JP5246632B2 - 成膜方法および成膜装置 - Google Patents
成膜方法および成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5246632B2 JP5246632B2 JP2007054751A JP2007054751A JP5246632B2 JP 5246632 B2 JP5246632 B2 JP 5246632B2 JP 2007054751 A JP2007054751 A JP 2007054751A JP 2007054751 A JP2007054751 A JP 2007054751A JP 5246632 B2 JP5246632 B2 JP 5246632B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- angle
- film
- particle size
- experiment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 153
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 136
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 64
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 48
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 27
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 88
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 71
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 32
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 29
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 7
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 5
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 5
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
されることで膜が成長する。
上記の表を参照するに、実験Aと実験Bとを比較した場合、実験Bのほうが実験Aに比べて成膜速度が高く、また、誘電率が高くなっている。このように、粉末の粒径の大きさの分布によって、成膜の挙動や形成される膜の膜質は異なることが確認された。
(付記1)
微粒子を成膜対象へ吹き付けることによって、前記微粒子により構成される膜を形成する成膜方法であって、
前記微粒子の吹き付けの流れの前記成膜対象への入射角が、第1の角度θ1(但し、−5°<θ1<0)、第2の角度θ2(但し、0<θ2<5°)、第3の角度θ3(但し、―90°<θ3<−60°)、および第4の角度θ4(但し、60°<θ4<90°)よりなる群より選択される角度とされることを特徴とする成膜方法。
(付記2)
前記微粒子は実質的に粒径が10μm未満の脆性材料より構成され、前記入射角は前記第1の角度または前記第2の角度であることを特徴とする付記1記載の成膜方法。
(付記3)
前記微粒子は脆性材料よりなるとともに粒径が20μm以上のものを実質的に含み、前記入射角は前記第3の角度または前記第4の角度であることを特徴とする付記1記載の成膜方法。
(付記4)
前記微粒子は実質的に粒径が100μm未満の金属材料より構成され、前記入射角は前記第1の角度または前記第2の角度であることを特徴とする付記1記載の成膜方法。
(付記5)
前記微粒子は金属材料よりなるとともに粒径が200μm以上のものを実質的に含み、前記入射角は前記第3の角度または前記第4の角度であることを特徴とする付記1記載の成膜方法。
(付記6)
微粒子を基板へ吹き付けることによって、該基板上に前記微粒子により構成される膜を形成する成膜装置であって、
内部が減圧空間とされる処理容器と、
前記処理容器内に保持される前記基板に前記微粒子を吹き付ける吹きつけ手段と、を有し、
前記微粒子の吹き付けの流れの前記成膜対象への入射角が、第1の角度θ1(但し、−5°<θ1<0)、第2の角度θ2(但し、0<θ2<5°)、第3の角度θ3(但し、―90°<θ3<−60°)、および第4の角度θ4(但し、60°<θ4<90°)よりなる群より選択される角度となるように前記吹き付け手段と前記基板とが配置されることを特徴とする成膜装置。
(付記7)
前記微粒子は実質的に粒径が10μm未満の脆性材料より構成され、前記入射角は前記第1の角度または前記第2の角度であることを特徴とする付記6記載の成膜装置。
(付記8)
前記微粒子は脆性材料よりなるとともに粒径が20μm以上のものを実質的に含み、前記入射角は前記第3の角度または前記第4の角度であることを特徴とする付記6記載の成膜装置。
(付記9)
前記微粒子は実質的に粒径が100μm未満の金属材料より構成され、前記入射角は前記第1の角度または前記第2の角度であることを特徴とする付記6記載の成膜装置。
(付記10)
前記微粒子は金属材料よりなるとともに粒径が200μm以上のものを実質的に含み、前記入射角は前記第3の角度または前記第4の角度であることを特徴とする付記6記載の成膜装置。
(付記11)
微粒子を成膜対象へ吹き付けることによって、前記微粒子により構成される膜を形成する成膜方法であって、
前記微粒子は脆性材料よりなり、該微粒子の内部歪みは、0.25%未満であることを特徴とする成膜方法。
(付記12)
微粒子を成膜対象へ吹き付けることによって、前記微粒子により構成される膜を形成する成膜方法であって、
前記微粒子は金属材料よりなり、該微粒子の内部歪みは、15%以下であることを特徴とする成膜方法。
(付記13)
微粒子を基板へ吹き付けることによって、該基板上に前記微粒子により構成される膜を形成する成膜装置であって、
内部が減圧空間とされる処理容器と、
前記処理容器内に保持される前記基板に前記微粒子を吹き付ける吹きつけ手段と、
前記微粒子の粒径を検出する検出手段と、を有し、
前記検出手段によって検出される粒径に対応して、前記微粒子の吹き付けの流れの前記成膜対象への入射角が制御されるよう構成されていることを特徴とする成膜装置。
501 処理容器
502 保持台
503 保持台支持
504 吹き付け手段
505 供給ライン
506 排気ライン
507 ガスライン
508 原料容器
509 振動機
510 バルブ
511 排気ライン
512 排気手段
513 ガスタンク
601 制御手段
602 粒径検知手段
603 入射角制御手段
Claims (2)
- 金属材料で構成される微粒子を成膜対象へ吹き付けることによって、前記微粒子により構成される膜を形成する成膜方法であって、
前記微粒子の粒径を検出するステップと、
検出された粒径に対応して、前記微粒子の吹き付けの流れの前記成膜対象への入射角を制御するステップであり、
前記微粒子が実質的に粒径100μm未満の金属材料より構成される場合に、第1の角度θ1(但し、−5°<θ1<0)、および第2の角度θ2(但し、0<θ2<5°)よりなる群より選択される角度とし、
前記微粒子が、粒径100μm未満の金属材料、粒径100μm以上200μm未満の金属材料、及び粒径200μm以上の金属材料より構成される場合に、第3の角度θ3(但し、−90°<θ3<−60°)、および第4の角度θ4(但し、60°<θ4<90°)よりなる群より選択される角度とする、
ように入射角を制御するステップと、
を有することを特徴とする成膜方法。 - 微粒子を基板へ吹き付けることによって、該基板上に前記微粒子により構成される膜を形成する成膜装置であって、
内部が減圧空間とされる処理容器と、
前記処理容器内に保持される前記基板に前記微粒子を吹き付ける吹きつけ手段と、
前記微粒子の粒径を検出する検出手段と、
前記検出手段によって検出される粒径に対応して、前記微粒子の吹き付けの流れの前記基板への入射角が、
前記微粒子が実質的に粒径100μm未満の金属材料より構成される場合に、第1の角度θ1(但し、−5°<θ1<0)、および第2の角度θ2(但し、0<θ2<5°)よりなる群より選択される角度となり、
