項18記載の記憶媒体は基板に所定の処理を施す基板処理室と、前記基板を収納する基板収納容器と、前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記基板収納方法は、前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、前記遅延時間は、前記基板収納容器が複数の場合は、各基板収納容器に対応する前記開閉扉毎に設定されることを特徴とする。
請求項3又は請求項7記載の基板収納方法によれば、基板を基板搬送ユニットによって基板収納容器内に搬入し、その後、所定の遅延時間が経過するまで開閉扉を開放状態のまま保持して待機するので、新たな設備を追加することなく、既存の設備である排気ユニットによって形成される下降気流を利用して基板収納容器内を清浄化することができ、これによって基板の汚染を防止して歩留まり率を向上させることができることに加え、遅延時間が、基板収納容器に収納される基板に施される処理内容に応じて変更されるので、基板に施された処理内容に応じた適正遅延時間を確保して、基板に付着して基板収納容器内に持ち込まれた異物を確実に置換、排出することができる。
請求項4又は請求項11記載の基板収納方法によれば、基板を基板搬送ユニットによって基板収納容器内に搬入し、その後、所定の遅延時間が経過するまで開閉扉を開放状態のまま保持して待機するので、新たな設備を追加することなく、既存の設備である排気ユニットによって形成される下降気流を利用して基板収納容器内を清浄化することができ、これによって基板の汚染を防止して歩留まり率を向上させることができることに加え、遅延時間は、基板収納容器が複数の場合は、各基板収納容器に対応する開閉扉毎に設定されるので、各基板収納容器毎に適正な遅延時間を設定して異物を確実に排出することができる。
11 プロセスシップ
13 ローダーモジュール
14a〜14c、90 フープ
15a〜15c フープ載置台
17 もう一つの処理室
19 搬送アーム機構
20a〜20c ロードポート
25 プロセスモジュール
26 搬送アーム
34 FFU
36 ダクトファン
37 ファンユニット
40 除塵ユニット
41 大気導入口
Claims (18)
- 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法であって、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記待機ステップにおける前記遅延時間は、前記搬入ステップにおいて、前記基板収納容器に収納される最後の基板が収納された後、計測開始されることを特徴とする基板収納方法。 - 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法であって、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板の種類に応じて変更されることを特徴とする基板収納方法。 - 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法であって、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板に施される処理内容に応じて変更されることを特徴とする基板収納方法。 - 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法であって、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記遅延時間は、前記基板収納容器が複数の場合は、各基板収納容器に対応する前記開閉扉毎に設定されることを特徴とする基板収納方法。 - 前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板の種類に応じて変更されることを特徴とする請求項1記載の基板収納方法。
- 前記基板収納容器に収納される基板がダミー基板又はテスト基板である場合は、前記遅延時間を「0」に設定することを特徴とする請求項2又は5記載の基板収納方法。
- 前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板に施される処理内容に応じて変更されることを特徴とする請求項1記載の基板収納方法。
- 前記基板収納容器に収納される基板がハロゲン系処理ガスによるプラズマ処理後の基板、パージ処理後の基板又は冷却処理後の基板である場合は、前記遅延時間を「0」以外の任意の時間に設定することを特徴とする請求項3又は7記載の基板収納方法。
- 前記搬入ステップ開始前又は前記搬入ステップ開始後且つ前記待機ステップ開始前に、前記遅延時間の設定又は変更を行うことを特徴とする請求項2乃至3及び5乃至8のいずれか1項に記載の基板収納方法。
- 前記搬入ステップ開始後且つ前記待機ステップ開始前における前記遅延時間の設定又は変更には、前記遅延時間を「0」に設定することが含まれることを特徴とする請求項9記載の基板収納方法。
- 前記遅延時間は、前記基板収納容器が複数の場合は、各基板収納容器に対応する前記開閉扉毎に設定されることを特徴とする請求項1乃至3及び5乃至10のいずれか1項に記載の基板収納方法。
- 前記遅延時間は、前記基板収納容器が複数配列されている場合は、前記大気搬送室における中央部の基板収納容器に対応する開閉扉ほど短く、前記大気搬送室における両端の基板収納容器に対応する開閉扉ほど長く設定されることを特徴とする請求項4又は11記載の基板収納方法。
- 前記基板処理システムは、状況表示部を有し、前記待機ステップである旨の表示及び/又は前記待機ステップにおける前記遅延時間の経過状況が前記状況表示部に表示されることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の基板収納方法。
- 前記基板収納容器は、容器の前面が開放可能に設けられたフープであることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の基板収納方法。
- 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、
前記基板収納方法は、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記待機ステップにおける前記遅延時間は、前記搬入ステップにおいて、前記基板収納容器に収納される最後の基板が収納された後、計測開始されることを特徴とする記憶媒体。 - 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、
前記基板収納方法は、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板の種類に応じて変更されることを特徴とする記憶媒体。 - 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、
前記基板収納方法は、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記遅延時間は、前記基板収納容器に収納される前記基板に施される処理内容に応じて変更されることを特徴とする記憶媒体。 - 基板に所定の処理を施す基板処理室と、
前記基板を収納する基板収納容器と、
前記基板処理室と前記基板収納容器とを連結する大気搬送室及び該大気搬送室内に設けられた基板搬送ユニットと、
前記大気搬送室内に下降気流を形成して前記大気搬送室内の異物を底部から排出する排気ユニットと、
前記大気搬送室と前記基板収納容器との連結部に設けられた開閉扉と、
を有する基板処理システムにおける前記基板収納容器への基板収納方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、
前記基板収納方法は、
前記基板収納容器に収納された複数の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板処理室に搬入して処理し、処理後の基板を前記基板搬送ユニットによって順次前記基板収納容器内に搬入する搬入ステップと、
前記搬入ステップが終了した後、所定の遅延時間が経過するまで前記開閉扉を開放状態のまま保持する待機ステップと、を有し、
前記遅延時間は、前記基板収納容器が複数の場合は、各基板収納容器に対応する前記開閉扉毎に設定されることを特徴とする記憶媒体。
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