JPH1090423A - 荷電ビーム用注入深さモニター装置 - Google Patents
荷電ビーム用注入深さモニター装置Info
- Publication number
- JPH1090423A JPH1090423A JP27852296A JP27852296A JPH1090423A JP H1090423 A JPH1090423 A JP H1090423A JP 27852296 A JP27852296 A JP 27852296A JP 27852296 A JP27852296 A JP 27852296A JP H1090423 A JPH1090423 A JP H1090423A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gauge
- charged beam
- charged particle
- charged
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- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 荷電ビームの注入深さの測定を、短時間でし
かも継続的に実施可能とすることを目的とする。 【解決手段】 荷電粒子加速装置１からの荷電ビームが
表面に均一に照射される位置に、照射部位により荷電ビ
ームの通過方向の厚みが異なるように絶縁フイルム３を
階段状に重ね合わしてゲージ２を構成する。このゲージ
２の下面に、絶縁フイルムの各階段面３Ａに向かい合う
ように電極箔１１を設置した電極層１２を配置する。荷
電ビームの照射によって各電極箔１１に蓄積される電荷
を、照射部位にしたがう注入深さに対応して表示する表
示装置１５を設ける。
かも継続的に実施可能とすることを目的とする。 【解決手段】 荷電粒子加速装置１からの荷電ビームが
表面に均一に照射される位置に、照射部位により荷電ビ
ームの通過方向の厚みが異なるように絶縁フイルム３を
階段状に重ね合わしてゲージ２を構成する。このゲージ
２の下面に、絶縁フイルムの各階段面３Ａに向かい合う
ように電極箔１１を設置した電極層１２を配置する。荷
電ビームの照射によって各電極箔１１に蓄積される電荷
を、照射部位にしたがう注入深さに対応して表示する表
示装置１５を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は荷電ビーム用注入深
さモニター装置に関する。
さモニター装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】荷電ビームの加速エネルギーを測定する
場合、絶縁フイルムを階段状に重ね合わせ、これに荷電
粒子加速装置からの荷電ビームを照射し、重ね合わされ
た絶縁フイルムを通過する荷電ビームの注入深さを計測
し、その注入深さから加速エネルギーを判断することが
行なわれている。
場合、絶縁フイルムを階段状に重ね合わせ、これに荷電
粒子加速装置からの荷電ビームを照射し、重ね合わされ
た絶縁フイルムを通過する荷電ビームの注入深さを計測
し、その注入深さから加速エネルギーを判断することが
行なわれている。
【０００３】図４はその従来構成を示し、１はたとえば
静電型の荷電粒子加速装置、２は絶縁フイルム３を重ね
合わせて構成されるゲージで、各部位により荷電ビーム
の通過方向の厚みが異なるように絶縁フイルム３が階段
状に重ね合わされている。４はゲージ２の最下面の絶縁
フイルムに貼られてある電荷蓄積フイルムで、ここに到
達した荷電ビームの量に対応する電荷が蓄積される。荷
電粒子加速装置１からゲージ３の上面に均一に荷電ビー
ム５が照射される。
静電型の荷電粒子加速装置、２は絶縁フイルム３を重ね
合わせて構成されるゲージで、各部位により荷電ビーム
の通過方向の厚みが異なるように絶縁フイルム３が階段
状に重ね合わされている。４はゲージ２の最下面の絶縁
フイルムに貼られてある電荷蓄積フイルムで、ここに到
達した荷電ビームの量に対応する電荷が蓄積される。荷
電粒子加速装置１からゲージ３の上面に均一に荷電ビー
ム５が照射される。
【０００４】いま或る加速エネルギーの荷電ビームが一
定時間（たとえば１〜２時間）にわたって照射された場
合、絶縁フイルム３の積層数が最大の個所（図の例では
最左端）に照射された荷電ビームは、これが電荷蓄積フ
イルム４に到達するまでに多数枚の絶縁フイルムを透過
していくので、このときは注入深さは最大であり、その
間に多くのエネルギーが消耗される。したがって絶縁フ
イルム３の積層数が最大である個所に対応する電荷蓄積
フイルム４に蓄積される電荷量は小さい。
定時間（たとえば１〜２時間）にわたって照射された場
合、絶縁フイルム３の積層数が最大の個所（図の例では
最左端）に照射された荷電ビームは、これが電荷蓄積フ
イルム４に到達するまでに多数枚の絶縁フイルムを透過
