JP5250134B2 - アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ - Google Patents
アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5250134B2 JP5250134B2 JP2012113493A JP2012113493A JP5250134B2 JP 5250134 B2 JP5250134 B2 JP 5250134B2 JP 2012113493 A JP2012113493 A JP 2012113493A JP 2012113493 A JP2012113493 A JP 2012113493A JP 5250134 B2 JP5250134 B2 JP 5250134B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protrusion
- reflective film
- actuator
- manufacturing
- protrusions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 111
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 27
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Description
本実施形態のアクチュエータの製造方法は、(i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第1工程と、前記可動部上に、前記反射膜を形成する第2工程と、前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)前記基板のうち前記反射膜が形成される側の表面が他の構造物に対向している場合であっても、前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を形成する第3工程とを備える。
本実施形態のアクチュエータは、反射膜が形成される可動部と、当該可動部を取り囲む支持部と、前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備え、前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、(i)前記反射膜の表面から突き出る高さを有する突起部であって、且つ(ii)対向する他の構造物に前記反射膜が接触する前に前記他の構造物に接触することで前記他の構造物が前記反射膜に接触することを抑制する突起部を備える。
はじめに、図1から図12を参照して、第1実施例のアクチュエータ101及び当該アクチュエータ101の製造方法について説明する。
はじめに、図1を参照して、第1実施例のアクチュエータ101の構成について説明する。図1は、第1実施例のアクチュエータ101の構成の一例を示す平面図及び断面図である。
続いて、図5から図11を参照して、第1実施例のアクチュエータ101を製造するための製造方法について説明する。図5は、第1実施例のアクチュエータ101を製造するための製造方法の流れを示すフローチャートである。図6から図11は、夫々、第1実施例のアクチュエータ101を製造するための製造方法の各工程が行われた場合のアクチュエータ101の状態を示す断面図及び平面図である。尚、図6から図11では、各図(a)は、各図(b)の平面図の一点鎖線での断面図を示す。
続いて、図13を参照して、第2実施例のアクチュエータ102について説明する。図13は、第2実施例のアクチュエータ102の構成の一例を示す平面図である。尚、第1実施例のアクチュエータ101と同様の構成要素については同一の参照符号を付することでその詳細な説明を省略する。
110 支持部
120 可動部
130 トーションバー
140 駆動コイル
150 電源端子
160 永久磁石
170 反射ミラー
180 突起部
213 基礎部材
214 保護膜
215 金属膜
Claims (8)
- (i)反射膜が形成される可動部と、(ii)当該可動部を取り囲む支持部と、(iii)前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーとを備えるアクチュエータの製造方法であって、
基板上に、前記可動部、前記支持部及び前記トーションバーを形成する第1工程と、
前記可動部上に、前記反射膜を形成する第2工程と、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、前記反射膜の表面から突き出る高さを有する複数の突起部を形成する第3工程と
を備え、
前記突起部の高さ及び前記突起部の前記反射膜の表面に沿った方向の幅のうちの少なくとも一方は、前記反射膜に対して照射される光の波長の長さ以下であり、
前記反射膜の表面の曲率半径がrであり、前記突起部の高さがhであり、且つ前記複数の突起部のうちのいずれか2つの突起部の間の間隔が2×Lであるとすると、前記第3工程は、数式1が示す条件を満たすように前記複数の突起部を形成することを特徴とするアクチュエータの製造方法。
- 前記突起部の高さは、前記可動部及び前記反射膜の少なくとも一方の表面粗さよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータの製造方法。
- 前記第3工程は、前記可動部内で離散的に分布する前記複数の突起部を形成することを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータの製造方法。
- 前記第3工程は、前記反射膜上において光を反射する領域に対する前記反射膜上において前記突起部の影に起因して生ずる前記光を反射しない領域の割合が、1%以下となるように、前記突起部を形成することを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータの製造方法。
- 前記第3工程は、前記突起部の形成と同時に又は並行して、前記アクチュエータの動作に関連する所定の回路を前記基板上に形成することを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータの製造方法。
- 前記突起部の表面の反射率は、前記反射膜の表面の反射率よりも低いことを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータの製造方法。
- 前記突起部の光吸収率は、前記反射膜の光吸収率よりも高いことを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータの製造方法。
- 反射膜が形成される可動部と、
当該可動部を取り囲む支持部と、
前記可動部が揺動可能なように前記可動部と前記支持部とを接続するトーションバーと
を備え、
前記可動部のうち前記反射膜が形成される側に、前記反射膜の表面から突き出る高さを有する複数の突起部を備え、
