JP2008081775A - アルミナ被膜形成方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】前処理等を行なわなくとも優れた成膜効率でアルミナ被膜を形成できるアルミナ被膜形成方法を提供する。
【解決手段】アルミナ微粒子をガス中に分散してエアロゾル化し、該エアロゾルを基材上に噴射し衝突させて成膜を行なうエアロゾルデポジション法によるアルミナ被膜形成方法であって、上記アルミナ微粒子が、水酸化アルミニウムを原料とし、少なくとも仮焼工程を経て製造されたものであり、該アルミナ微粒子は、平均粒子径が 0.01μm〜1μm であり、比表面積が 2 m2/g〜20 m2/gである。
【選択図】図1

Description

本発明は、エアロゾルデポジション法(以下、AD法と記す)によりセラミックス微粒子、特に所定のアルミナ微粒子をガス中に分散したエアロゾルを基材に衝突させてアルミナ被膜を形成する被膜形成方法に関する。
基板上の膜の形成方法として、微粒子ビーム堆積法あるいはAD法と呼ばれる脆性材料の膜や構造物の形成方法がある。AD法は、セラミックス等の脆性材料の微粒子を含むエアロゾルをノズルから基材に向けて吐出し、基材に微粒子を衝突させて、その機械的衝撃力を利用して脆性材料の多結晶構造物を基材上にダイレクトに形成させる方法である。基材に衝突した微粒子は、微細化して新生面が発生し、この新生面の活性度が高いため、堆積が進行して緻密な膜等の多結晶構造物が形成される(例えば、特許文献1参照)。
AD法において被膜形成材料となるセラミックス微粒子としては、例えば、アルミナ微粒子が挙げられる。このアルミナ微粒子(粉末)の製造方法としては、原料として水酸化アルミニウムや塩化アルミニウムを用い、化学蒸着(CVD)を利用して製造するCVD法や、原料として水酸化アルミニウムを用い、少なくとも仮焼工程を経て製造する仮焼法等(特許文献2、特許文献3参照)がある。
また、AD法においては基材への衝突時に微粒子が容易に微細化され、成膜効率を向上できるようにするため、微粒子にクラックや応力歪等を付与しておくことが好ましい。このため従来、AD被膜形成装置に解砕機構や分級機構等を設けて、機械的にクラック等を付与する方法(特許文献4参照)が開示されている。
しかしながら、解砕機構や分級機構等を設ける場合では、成膜工程の複雑化により生産性の低下や、製造コストの増加につながるため好ましくない。よって、被膜特性や成膜効率を劣化させない範囲で、可能な限り解砕等の前処理を不要とする原材料(セラミックス微粒子)の選定が望まれている。
特許3265481号公報 特開平7−101723号公報 特開平8−290914号公報 特開2001−181859号公報
本発明はこのような問題に対処するためになされたもので、前処理等を行なわなくとも優れた成膜効率でアルミナ被膜を形成できるアルミナ被膜形成方法を提供することを目的とする。
本発明のアルミナ被膜形成方法は、アルミナ微粒子をガス中に分散してエアロゾル化し、該エアロゾルを基材上に噴射し衝突させて成膜を行なうAD法によるアルミナ被膜形成方法であって、上記アルミナ微粒子が、水酸化アルミニウムを原料とし、少なくとも仮焼工程を経て製造されたものであることを特徴とする。
また、上記アルミナ微粒子の平均粒子径は、0.01μm〜1μm であることを特徴とする。
また、上記アルミナ微粒子の比表面積は、2 m2/g〜20 m2/gであることを特徴とする。
また、上記ガスは、アルゴン、窒素またはヘリウムを含む不活性ガスであることを特徴とする。
本発明のアルミナ被膜形成方法は、AD法において、水酸化アルミニウムを原料とし、少なくとも仮焼工程を経て製造されたアルミナ微粒子を被膜材料として使用するので、該被膜材料に対する前処理等を行なわなくても成膜効率に優れる。これは、CVD法で得られるアルミナ粉末は、格子欠陥やクラックが少なく粒度分布がシャープであるが、仮焼法で得られるアルミナ粉末は、形状がいびつで格子欠陥やクラックが存在しており、基材との衝突時に微細化し易いためであると考えられる。