していくので、このときは注入深さは最大であり、その
間に多くのエネルギーが消耗される。したがって絶縁フ
イルム３の積層数が最大である個所に対応する電荷蓄積
フイルム４に蓄積される電荷量は小さい。
【０００５】そして絶縁フイルム３の積層数が少なくな
る個所に対応する電荷蓄積フイルム４に蓄積される電荷
量は次第に多くなる。すなわち注入深さが浅くなるにつ
れてこの電荷量が多くなっていく。この注入深さが或る
値のときこの電荷量が最大となるが、この深さが更に浅
くなると、荷電ビームのエネルギーの消耗量が少なくな
り、そのため大きなエネルギーを持ったまま荷電ビーム
は電荷蓄積フイルム４を透過していく。したがってこの
個所に対応する電荷蓄積フイルム４に蓄積される電荷量
は逆に減少していく。
る個所に対応する電荷蓄積フイルム４に蓄積される電荷
量は次第に多くなる。すなわち注入深さが浅くなるにつ
れてこの電荷量が多くなっていく。この注入深さが或る
値のときこの電荷量が最大となるが、この深さが更に浅
くなると、荷電ビームのエネルギーの消耗量が少なくな
り、そのため大きなエネルギーを持ったまま荷電ビーム
は電荷蓄積フイルム４を透過していく。したがってこの
個所に対応する電荷蓄積フイルム４に蓄積される電荷量
は逆に減少していく。
【０００６】したがって電荷蓄積フイルム４に蓄積され
る電荷量を、各注入深さに対して示すと図５のようにな
る。この電荷蓄積フイルム４に蓄積された各電荷は、照
射された荷電ビームの線量に比例するので、この電荷を
線量計６により読み取って、各注入深さに対応する線量
を求め、これを記録計７に記録する。この記録値から電
荷量が最大となっている注入深さを求める。求めた注入
深さを過去の実績と比較し、これから加速エネルギーを
判断する。
る電荷量を、各注入深さに対して示すと図５のようにな
る。この電荷蓄積フイルム４に蓄積された各電荷は、照
射された荷電ビームの線量に比例するので、この電荷を
線量計６により読み取って、各注入深さに対応する線量
を求め、これを記録計７に記録する。この記録値から電
荷量が最大となっている注入深さを求める。求めた注入
深さを過去の実績と比較し、これから加速エネルギーを
判断する。
【０００７】しかしこのような電荷蓄積フイルムを使用
する手段によると、荷電ビームを照射したあと、この電
荷蓄積フイルムを取りだし、線量計により線量を読み取
る必要があるため、注入深さの計測に多大の時間と作業
を要する欠点がある。また加速エネルギーが変更された
場合、その変更の都度、電荷蓄積フイルムを貼り替える
などの作業が必要となる。
する手段によると、荷電ビームを照射したあと、この電
荷蓄積フイルムを取りだし、線量計により線量を読み取
る必要があるため、注入深さの計測に多大の時間と作業
を要する欠点がある。また加速エネルギーが変更された
場合、その変更の都度、電荷蓄積フイルムを貼り替える
などの作業が必要となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、荷電ビーム
の注入深さの測定を、短時間でしかも継続的に実施可能
とすることを目的とする。
の注入深さの測定を、短時間でしかも継続的に実施可能
とすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、荷電粒子加速
装置からの荷電ビームが表面に均一に照射される位置
に、照射部位により荷電ビームの通過方向の厚みが異な
るように絶縁フイルムを階段状に重ね合わしてゲージを
構成し、このゲージの下面に、絶縁フイルムの各階段面
に向かい合うように電極箔を設置した電極層を配置する
とともに、荷電ビームの照射によって各電極箔に蓄積さ
れる電荷を、照射部位にしたがう注入深さに対応して表
示する表示装置を設けたことを特徴とする。
装置からの荷電ビームが表面に均一に照射される位置
に、照射部位により荷電ビームの通過方向の厚みが異な
るように絶縁フイルムを階段状に重ね合わしてゲージを
構成し、このゲージの下面に、絶縁フイルムの各階段面
に向かい合うように電極箔を設置した電極層を配置する
とともに、荷電ビームの照射によって各電極箔に蓄積さ
れる電荷を、照射部位にしたがう注入深さに対応して表
示する表示装置を設けたことを特徴とする。
【００１０】荷電粒子加速装置からの荷電ビームがゲー
ジの表面に照射されると、その照射部位に対応する注入
深さに応じて、電極層の表面の電極箔に電荷が蓄積され
る。この電荷を各注入深さに対応して表示すれば、最大
量の電荷が蓄積されている注入深さを知ることができ
る。その深さから加速エネルギーを知ることができるよ
うになる。
ジの表面に照射されると、その照射部位に対応する注入
深さに応じて、電極層の表面の電極箔に電荷が蓄積され
る。この電荷を各注入深さに対応して表示すれば、最大
量の電荷が蓄積されている注入深さを知ることができ
る。その深さから加速エネルギーを知ることができるよ
うになる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１、図２
によって説明する。なお図４と同じ符号を付した部分は
同一または対応する部分を示す。本発明にしたがい、ゲ
ージ２の下面に、チタン箔のような電極箔１１の複数を
貼付るなどして設置した電極層１２を配置する。電極箔
１１はゲージ２の絶縁フイルム３の各階段面３Ａに向か
いあう位置に設置されてある。各電極箔１１に吸収され
た荷電粒子は、電流量として電流−電圧変換器１３に入
力され、電圧信号に変換される。
によって説明する。なお図４と同じ符号を付した部分は
同一または対応する部分を示す。本発明にしたがい、ゲ
ージ２の下面に、チタン箔のような電極箔１１の複数を
貼付るなどして設置した電極層１２を配置する。電極箔
１１はゲージ２の絶縁フイルム３の各階段面３Ａに向か
いあう位置に設置されてある。各電極箔１１に吸収され
た荷電粒子は、電流量として電流−電圧変換器１３に入
力され、電圧信号に変換される。
【００１２】この電圧信号は更にアナログ−デイジタル
変換器１４に入力され、ここで変換されたデイジタル信
号が表示装置１５により表示される。表示装置１５はた
とえばＣＲＴを備えており、その表示面に各電極箔１１
に対応する注入深さに応じた値が、たとえば図３のよう
に電荷量として表示される。
変換器１４に入力され、ここで変換されたデイジタル信
号が表示装置１５により表示される。表示装置１５はた
とえばＣＲＴを備えており、その表示面に各電極箔１１
に対応する注入深さに応じた値が、たとえば図３のよう
に電荷量として表示される。
【００１３】粒子加速装置１からの荷電ビーム５はゲー
ジ２の表面に均一に照射される。照射された荷電ビーム
５は各絶縁フィルム３を通過していく。そしてこの通過
の過程で荷電ビームは絶縁フイルム３に吸収されてい
く。このような作用は図４に示す従来構成と特に相違す
るものではない。絶縁フイルム３を通過した荷電ビーム
は電極箔１１に吸収され、ここから照射ビーム量に応じ
た電荷が電流量として電流−電圧変換器１３に入力され
る。そしてアナログ−デイジタル変換器１４を経てデイ
ジタル信号として表示装置１５により表示される。
ジ２の表面に均一に照射される。照射された荷電ビーム
５は各絶縁フィルム３を通過していく。そしてこの通過
の過程で荷電ビームは絶縁フイルム３に吸収されてい
く。このような作用は図４に示す従来構成と特に相違す
るものではない。絶縁フイルム３を通過した荷電ビーム
は電極箔１１に吸収され、ここから照射ビーム量に応じ
た電荷が電流量として電流−電圧変換器１３に入力され
る。そしてアナログ−デイジタル変換器１４を経てデイ
ジタル信号として表示装置１５により表示される。
【００１４】荷電ビーム５がゲージ２を通過する過程
で、絶縁フイルム３の積層数が多い個所すなわち注入深
さが深い部位を通過した荷電ビームが照射される電極箔
１１のビーム量は少なく、したがってその電極箔１１の
電荷量が小さく、また逆に絶縁フイルム３の積層数が少
なくて注入深さが浅い部位を通過した荷電ビームが照射
される電極箔１の電荷量も小さい。このことは従来構成
と同様である。
で、絶縁フイルム３の積層数が多い個所すなわち注入深
さが深い部位を通過した荷電ビームが照射される電極箔
１１のビーム量は少なく、したがってその電極箔１１の
電荷量が小さく、また逆に絶縁フイルム３の積層数が少
なくて注入深さが浅い部位を通過した荷電ビームが照射
される電極箔１の電荷量も小さい。このことは従来構成
と同様である。
【００１５】したがって表示装置１５による表示は図３
に示すようになる。これから最大量の電荷を発生した電
極箔、したがって注入深さ、更にはその照射部位を知る
ことが出来る。これを過去の実績から求めてあるデータ
と比較し、そのときの加速エネルギーを算出することが
できるようになる。
に示すようになる。これから最大量の電荷を発生した電
極箔、したがって注入深さ、更にはその照射部位を知る
ことが出来る。これを過去の実績から求めてあるデータ
と比較し、そのときの加速エネルギーを算出することが
できるようになる。
【００１６】この構成によれば、注入深さの計測の都
度、電極箔１１を有する電極層１２をゲージ２から取り
外す必要はなく、そのまま電極箔１１から得られる信号
をもって直接表示することができる。また加速エネルギ
ーが変更された場合でも、その変更前の状態でそのまま
継続して計測、表示することができる。
度、電極箔１１を有する電極層１２をゲージ２から取り
外す必要はなく、そのまま電極箔１１から得られる信号
をもって直接表示することができる。また加速エネルギ
ーが変更された場合でも、その変更前の状態でそのまま
継続して計測、表示することができる。
【００１７】なおこの構成を利用して加速エネルギーを
