JP5241785B2 - 光ビーム再配置光学系、光学素子および光源装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 101
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 title claims description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 66
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
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- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Description
光ビームの進行方向に沿って第1光学素子と、第2光学素子とを備え、
第1光学素子は、透明な平行平面基板で形成され、該基板の入射面および出射面には透過領域および反射領域が区分的に設けられ、光ビームは、反射領域での反射回数に応じて互いに異なるシフト量で第2方向に沿ってシフトするように構成されており、
第2光学素子は、透明な平行平面基板で形成され、該基板の入射面および出射面には透過領域および反射領域が区分的に設けられ、光ビームは、反射領域での反射回数に応じて互いに異なるシフト量で第1方向に沿ってシフトするように構成されていることを特徴とする。
基板の第1主面には、直線状の境界で区分された透過領域および反射領域が設けられ、
基板の第2主面には、直線状の境界に対して斜め方向に延びる階段状の境界で区分された透過領域および反射領域が設けられることを特徴とする。
発光素子からの各光ビームを、第1方向に対して垂直な第2方向に集光するための第2方向コリメータレンズと、
第2方向コリメータレンズからの各光ビームを、第1方向に集光するための第1方向コリメータレンズと、
第1方向コリメータレンズからの各光ビームを、第2方向に配列した複数の光ビームに再配置するための上記の光ビーム再配置光学系とを備えることを特徴とする。
図1は本発明の実施の形態1を示す構成図であり、図1(a)は平面図、図1(b)は側面図である。光源装置は、LDパッケージ10と、コリメータ光学系20と、光ビーム再配置光学系30などを備える。ここで理解容易のため、LDパッケージ10から出力される光ビームの進行方向をX方向とし、光ビームの配列方向をY方向とし、X方向およびY方向に垂直な方向をZ方向とする。
13 LD(レーザダイオード)チップ、 20 コリメータ光学系、
21 FAC(速軸方向コリメータ)、 22 SAC(遅軸方向コリメータ)、
30 光ビーム再配置光学系、 31,32 光学素子、
31a,32a 入射面、 31b,32b 出射面、
B1〜B7 光ビーム、 HR 反射領域、 HT 透過領域。
Claims (3)
- 第1方向に配列した複数の光ビームを、第1方向に対して垂直な第2方向に配列した複数の光ビームに再配置するための光ビーム再配置光学系であって、
光ビームの進行方向に沿って第1光学素子と、第2光学素子とを備え、
第1光学素子は、透明な平行平面基板で形成され、該基板の入射面および出射面には透過領域および反射領域が区分的に設けられ、光ビームは、反射領域での反射回数に応じて互いに異なるシフト量で第2方向に沿ってシフトするように構成されており、
第2光学素子は、透明な平行平面基板で形成され、該基板の入射面および出射面には透過領域および反射領域が区分的に設けられ、光ビームは、反射領域での反射回数に応じて互いに異なるシフト量で第1方向に沿ってシフトするように構成されていることを特徴とする光ビーム再配置光学系。 - 透明な平行平面基板を備え、
基板の第1主面には、直線状の境界で区分された透過領域および反射領域が設けられ、
基板の第2主面には、直線状の境界に対して斜め方向に延びる階段状の境界で区分された透過領域および反射領域が設けられることを特徴とする光学素子。 - 第1方向に配列した複数の光ビームを発生する発光素子と、
発光素子からの各光ビームを、第1方向に対して垂直な第2方向に集光するための第2方向コリメータレンズと、
第2方向コリメータレンズからの各光ビームを、第1方向に集光するための第1方向コリメータレンズと、
第1方向コリメータレンズからの各光ビームを、第2方向に配列した複数の光ビームに再配置するための請求項1記載の光ビーム再配置光学系とを備えることを特徴とする光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010186717A JP5241785B2 (ja) | 2010-08-24 | 2010-08-24 | 光ビーム再配置光学系、光学素子および光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010186717A JP5241785B2 (ja) | 2010-08-24 | 2010-08-24 | 光ビーム再配置光学系、光学素子および光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012047766A JP2012047766A (ja) | 2012-03-08 |
JP5241785B2 true JP5241785B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=45902767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010186717A Active JP5241785B2 (ja) | 2010-08-24 | 2010-08-24 | 光ビーム再配置光学系、光学素子および光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5241785B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8599485B1 (en) * | 2012-05-25 | 2013-12-03 | Corning Incorporated | Single-emitter etendue aspect ratio scaler |
KR101738155B1 (ko) * | 2015-06-10 | 2017-05-22 | 주식회사 필옵틱스 | 라인 빔 형성 장치 |
EP3491450B1 (en) | 2016-07-27 | 2024-02-28 | TRUMPF Laser GmbH | Laser line illumination |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007102121A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Sony Corp | 像変換装置 |
JP2009271206A (ja) * | 2008-05-01 | 2009-11-19 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ光整形光学系及びそれを用いたレーザ光供給装置 |
-
2010
- 2010-08-24 JP JP2010186717A patent/JP5241785B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012047766A (ja) | 2012-03-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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