本発明においてAD法は、アルミナ微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材に向けてエアロゾル噴射ノズルより噴射し、エアロゾルをこの基材表面に高速で衝突させ、アルミナ微粒子の構成材料からなる被膜を基材上に形成させる方法である。エアロゾル中の一次粒子等の微細なセラミックス微粒子は、衝突により粉砕し、清浄な新生表面を形成し、低温接合を生じさせるので、室温で微粒子同士の接合を実現できる。一般に、AD法においては基材への衝突時に微粒子が容易に微細化されるようにすべく、微粒子にクラックや応力歪等を付与しておくことが好ましいとされている。
よって、本発明の被膜形成方法では、仮焼工程を経て製造された格子欠陥やクラックが存在するアルミナ微粒子を被膜材料として選定することで、別途前処理等を不要としながらも、成膜効率や緻密性の向上を図っている。
本発明のアルミナ被膜形成方法に使用するアルミナ微粒子は、水酸化アルミニウムを原料とし、少なくとも仮焼工程を経て製造されたものであればよい。
例えば、バイエル法で得られた水酸化アルミニウムを 400℃〜1200℃程度の所定雰囲気下で仮焼して遷移アルミナとする仮焼工程を経た後、この遷移アルミナを焼成して製造されたαアルミナ微粒子等が挙げられる(上記特許文献2等参照)。この仮焼工程を経ることで、最終的に得られるアルミナ微粒子に、格子欠陥やクラックが付与されると考えられる。
このようなアルミナ微粒子としては、例えば、住友化学社製AKP、HIT、CAHシリーズ等が挙げられる。
アルミナ微粒子の平均粒子径は、0.01μm〜1μm であることが好ましい。さらに好ましくは、0.1μm〜0.5μm である。0.01μm 未満では凝集しやすくエアロゾル化は困難であり、1μm をこえるとAD法での膜形成が困難となる(膜成長しない)。なお、本発明において平均粒子径は日機装株式会社製:レーザー式粒度分析計マイクロトラックMT3000によって測定した値である。
アルミナ微粒子の比表面積は、2 m2/g〜20 m2/gであることが好ましい。さらに好ましくは 2.5 m2/g〜15 m2/gであり、最も好ましくは 6 m2/g〜15 m2/gである。比表面積が 2 mm2/g 未満の場合、凹凸が少なく球状に近い微粒子となり基材への衝突時に微細化されにくくなる。また、比表面積が 20 m2/g をこえる場合、微粒子は微細化し、基材との衝突エネルギーが小さいため、破壊しにくくなるので好ましくない。なお、本発明において比表面積は、BET法により測定された値をいう。
仮焼工程を経て製造されたアルミナ微粒子は、球状よりも比表面積が大きくなる形状、例えば、球状粒子表面に複数の凹凸が形成された粒子、粒子全体としていびつな形状の粒子、またはこれらの組み合わせた形状となり、格子欠陥やクラックが存在しやすい。
AD法では室温で微粒子同士の接合を実現でき、高温にさらされることによる原料セラミックスの変態による物性低下を招くこともない。例えば、絶縁性に優れたαアルミナを用いても溶射法ではγアルミナに変態して絶縁性が低下するため、膜厚を増加させる必要があるが、AD法でαアルミナを用いると絶縁性の高いαアルミナのままで成膜できるので、膜厚を増加させずに絶縁性の高いセラミックス層が得られる。
上記アルミナ微粒子をエアロゾル原料に用いた本発明の被膜形成方法を図1に基づいて説明する。図1はAD法により、基材である軸受外輪の外径面にアルミナ被膜を形成する場合の被膜形成装置を示す図である。
図1に示すように、AD法による被膜形成装置1は真空チャンバー2とエアロゾル発生装置8とを有する。真空チャンバー2内には、被膜形成対象の基材である外輪4と、エアロゾル噴射ノズル9とが配設されている。真空チャンバー2の内部は真空ポンプ3によって減圧される。アルミナ微粒子の混入を防止するため、真空ポンプ3の直前に微粒子フィルター10が設けられている。