前記突起部の高さ及び前記突起部の前記反射膜の表面に沿った方向の幅のうちの少なくとも一方は、前記反射膜に対して照射される光の波長の長さ以下であり、
前記反射膜の表面の曲率半径がrであり、前記突起部の高さがhであり、且つ前記複数の突起部のうちのいずれか2つの突起部の間の間隔が2×Lであるとすると、数式2が示す条件を満たす前記複数の突起部を備えることを特徴とするアクチュエータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012113493A JP5250134B2 (ja) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012113493A JP5250134B2 (ja) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012518666A Division JPWO2013076845A1 (ja) | 2011-11-24 | 2011-11-24 | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013114257A JP2013114257A (ja) | 2013-06-10 |
JP5250134B2 true JP5250134B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=48709799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012113493A Active JP5250134B2 (ja) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5250134B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106629586B (zh) * | 2016-10-15 | 2018-06-29 | 渤海大学 | 一种可对mems微结构表面指定区域进行激励的装置及其激励方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007272140A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Citizen Miyota Co Ltd | プレーナー型アクチュエータ |
JP2008020505A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Hitachi Metals Ltd | 光スイッチ |
JP5040452B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2012-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエータ、光スキャナおよび画像形成装置 |
JP2010085880A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Seiko Epson Corp | 光偏向器及び光偏向器の製造方法 |
JP4853530B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2012-01-11 | 株式会社豊田中央研究所 | 可動部を有するマイクロデバイス |
-
2012
- 2012-05-17 JP JP2012113493A patent/JP5250134B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013114257A (ja) | 2013-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5146204B2 (ja) | 光学デバイス、光スキャナ及び画像形成装置 | |
KR100908120B1 (ko) | 전자기 마이크로 액츄에이터 | |
JP5976132B2 (ja) | アクチュエータ | |
JP4536462B2 (ja) | プレーナ型アクチュエータ及びその製造方法 | |
KR20080012346A (ko) | 광편향 소자 | |
JP4576410B2 (ja) | 電磁気方式マイクロアクチュエータおよびその製造方法 | |
JP2010098905A (ja) | プレーナ型アクチュエータ | |
JP5250134B2 (ja) | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ | |
JP6038319B2 (ja) | アクチュエータ | |
US20120236384A1 (en) | Optical device, method for manufacturing optical device, and optical scanner | |
JP5266410B2 (ja) | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ | |
JP5266411B2 (ja) | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ | |
WO2013076845A1 (ja) | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ | |
JP2013051748A (ja) | プレーナ型電磁アクチュエータ | |
JPWO2013076845A1 (ja) | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ | |
JP2015038536A (ja) | アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ | |
WO2014162521A1 (ja) | アクチュエータ | |
JP2006071678A (ja) | プレーナ型アクチュエータ | |
JP2015014753A (ja) | アクチュエータ | |
WO2016157419A1 (ja) | 光スキャナ | |
JP6241736B2 (ja) | アクチュエータ | |
JP5305776B2 (ja) | プレーナ型電磁アクチュエータ | |
JP2005292321A (ja) | プレーナ型アクチュエータの製造方法 | |
JP2013202711A (ja) | Memsデバイス | |
WO2021100803A1 (ja) | ミラースキャナ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5250134 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |