JP5261310B2 - 太陽電池素子の製造方法 - Google Patents
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Description
以下に、従来のシリコン太陽電池素子の代表的な製造工程について図7(a)〜(e)をもとにして説明する。
前記pn分離工程は、pn分離を行う前記pn接合部上にビスマスまたはセリウムを主成分とするガラスからなるpn分離材を塗布した後、前記pn分離材を焼成して前記シリコン基板との酸化還元反応によって酸化ケイ素層が形成される工程を含む。
測定条件としては、例えば、Arスパッターで表面から20nm程度エッチングし、モノクロAl(kα)で40.8Wのエックス線をスリット200μm、照射角45°以上の条件でBi(4f)ナロースペクトルを測定すればよい。なお、シリコン基板1と反応するpn分離材8とも比較するため、焼成後のpn分離材8をエッチングする前のpn分離材8の表面についても同条件で測定して比較した。
1a:受光面
1b:非受光面
2:拡散層
2a:pn接合部
3:反射防止膜
4:受光面側電極
5:非受光面側集電電極
6:非受光面側出力取出電極
7:p+領域
8:pn分離材
9:反応領域
10:還元物
20:測定装置
20’:測定プローブ
Claims (5)
- 一導電型を有するシリコン基板と、該シリコン基板の表面に、前記一導電型と反対の導電型を有する逆導電型層と、を備えた太陽電池素子の前記シリコン基板と前記逆導電型層との界面に形成されたpn接合部を部分的に分離するpn分離工程を備えた太陽電池素子の製造方法であって、
前記pn分離工程は、pn分離を行う前記pn接合部上にビスマスまたはセリウムを主成分とするガラスからなるpn分離材を塗布した後、前記pn分離材を焼成して前記シリコン基板との酸化還元反応によって酸化ケイ素層が形成される工程を含む太陽電池素子の製造方法。 - 前記pn分離材は、ビスマスを主成分とするガラスであり、前記ガラスは酸化ビスマスを70質量%以上90質量%以下含有する材料を用いた請求項1に記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記pn分離材を焼成する工程は600℃〜700℃の温度で行う請求項2に記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記シリコン基板の表面に電極を形成するために、該電極となるペーストを焼成する工程をさらに含み、前記ペーストの焼成を前記pn分離材の焼成と同時に行う請求項2または3に記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記ガラスは酸化ホウ素と酸化ケイ素とを合計で6質量%以上有している請求項2乃至4のいずれかに記載の太陽電池素子の製造方法。
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