エアロゾル噴射ノズル9は、アルミナ微粒子を、長方形等の開口部を有するノズル先端から、基材である外輪4に噴射するものである。なお、エアロゾル噴射ノズル9は、1本であっても複数本であってもよい。また、エアロゾル噴射ノズル9は、真空チャンバー2内で変位可能に構成してもよい。
エアロゾル発生装置8内に、仮焼工程を経て製造されたαアルミナ微粒子をいれ、ガス供給設備7からエアロゾル発生装置8に搬送ガスを供給して、該アルミナ微粒子と搬送ガスとからなるエアロゾルを形成する。使用可能な搬送ガスとしては、アルゴン、窒素、ヘリウム等の不活性ガスが挙げられる。
エアロゾル噴射ノズル9には、エアロゾル発生装置8から上記のエアロゾルが供給される。固定したエアロゾル噴射ノズル9から、対象物回転用モータ6により所定回転数で回転(図中A)している外輪4に、上記のエアロゾルが噴射され、外輪4の外径面にαアルミナ被膜が塗り重ねられて形成される。同時に、位置決め用XYテーブル5により外輪4を軸方向に移動(図中B)させることで、外輪4のXY方向にも均一に被膜が形成される。
ここで、使用する原料のアルミナ微粒子が、仮焼工程を経て製造され、微小なクラックや応力歪が付与されていることから、基材である外輪4との衝突時に微細化し易く、外輪4等の曲面上にも容易に成膜できる。
実施例1〜実施例3、比較例1〜比較例2
表1に示すアルミナ微粒子(住友化学社製:商品型番は表中記載)を、エアロゾル発生装置(図1参照)に入れ、真空チャンバー内に取り付けた軸受鋼SUJ2製テスト基板(縦 30 mm×横 30 mm、厚み 3 mm )表面にAD法でセラミックス被膜を 5 分間形成した。
AD法は位置決め用XYテーブルを用いて、6 mm/分で移動するテスト基板に、100 Pa 以下の減圧下で、開口サイズ 10 mm×0.3 mm のノズルを通して上記アルミナ微粒子のエアロゾルを噴射して 10 mm×10 mm の被膜形成を行なった。なお、搬送ガスには窒素ガスを用い、粒子速度は搬送ガス流量で制御した。
得られた被膜の膜厚を測定し、成膜条件を評価した。結果を表1に示す。なお、成膜速度(μm・cm/分)は 1 分間にスキャン距離 1 cm につき形成される被膜の厚さ(μm )を意味する。被膜厚さは、接触式表面形状測定器(日本真空技術社製:Dectak3030)を用いて測定した。
Figure 2008081775
表1に示すように、仮焼工程を経て製造されたアルミナ微粒子を用いた各実施例は、成膜効率に優れていた。また、平均粒子径が同等であっても、比表面積が異なると成膜効率に差が認められた。
本発明のアルミナ被膜形成方法は、前処理等を行なわなくとも優れた成膜効率でアルミナ被膜を形成できるので、各種産業機械に用いられる耐熱耐摩耗性、耐久性、耐食・耐絶縁性等の要求される各種部材へのアルミナ被膜形成時において好適に利用できる。
AD法による被膜形成装置を示す図である
符号の説明
1 被膜形成装置
2 真空チャンバー
3 真空ポンプ
4 外輪
5 位置決め用XYテーブル
6 対象物回転用モータ
7 ガス供給設備
8 エアロゾル発生装置
9 エアロゾル噴射ノズル
10 微粒子フィルター

Claims (4)

  1. アルミナ微粒子をガス中に分散してエアロゾル化し、該エアロゾルを基材上に噴射し衝突させて成膜を行なうエアロゾルデポジション法によるアルミナ被膜形成方法であって、
    前記アルミナ微粒子が、水酸化アルミニウムを原料とし、少なくとも仮焼工程を経て製造されたものであることを特徴とするアルミナ被膜形成方法。
  2. 前記アルミナ微粒子の平均粒子径は、0.01μm〜1μm であることを特徴とする請求項1記載のアルミナ被膜形成方法。
  3. 前記アルミナ微粒子の比表面積は、2 m2/g〜20 m2/gであることを特徴とする請求項1または請求項2記載のアルミナ被膜形成方法。
  4. 前記ガスは、アルゴン、窒素またはヘリウムを含む不活性ガスであることを特徴とする請求項1、請求項2または請求項3記載のアルミナ被膜形成方法。
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