前記微粒子が、粒径100μm未満の金属材料、粒径100μm以上200μm未満の金属材料、及び粒径200μm以上の金属材料より構成される場合に、第3の角度θ3(但し、−90°<θ3<−60°)、および第4の角度θ4(但し、60°<θ4<90°)よりなる群より選択される角度となる、
ように、前記吹きつけ手段と前記基板とを配置するための制御手段と、
を有することを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007054751A JP5246632B2 (ja) | 2007-03-05 | 2007-03-05 | 成膜方法および成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007054751A JP5246632B2 (ja) | 2007-03-05 | 2007-03-05 | 成膜方法および成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008214702A JP2008214702A (ja) | 2008-09-18 |
JP5246632B2 true JP5246632B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=39835106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007054751A Active JP5246632B2 (ja) | 2007-03-05 | 2007-03-05 | 成膜方法および成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5246632B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5649023B2 (ja) * | 2009-10-16 | 2015-01-07 | 有限会社 渕田ナノ技研 | ジルコニア膜の成膜方法 |
RU2487191C1 (ru) * | 2012-02-29 | 2013-07-10 | Федеральное Государственное Бюджетное Учреждение Науки Институт Машиноведения Им. А.А. Благонравова Российской Академии Наук | Способ нанесения покрытия на металлическую основу |
JP6661269B2 (ja) * | 2015-01-14 | 2020-03-11 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | コーティング膜を備える構造体およびその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2890599B2 (ja) * | 1990-02-06 | 1999-05-17 | ソニー株式会社 | 加工方法 |
JP3265481B2 (ja) * | 1999-04-23 | 2002-03-11 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 脆性材料超微粒子成形体の低温成形法 |
JP3338422B2 (ja) * | 2000-07-06 | 2002-10-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 超微粒子材料吹き付け成膜方法 |
JP2006257549A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-09-28 | Showa Denko Kk | 熱交換器用部材およびその製造方法 |
-
2007
- 2007-03-05 JP JP2007054751A patent/JP5246632B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008214702A (ja) | 2008-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6531187B2 (en) | Method of forming a shaped body of brittle ultra fine particles with mechanical impact force and without heating | |
EP1510598B1 (en) | Method for forming an article from ultrafine particle brittle material at low temperature and ultrafine particle brittle material for use therein | |
JP2008073825A (ja) | Cmpコンディショナおよびその製造方法 | |
WO2010128572A1 (ja) | ジルコニア膜の成膜方法 | |
JP5888458B2 (ja) | 耐プラズマ性部材及びその製造方法 | |
Lee et al. | Effects of starting powder on the growth of Al2O3 films on Cu substrates using the aerosol deposition method | |
JP4006535B2 (ja) | 半導体または液晶製造装置部材およびその製造方法 | |
JP5246632B2 (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
US8114473B2 (en) | Composite structure and production method thereof | |
JP2005217351A (ja) | 耐プラズマ性を有する半導体製造装置用部材およびその作製方法 | |
JP2008081775A (ja) | アルミナ被膜形成方法 | |
JP6475829B2 (ja) | 層の製造方法 | |
JP5649026B2 (ja) | ジルコニア膜の成膜方法 | |
JP2007320797A (ja) | 複合構造物及びその製造方法 | |
JP2009013472A (ja) | スパッタリング用ターゲット、並びに、その製造方法及び再生方法 | |
JP2008111154A (ja) | 被膜形成方法 | |
EP1583163B1 (en) | Method for manufacturing film or piezoelectric film | |
JP5649023B2 (ja) | ジルコニア膜の成膜方法 | |
JP4981292B2 (ja) | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 | |
US7179718B2 (en) | Structure and method of manufacturing the same | |
JP2002309383A (ja) | 脆性材料複合構造物及びその作製方法 | |
JP2009209413A (ja) | エアロゾルデポジション法の最適実施条件の選定方法、及び成膜方法 | |
JP5649028B2 (ja) | ジルコニア膜の成膜方法 | |
JP2010084223A (ja) | 金属ケイ酸塩膜とガラス基材の複合体、金属ケイ酸塩膜と被成膜体の複合体及びそれらの製造方法 | |
JP2005330555A (ja) | 圧電セラミック厚膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090910 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090910 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120703 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130326 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130402 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5246632 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |