JP5268646B2 - 電子ビームの強度を感知するための多層検出器、方法および電子ビーム照射装置 - Google Patents
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Description
Claims (16)
- 発生される電子ビームの強度を感知するための検出器であって、
導電コアと、前記導電コア上に形成された絶縁層と、電圧電位に電気的に接続され、前記絶縁層上に形成された外側導電層とを有する多層複合構造とを有し、
前記絶縁層は、前記電子ビーム発生器と前記導電コアの間で発生するプラズマ電子が前記導電コアに到達するのを防止する厚さであり、前記プラズマ電子は、電子ビームの一次電子が空気の分子と衝突することにより前記検出器の近傍で発生する二次電子であり、
さらに、
電子ビーム発生器とターゲット領域との間で、前記電子ビーム発生器と位置合わせして前記複合構造を配置するように構成された支持体と、
電子ビーム強度を測定するために、前記導電コアの電流を検出する電流計と
を備え、
前記外側導電層は、その厚さが減少されて、前記電子ビームが通って前記導電コアに到達する窓を形成する区域を備える検出器。 - 前記外側導電層が、前記検出器の接地電位に接続される、請求項1に記載の検出器。
- 前記外側導電層が、前記検出器の近傍でプラズマから電子が引き出される速度に影響を及ぼすのに十分な電圧電位に接続される、請求項1に記載の検出器。
- 前記外側導電層が、前記導電コアを取り囲む、請求項1に記載の検出器。
- 経路に沿って電子ビームを放出するための電子ビーム発生器と、
前記電子ビーム発生器のフィラメントが内部に位置する真空チャンバと
を有する電子ビーム発生器を備えた、請求項1に記載の検出器。 - ターゲット領域内にターゲット材料を保持するための支持体を有し、前記電子ビーム発生器と前記ターゲット領域との間に位置決めされている、請求項5に記載の検出器。
- 前記複合構造が、前記真空チャンバの電子ビーム出口窓に形成される、請求項5に記載の検出器。
- 前記複合構造が、前記ターゲット領域内部でのターゲット材料の所望の走行方向に対してある角度で、且つ前記電子ビームの前記経路を横切る平面内に配置される、請求項1に記載の検出器。
- さらに、
前記絶縁層上に形成される第2の導電コアと、
前記第2の導電コア上に形成される第2の絶縁層と
を備え、
前記外側導電層が、前記第2の絶縁層上に形成され、それにより前記第2の導電コア及び前記第2の絶縁層が、前記第1の導電コアと前記外側導電層との間に形成される、
請求項1に記載の検出器。 - 前記経路に沿って発生された電子が前記導電コアに接触する前に前記外側導電層及び前記第2の導電コアを通過するように、前記経路に沿って配置された、請求項9に記載の検出器。
- 前記外側導電層が、異なる寸法で形成された複数の窓を含む請求項1に記載の検出器。
- 経路に沿って放出される電子ビームでターゲット領域を照射するための方法であって、
電子出口窓を通して、且つ経路に沿って電子ビームを放出するステップと、
前記電子出口窓から出る前記電子ビームを検出するステップと、
を備え、前記検出するステップが、導電コアと、前記導電コア上に形成される絶縁層と、前記絶縁層上に形成される外側導電層とを有する多層複合構造を用いて行われ、前記絶縁層が、プラズマ電子が前記導電コアに到達するのを防止する厚みを有するものであり、かつ前記外側導電層が電圧電位に接続され、前記プラズマ電子は、電子ビームの一次電子が空気の分子と衝突することにより前記検出器の近傍で発生する二次電子であり、
前記外側導電層は、その厚さが減少されて、前記電子ビームが通って前記導電コアに到達する窓を形成する区域を備え、
さらに、
前記導電コアの電流を測定し、電子ビームの強度を測定するステップ
を有する方法。 - 前記外側導電層が、前記検出の接地電位に接続される請求項12に記載の方法。
- 前記外側導電層が、前記検出器の近傍でプラズマから電子が引き出される速度に影響を及ぼすのに十分な電圧電位に接続される請求項12に記載の方法。
- 前記複合構造が、第2の導電コアと第2の絶縁層とを含み、前記外側導電層が、前記第2の絶縁層上に形成され、それにより前記第2の導電コア及び前記第2の絶縁層が、前記第1の導電コアと前記外側導電層との間に形成され、
前記第1の導電コア及び前記第2の導電コアに接触する電子を検出することによって、電子ビームのエネルギーをマッピングするステップ
を含む請求項12に記載の方法。 - 経路に沿って放出される電子ビームでターゲット領域を照射するための装置であって、
電子出口窓を通って、且つ経路に沿って電子ビームを放出するための手段と、
前記電子出口窓から出る前記電子ビームを検出するための検出手段と、
を備え、前記検出手段が、導電コアと、前記導電コア上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された外側導電層とを有する複合構造を含み、前記絶縁層の厚さが、プラズマ電子が前記導電コアに到達するのを防止する厚さであり、かつ前記外側導電層が電圧電位に接続され、前記プラズマ電子は、電子ビームの一次電子が空気の分子と衝突することにより前記検出器の近傍で発生する二次電子であり、
前記外側導電層は、その厚さが減少されて、前記電子ビームが通って前記導電コアに到達する窓を形成する区域を備え、
さらに、前記検出手段は、
前記導電コアの電流を検出して電子ビーム強度を測定する電流計を含んでいる
電子ビームを照射する装置。
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US4686369A (en) * | 1985-12-13 | 1987-08-11 | General Electric Company | Electric shielding for kinestatic charge detector |
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JPH07107941B2 (ja) * | 1986-03-03 | 1995-11-15 | 株式会社東芝 | 放射線検出装置 |
DE3768112D1 (de) | 1986-03-03 | 1991-04-04 | Toshiba Kawasaki Kk | Strahlungsdetektor. |
JP2609590B2 (ja) * | 1986-09-04 | 1997-05-14 | 株式会社東芝 | 二次元放射線検出器 |
JPH07107942B2 (ja) * | 1986-04-24 | 1995-11-15 | 株式会社東芝 | 放射線検出装置 |
JPS6367590A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-26 | Toshiba Corp | 二次元放射線検出器 |
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JPH1090499A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-04-10 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線発生装置 |
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JP3904380B2 (ja) * | 1999-11-29 | 2007-04-11 | ウシオ電機株式会社 | 電子線量の測定方法および電子線照射処理装置 |
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JP2002250799A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Ushio Inc | 電子ビーム処理装置 |
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