所望の値に制御することも可能である。そのためには電
極層１２の下方に金属製のターゲット１６を配置し、こ
こに到達した荷電ビームの量を採取する。そしてその採
取量に応じた電流量と電流−電圧変換器１３からの出力
を電流計１７で合成し、粒子加速装置１からの荷電ビー
ムの全量を求める。求めた値を絶縁変換器１８を介して
制御装置１９に入力する。
所望の値に制御することも可能である。そのためには電
極層１２の下方に金属製のターゲット１６を配置し、こ
こに到達した荷電ビームの量を採取する。そしてその採
取量に応じた電流量と電流−電圧変換器１３からの出力
を電流計１７で合成し、粒子加速装置１からの荷電ビー
ムの全量を求める。求めた値を絶縁変換器１８を介して
制御装置１９に入力する。
【００１８】制御装置１９には目標とする荷電粒子量が
設定されてあり、この目標値と絶縁変換器１８からの出
力とを比較して、その大小関係に対応する信号を出力し
て荷電粒子加速装置１からの出力を制御し、その出力が
目標値となるようにする。
設定されてあり、この目標値と絶縁変換器１８からの出
力とを比較して、その大小関係に対応する信号を出力し
て荷電粒子加速装置１からの出力を制御し、その出力が
目標値となるようにする。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、荷
電ビームの注入深さの測定を、短時間でしかも継続的に
実施することができる効果を奏する。
電ビームの注入深さの測定を、短時間でしかも継続的に
実施することができる効果を奏する。
【図１】本発明の実施の形態を示す配置図である。
【図２】本発明の要部を示す斜視図である。
【図３】本発明による表示例を示す表示図である。
【図４】従来構成を示す配置図である。
【図５】従来構成による表示例を示す表示図である。
１ 粒子加速装置 ２ ゲージ ３ 絶縁フイルム ３Ａ 階段面 ５ 荷電ビーム １１ 電極箔 １２ 電極層 １５ 表示装置
Claims (1)
- 【請求項１】 荷電粒子加速装置からの荷電ビームが表
面に均一に照射される位置に、照射部位により荷電ビー
ムの通過方向の厚みが異なるように絶縁フイルムを階段
状に重ね合わしてゲージを構成し、前記ゲージの下面
に、前記絶縁フイルムの各階段面に向かい合うように電
極箔を設置した電極層を配置するとともに、前記荷電ビ
ームの照射によって前記各電極箔に蓄積される電荷を、
照射部位にしたがう注入深さに対応して表示する表示装
置を設けてなる荷電ビーム用注入深さモニター装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27852296A JPH1090423A (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 荷電ビーム用注入深さモニター装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27852296A JPH1090423A (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 荷電ビーム用注入深さモニター装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1090423A true JPH1090423A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17598463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27852296A Pending JPH1090423A (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 荷電ビーム用注入深さモニター装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1090423A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009513973A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 電子ビームを感知するための多層検出器及び方法 |
-
1996
- 1996-09-11 JP JP27852296A patent/JPH1090423A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009513973A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 電子ビームを感知するための多層検出器及び方法 |
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