JP5228513B2 - Organic EL device - Google Patents

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Description

この発明は、有機EL装置とその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic EL device and a method for manufacturing the same.

従来から、一対の電極の間に有機発光層を挟持した複数の発光素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、有機EL装置という)が知られている。有機EL装置は、これら複数の発光素子を被覆する封止層を備えた素子基板と、前記素子基板に対向して配置され、接着層を介して素子基板に接着された封止基板と、各基板の周辺部を接着する枠状のシール層と、を備えている(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−173868号公報
2. Description of the Related Art Conventionally, an organic electroluminescence device (hereinafter, referred to as an organic EL device) including a plurality of light emitting elements in which an organic light emitting layer is sandwiched between a pair of electrodes is known. The organic EL device includes an element substrate including a sealing layer that covers the plurality of light emitting elements, a sealing substrate that is disposed to face the element substrate and is bonded to the element substrate via an adhesive layer, And a frame-shaped sealing layer that adheres the peripheral portion of the substrate (see, for example, Patent Document 1).
JP 2003-173868 A

しかしながら、上記従来の有機EL装置は、未硬化のシール層材料を一方の基板上に枠状に配置し、その内側に液状の接着層材料が配置した後、シール材を配置した基板に他方の基板を対向配置して接着することにより形成される。そのため、接着層材料が両基板の間で圧縮されて両基板の外周側に押し出され、未硬化のシール層材料を損傷する虞がある。シール層材料が損傷すると、接着層材料が枠状のシール層の外側に漏出するという課題がある。   However, in the conventional organic EL device, an uncured sealing layer material is arranged in a frame shape on one substrate, and after a liquid adhesive layer material is arranged on the inside thereof, the other substrate is arranged on the substrate on which the sealing material is arranged. It is formed by arranging the substrates facing each other and bonding them. Therefore, the adhesive layer material is compressed between the two substrates and pushed out to the outer peripheral side of both the substrates, which may damage the uncured seal layer material. When the sealing layer material is damaged, there is a problem that the adhesive layer material leaks outside the frame-shaped sealing layer.

そこで、この発明は、接着層材料を介して素子基板と封止基板とを接着する際に、接着層材料が外部に漏出することを防止できる有機EL装置とその製造方法を提供するものである。   Therefore, the present invention provides an organic EL device capable of preventing the adhesive layer material from leaking to the outside when the element substrate and the sealing substrate are bonded via the adhesive layer material, and a method for manufacturing the same. .

上記の課題を解決するために、本発明の有機EL装置は、一対の電極の間に少なくとも有機発光層を有する機能層を挟持した複数の発光素子と、前記複数の発光素子を被覆する封止層と、を有する素子基板と、前記素子基板に対向配置され、接着層を介して前記素子基板に接着された封止基板と、を備え、前記複数の発光素子が配置された表示領域の外側に、前記接着層の周縁部を収容して前記接着層の外縁を規定する溝状の周辺凹部が、前記表示領域を囲んで形成されていることを特徴とする。
上記の課題を解決するために、本発明の有機EL装置は、一対の電極の間に発光層を有する複数の発光素子および前記複数の発光素子を被覆する封止層が設けられた素子基板と、着色層および前記着色層を被覆する被覆層が設けられた封止基板と、が接着層により前記発光素子と前記着色層とが対向するように接着された有機EL装置であって、前記被覆層には、前記複数の発光素子が配置された表示領域を囲むように前記着色層の外側に周辺凹部が設けられており、前記接着層の周縁部は、前記周辺凹部内に配置され、前記周辺凹部により前記接着層の外縁を規定することを特徴とする。
上記の課題を解決するために、本発明の有機EL装置は、一対の電極の間に発光層を有する複数の発光素子および前記複数の発光素子を被覆する封止層が設けられた素子基板と、着色層および前記着色層を被覆する被覆層が設けられた封止基板と、が接着層により前記発光素子と前記着色層とが対向するように接着された有機EL装置であって、前記被覆層には、前記複数の発光素子が配置された表示領域を囲むように前記着色層の外側に周辺凹部が設けられており、前記封止層と前記被覆層との間に設けられた前記接着層は、前記封止層の周辺端部とは接しておらず、前記接着層の周縁部は、前記周辺凹部内に配置されており、前記周辺凹部により、前記接着層の外縁が規定されていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, an organic EL device of the present invention includes a plurality of light-emitting elements each having a functional layer having at least an organic light-emitting layer between a pair of electrodes, and a sealing covering the plurality of light-emitting elements. And a sealing substrate disposed opposite to the element substrate and bonded to the element substrate via an adhesive layer, and outside the display region in which the plurality of light emitting elements are disposed In addition, a groove-shaped peripheral recess that accommodates a peripheral portion of the adhesive layer and defines an outer edge of the adhesive layer is formed surrounding the display region.
In order to solve the above-described problems, an organic EL device according to the present invention includes a plurality of light-emitting elements each having a light-emitting layer between a pair of electrodes, and an element substrate provided with a sealing layer that covers the plurality of light-emitting elements. An organic EL device in which a colored layer and a sealing substrate provided with a coating layer covering the colored layer are bonded so that the light emitting element and the colored layer are opposed to each other by an adhesive layer, The layer is provided with a peripheral recess on the outer side of the colored layer so as to surround the display area in which the plurality of light emitting elements are disposed, and a peripheral edge of the adhesive layer is disposed in the peripheral recess, An outer edge of the adhesive layer is defined by a peripheral recess.
In order to solve the above-described problems, an organic EL device according to the present invention includes a plurality of light-emitting elements each having a light-emitting layer between a pair of electrodes, and an element substrate provided with a sealing layer that covers the plurality of light-emitting elements. An organic EL device in which a colored layer and a sealing substrate provided with a coating layer covering the colored layer are bonded so that the light emitting element and the colored layer are opposed to each other by an adhesive layer, The layer is provided with a peripheral recess on the outside of the colored layer so as to surround the display region in which the plurality of light emitting elements are arranged, and the adhesion provided between the sealing layer and the covering layer The layer is not in contact with the peripheral edge of the sealing layer, the peripheral edge of the adhesive layer is disposed in the peripheral recess, and the peripheral recess defines the outer edge of the adhesive layer It is characterized by being.

このように構成することで、素子基板と封止基板とを接合する際に、両基板間の表示領域に未硬化の接着層材料を配置して、両基板により接着層材料を挟み込んで圧迫すると、接着層材料が両基板間で圧縮されて表示領域から両基板の外周側に押し出される。このとき、周辺凹部の内側の表示領域から両基板の外周側に押し出された接着層材料の周縁部は、周辺凹部に流入して収容される。これにより、接着層材料の周縁部が周辺凹部を越えて両基板の外周側へ押し出されることが防止される。したがって、接着層材料が外部に漏出することを防止でき、接着層材料が硬化した後の接着層の外縁を周辺凹部により規定することができる。   With this configuration, when the element substrate and the sealing substrate are bonded, an uncured adhesive layer material is disposed in the display region between the two substrates, and the adhesive layer material is sandwiched between the substrates and pressed. The adhesive layer material is compressed between the two substrates and pushed out of the display area to the outer peripheral side of the two substrates. At this time, the peripheral edge portion of the adhesive layer material pushed out from the display area inside the peripheral concave portion to the outer peripheral side of both substrates flows into and is accommodated in the peripheral concave portion. This prevents the peripheral edge portion of the adhesive layer material from being pushed out to the outer peripheral side of both substrates beyond the peripheral recess. Therefore, the adhesive layer material can be prevented from leaking to the outside, and the outer edge of the adhesive layer after the adhesive layer material is cured can be defined by the peripheral recess.

また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部は、前記封止基板の前記素子基板に対向する面に形成されていることを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記接着層は、前記素子基板と接する部分を有さないことを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部の外側には、シール層が設けられており、前記シール層と前記接着層とは接する部分を有さないことを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板および前記接着層は、光透過性を有する材料により形成されており、前記着色層を区画する遮光層が前記着色層と前記周辺凹部との間に設けられていることを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部と前記シール層との間の前記被覆層は、撥液性を有することを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部の外側には、シール層が設けられており、前記シール層と前記接着層とは接する部分を有しておらず、前記封止層は、前記シール層の外側まで延在するように設けられていることを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板および前記接着層は、光透過性を有する材料により形成されており、平面視において、前記着色層を区画する遮光層は、前記着色層と前記周辺凹部との間に設けられており、前記接着層と前記着色層とは、互いに接する部分を有しておらず、前記接着層と前記遮光層とは、前記周辺凹部において接していることを特徴とする。
In the organic EL device of the present invention, the peripheral recess is formed on a surface of the sealing substrate facing the element substrate.
The organic EL device of the present invention is characterized in that the adhesive layer does not have a portion in contact with the element substrate.
Further, the organic EL device of the present invention is characterized in that a seal layer is provided outside the peripheral recess, and there is no portion in contact with the seal layer and the adhesive layer.
In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate and the adhesive layer are formed of a light-transmitting material, and a light-shielding layer that partitions the colored layer is formed between the colored layer and the peripheral recess. It is provided between them.
The organic EL device of the present invention is characterized in that the coating layer between the peripheral recess and the seal layer has liquid repellency.
Further, in the organic EL device of the present invention, a seal layer is provided outside the peripheral recess, and the seal layer does not have a portion in contact with the adhesive layer. It is provided so that it may extend to the outer side of the said sealing layer.
In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate and the adhesive layer are formed of a light-transmitting material, and the light-shielding layer that partitions the colored layer in plan view is the same as the colored layer. Provided between the peripheral recesses, the adhesive layer and the colored layer do not have a portion in contact with each other, and the adhesive layer and the light shielding layer are in contact with each other at the peripheral recess. It is characterized by.

このように構成することで、周辺凹部の内側の表示領域から両基板の外周側に押し出された接着層の材料の周縁部を、封止基板の周辺凹部に流入させて収容し、接着層の材料が外部に漏出することを防止できる。   By comprising in this way, the peripheral part of the material of the adhesive layer extruded from the display area inside the peripheral concave part to the outer peripheral side of both substrates is accommodated by flowing into the peripheral concave part of the sealing substrate. The material can be prevented from leaking outside.

また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板は、封止基板本体と、該封止基板本体の前記素子基板に対向する面に形成された被覆層と、を備え、前記周辺凹部は、前記被覆層に形成されていることを特徴とする。   In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate includes a sealing substrate main body and a coating layer formed on a surface of the sealing substrate main body facing the element substrate, and the peripheral recess is It is formed in the said coating layer, It is characterized by the above-mentioned.

このように構成することで、封止基板本体の表面に形成された被覆層をパターニングすして、封止基板に周辺凹部を形成することができる。   By comprising in this way, the surrounding recessed part can be formed in a sealing substrate by patterning the coating layer formed in the surface of the sealing substrate main body.

また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板本体および前記接着層は、それぞれ光透過性を有する材料により形成され、前記封止基板は、前記封止基板上の前記表示領域に形成された複数の着色層と、前記着色層を区画する遮光層と、を備え、前記被覆層は、前記着色層および前記遮光層を覆って形成されていることを特徴とする。   In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate body and the adhesive layer are each formed of a light-transmitting material, and the sealing substrate is formed in the display area on the sealing substrate. A plurality of colored layers and a light shielding layer that partitions the colored layers, and the covering layer is formed to cover the colored layer and the light shielding layer.

このように構成することで、封止基板本体上に形成された着色層と遮光層とを覆う比較的膜厚の大きい被覆層に周辺凹部を形成し、周辺凹部の容量を拡大して接着層材料の収容力を向上させ、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止できる。   By comprising in this way, a peripheral recessed part is formed in the coating layer with a comparatively large film thickness which covers the coloring layer and light shielding layer which were formed on the sealing substrate main body, the capacity | capacitance of a peripheral recessed part was expanded, and an adhesive layer The capacity of the material can be improved, and leakage of the adhesive layer material to the outside can be prevented more effectively.

また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部よりも前記封止基板の外周側の、前記封止基板の前記素子基板側の面が撥液化されていることを特徴とする。   The organic EL device of the present invention is characterized in that the surface of the sealing substrate on the element substrate side, which is closer to the outer periphery of the sealing substrate than the peripheral recess, is made liquid repellent.

このように構成することで、周辺凹部が接着層材料に満たされて、接着層材料が周辺凹部よりも封止基板の外周側へ溢れ出ようとした場合に、周辺凹部よりも封止基板の外周側の、封止基板の素子基板側の面により、接着層材料が弾かれて周辺凹部内に留められる。したがって、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止できる。   With this configuration, when the peripheral concave portion is filled with the adhesive layer material and the adhesive layer material is about to overflow to the outer peripheral side of the sealing substrate from the peripheral concave portion, the sealing substrate is more than the peripheral concave portion. The adhesive layer material is bounced by the surface on the element substrate side of the sealing substrate on the outer peripheral side and is retained in the peripheral recess. Therefore, leakage of the adhesive layer material to the outside can be more effectively prevented.

また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部によって囲まれた領域の外側に、前記素子基板の周辺部と前記封止基板の周辺部とを接着するシール層が形成されていることを特徴とする。   In the organic EL device of the present invention, a seal layer for bonding the peripheral portion of the element substrate and the peripheral portion of the sealing substrate is formed outside the region surrounded by the peripheral recess. And

このように構成することで、シール層により両基板間を封止することができ、水分等の浸入を防止して発光素子の劣化を防止することができる。   With such a configuration, the two substrates can be sealed with the sealing layer, and moisture and the like can be prevented from entering to prevent the light emitting element from deteriorating.

また、本発明の有機EL装置は、前記シール層は、前記周辺凹部から前記封止基板の外周方向に離間して配置されていることを特徴とする。   Moreover, the organic EL device of the present invention is characterized in that the seal layer is disposed apart from the peripheral recess in the outer peripheral direction of the sealing substrate.

このように構成することで、シール層と周辺凹部との間に空間が形成される。これにより、素子基板と封止基板を接合する際に、両基板の外周側に押し出された接着層材料によってシール層が損傷することをより確実に防止して、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止することができる。   With this configuration, a space is formed between the seal layer and the peripheral recess. As a result, when the element substrate and the sealing substrate are bonded, it is possible to more reliably prevent the sealing layer from being damaged by the adhesive layer material extruded to the outer peripheral side of both substrates, and to leak the adhesive layer material to the outside. Can be prevented more effectively.

また、本発明の有機EL装置の製造方法は、素子基板上の表示領域に、一対の電極の間に少なくとも有機発光層を有する機能層を挟持した複数の発光素子を形成する工程と、前記素子基板上に、前記複数の発光素子を被覆する封止層を形成する工程と、前記素子基板に対向配置される封止基板の前記素子基板に対向する面に、前記表示領域を囲む溝状の周辺凹部を形成する工程と、前記封止基板の前記素子基板に対向する面の前記周辺凹部の内側に、液状の接着層材料を配置する工程と、前記素子基板の前記封止層が形成された面と、前記封止基板の前記接着層材料が配置された面とを対向させ、前記接着層材料を介して前記素子基板と前記封止基板とを貼り合わせる接着工程と、を有し、前記接着工程において、前記封止基板の外周側に押し出された前記接着層材料を前記周辺凹部に収容して、前記周辺凹部により前記接着層材料の外縁を規定することを特徴とする。   In addition, the method for manufacturing an organic EL device of the present invention includes a step of forming a plurality of light emitting elements having a functional layer having at least an organic light emitting layer between a pair of electrodes in a display region on an element substrate, Forming a sealing layer covering the plurality of light emitting elements on the substrate; and a groove-like shape surrounding the display region on a surface of the sealing substrate opposed to the element substrate facing the element substrate A step of forming a peripheral recess, a step of disposing a liquid adhesive layer material inside the peripheral recess of a surface of the sealing substrate facing the element substrate, and the sealing layer of the element substrate being formed And an adhesion step of bonding the element substrate and the sealing substrate through the adhesive layer material, with the surface facing the surface on which the adhesive layer material of the sealing substrate is disposed, In the bonding step, the outer peripheral side of the sealing substrate is pressed. Said adhesive layer material issued housed in the peripheral recess, characterized in that it defines the outer edge of the adhesive layer material by said peripheral recess.

このように製造することで、素子基板と封止基板とを接合する際に、両基板間の表示領域に未硬化の接着層材料を配置して、両基板により接着層材料を挟み込んで圧迫すると、接着層材料が両基板間で圧縮されて表示領域から両基板の外周側に押し出される。このとき、周辺凹部の内側の表示領域から両基板の外周側に押し出された接着層材料の周縁部は、周辺凹部に流入して収容される。これにより、接着層材料の周縁部が周辺凹部を越えて両基板の外周側へ押し出されることが防止される。したがって、接着層材料が外部に漏出することを防止でき、接着層材料が硬化した後の接着層の外縁を周辺凹部により規定することができる。   By manufacturing in this way, when bonding the element substrate and the sealing substrate, placing an uncured adhesive layer material in the display area between the two substrates and pressing the adhesive layer material between both substrates and pressing The adhesive layer material is compressed between the two substrates and pushed out of the display area to the outer peripheral side of the two substrates. At this time, the peripheral edge portion of the adhesive layer material pushed out from the display area inside the peripheral concave portion to the outer peripheral side of both substrates flows into and is accommodated in the peripheral concave portion. This prevents the peripheral edge portion of the adhesive layer material from being pushed out to the outer peripheral side of both substrates beyond the peripheral recess. Therefore, the adhesive layer material can be prevented from leaking to the outside, and the outer edge of the adhesive layer after the adhesive layer material is cured can be defined by the peripheral recess.

また、本発明の有機EL装置の製造方法は、前記接着工程の前に、前記周辺凹部よりも前記封止基板の外周側の、前記被覆層の前記素子基板側の面を撥液化する工程を有することを特徴とする。   Moreover, the manufacturing method of the organic EL device of the present invention includes a step of lyophobic the surface of the covering layer on the element substrate side, which is closer to the outer periphery of the sealing substrate than the peripheral recesses, before the bonding step. It is characterized by having.

このように製造することで、接着工程において接着層材料が周辺凹部に流入し、周辺凹部が接着層材料に満たされて、接着層材料が周辺凹部よりも封止基板の外周側へ溢れ出ようとした場合に、周辺凹部よりも封止基板の外周側の、封止基板の素子基板側の面により、接着層材料が弾かれて周辺凹部内に留められる。したがって、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止できる。   By manufacturing in this way, the adhesive layer material flows into the peripheral recesses in the bonding process, the peripheral recesses are filled with the adhesive layer material, and the adhesive layer material overflows from the peripheral recesses to the outer peripheral side of the sealing substrate. In this case, the adhesive layer material is repelled by the surface on the element substrate side of the sealing substrate on the outer peripheral side of the sealing substrate relative to the peripheral recess, and is retained in the peripheral recess. Therefore, leakage of the adhesive layer material to the outside can be more effectively prevented.

また、本発明の有機EL装置の製造方法は、前記接着工程の前に、前記周辺凹部によって囲まれた領域の外側の領域に対応する前記素子基板上の領域にシール層材料を配置する工程を有し、前記接着工程において、前記シール層材料を介して前記素子基板の周辺部と前記封止基板の周辺部とを接合することを特徴とする。   Further, the method for manufacturing an organic EL device of the present invention includes a step of disposing a seal layer material in a region on the element substrate corresponding to a region outside the region surrounded by the peripheral recesses before the bonding step. And in the bonding step, the peripheral portion of the element substrate and the peripheral portion of the sealing substrate are bonded via the seal layer material.

このように製造することで、接着工程において接着層による素子基板と封止基板との接着と、シール層による両基板間の封止とを一括して行うことができる。また、接着工程において両基板の外周側に押し出された接着層材料を周辺凹部に収容して外縁を規定することができるので、押し出された接着層材料により未硬化のシール層材料が損傷することが防止され、接着層材料が外部に流出することが防止される。   By manufacturing in this way, it is possible to collectively bond the element substrate and the sealing substrate by the adhesive layer and seal between the two substrates by the sealing layer in the bonding step. Further, since the adhesive layer material extruded to the outer peripheral side of both substrates in the bonding process can be accommodated in the peripheral recess and the outer edge can be defined, the uncured seal layer material is damaged by the extruded adhesive layer material. Is prevented, and the adhesive layer material is prevented from flowing out.

また、本発明の有機EL装置の製造方法は、前記シール層材料は、前記素子基板と前記封止基板とを接着したときに、前記シール層材料が前記周辺凹部から前記封止基板の外周方向に離間するように配置することを特徴とする。   In the organic EL device manufacturing method of the present invention, when the sealing layer material is bonded to the element substrate and the sealing substrate, the sealing layer material moves from the peripheral recess to the outer peripheral direction of the sealing substrate. It arrange | positions so that it may space apart.

このように製造することで、素子基板と封止基板を接合する際に、シール層と周辺凹部との間に空間が形成される。そのため、両基板の外周側に押し出された接着層材料が、万一、周辺凹部を乗り越えて両基板の外周側に溢れ出た場合であっても、その空間によって溢れ出た接着層材料を受容することができる。したがって、接着層材料によってシール層が損傷することをより確実に防止して、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止することができる。   By manufacturing in this way, a space is formed between the sealing layer and the peripheral recess when the element substrate and the sealing substrate are bonded. Therefore, even if the adhesive layer material extruded to the outer peripheral side of both substrates gets over the peripheral recesses and overflows to the outer peripheral side of both substrates, the adhesive layer material overflowing by the space is received. can do. Therefore, it is possible to more reliably prevent the sealing layer from being damaged by the adhesive layer material, and more effectively prevent leakage of the adhesive layer material to the outside.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following drawings, the scale is appropriately changed for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.

図1は、本実施形態の有機EL装置の配線構造を示す模式図である。この有機EL装置1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:以下、TFT)を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線101と、各走査線101に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線102と、各信号線102に並列に延びる複数の電源線103とからなる配線構成を有し、走査線101と信号線102との各交点付近にサブ画素Xを形成したものである。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a wiring structure of the organic EL device of this embodiment. The organic EL device 1 is of an active matrix type using thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) as switching elements, and has a plurality of scanning lines 101 and a direction that intersects each scanning line 101 at a right angle. A wiring configuration including a plurality of signal lines 102 extending and a plurality of power supply lines 103 extending in parallel to each signal line 102, and sub-pixels X are formed in the vicinity of each intersection of the scanning line 101 and the signal line 102 It is.

信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路100が接続されている。また、走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路80が接続されている。   A data line driving circuit 100 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is connected to the signal line 102. Further, a scanning line driving circuit 80 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101.

さらに、サブ画素Xの各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT(スイッチング素子)112と、このスイッチング用TFT112を介して信号線102から共有される画素信号を保持する保持容量113と、この保持容量113によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT(スイッチング素子)123と、この駆動用TFT123を介して電源線103に電気的に接続したときに電源線103から駆動電流が流れ込む陽極10と、この陽極10と陰極11との間に挟み込まれた発光層(有機発光層)12が設けられている。   Further, each of the sub-pixels X includes a switching TFT (switching element) 112 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101, and a pixel shared from the signal line 102 via the switching TFT 112. A holding capacitor 113 for holding a signal, a driving TFT (switching element) 123 to which a pixel signal held by the holding capacitor 113 is supplied to the gate electrode, and the power supply line 103 through the driving TFT 123 are electrically connected. An anode 10 into which a drive current flows from the power supply line 103 when connected, and a light emitting layer (organic light emitting layer) 12 sandwiched between the anode 10 and the cathode 11 are provided.

この有機EL装置1によれば、走査線101が駆動されてスイッチング用TFT112がオン状態になると、そのときの信号線102の電位が保持容量113に保持され、この保持容量113の状態に応じて、駆動用TFT123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT123のチャネルを介して、電源線103から陽極10に電流が流れ、さらに発光層12を介して陰極11に電流が流れる。発光層12は、これを流れる電流量に応じて発光する。   According to the organic EL device 1, when the scanning line 101 is driven and the switching TFT 112 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor 113, and according to the state of the holding capacitor 113. The on / off state of the driving TFT 123 is determined. Then, current flows from the power supply line 103 to the anode 10 through the channel of the driving TFT 123, and further current flows to the cathode 11 through the light emitting layer 12. The light emitting layer 12 emits light according to the amount of current flowing through it.

次に、本実施形態の有機EL装置1の具体的な態様を、図2〜図4を参照して説明する。ここで、図2は有機EL装置1の構成を模式的に示す平面図である。図3は有機EL装置1を模式的に示す断面図である。図4は、図3の要部(A部)を示す図である。   Next, specific modes of the organic EL device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 2 is a plan view schematically showing the configuration of the organic EL device 1. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the organic EL device 1. FIG. 4 is a view showing a main part (A part) of FIG.

図2に示すように、有機EL装置1は、素子基板本体21上に形成された上述の各種配線、TFT、及び各種回路により発光層12を発光させるTFT素子基板(以下「素子基板」という。)20を備えている。また、図2では図示を省略するが、素子基板20に対向して封止基板30が配置されている。
素子基板20及び封止基板30は、後述する複数の発光素子及び着色層が形成された領域に対応する表示領域4(中央部分に二点鎖線で示す枠内の領域)と、表示領域4の周囲に配置されたダミー領域5(一点鎖線と二点鎖線との間の領域)とを備えている。
As shown in FIG. 2, the organic EL device 1 includes a TFT element substrate (hereinafter referred to as “element substrate”) that causes the light emitting layer 12 to emit light by the above-described various wirings, TFTs, and various circuits formed on the element substrate body 21. ) 20. Although not shown in FIG. 2, the sealing substrate 30 is disposed so as to face the element substrate 20.
The element substrate 20 and the sealing substrate 30 include a display area 4 (area in a frame indicated by a two-dot chain line in the center portion) corresponding to an area where a plurality of light emitting elements and a colored layer, which will be described later, are formed. A dummy region 5 (a region between a one-dot chain line and a two-dot chain line) arranged around is provided.

表示領域4内には、複数の画素領域R,G,Bがマトリクス状に配置されている。画素領域R,G,Bは、それぞれ、図1のサブ画素Xが備える陽極10、発光層12、及び陰極11を発光素子として備えている。そして、発光素子から射出された光を各画素領域R,G,Bの着色層に透過させることにより、各画素領域R,G,Bから、それぞれR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の光を取り出すことができるように構成されている。   In the display area 4, a plurality of pixel areas R, G, and B are arranged in a matrix. Each of the pixel regions R, G, and B includes an anode 10, a light emitting layer 12, and a cathode 11 included in the subpixel X of FIG. 1 as light emitting elements. Then, the light emitted from the light emitting element is transmitted through the colored layers of the pixel regions R, G, and B, so that the R (red), G (green), and B ( (Blue) light can be extracted.

また、画素領域R,G,Bの各々は、紙面縦方向において同一色で配列しており、いわゆるストライプ配置を構成している。そして、画素領域R,G,Bが一つのまとまりとなって、表示単位画素が構成されており、表示単位画素はR,G,Bの発光を混色させてフルカラー表示を行うようになっている。   In addition, each of the pixel regions R, G, and B is arranged in the same color in the vertical direction of the paper, and forms a so-called stripe arrangement. The pixel regions R, G, and B are combined into one display unit pixel, and the display unit pixel performs full color display by mixing the light emission of R, G, and B. .

素子基板20上の表示領域4の図2中両側であって、ダミー領域5の下層側には、走査線駆動回路80が配置されている。また、素子基板20上の表示領域4の図2中上方側であってダミー領域5の下層側には、検査回路90が配置されている。この検査回路90は、有機EL装置1の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段(不図示)を備え、製造途中や出荷時における有機EL装置1の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。   Scanning line driving circuits 80 are arranged on both sides of the display area 4 on the element substrate 20 in FIG. 2 and on the lower layer side of the dummy area 5. Further, an inspection circuit 90 is arranged on the upper side in FIG. 2 of the display region 4 on the element substrate 20 and on the lower layer side of the dummy region 5. This inspection circuit 90 is a circuit for inspecting the operating state of the organic EL device 1, and includes, for example, inspection information output means (not shown) for outputting the inspection result to the outside, and the organic EL during production or at the time of shipment. The apparatus 1 is configured to be able to inspect the quality and defects.

図3に示すように、本実施形態の有機EL装置1は、いわゆる「トップエミッション構造」の有機EL装置である。トップエミッション構造は、光を素子基板20側ではなく封止基板30側から取り出すため、素子基板20に配置された各種回路の大きさに影響されず、発光面積を広く確保できる効果がある。そのため、電圧及び電流を抑えつつ輝度を確保することが可能であり、発光素子22の寿命を長く維持することができる。   As shown in FIG. 3, the organic EL device 1 of the present embodiment is a so-called “top emission structure” organic EL device. Since the top emission structure extracts light not from the element substrate 20 side but from the sealing substrate 30 side, there is an effect that a wide light emitting area can be secured without being affected by the size of various circuits arranged on the element substrate 20. Therefore, luminance can be ensured while suppressing voltage and current, and the lifetime of the light emitting element 22 can be maintained long.

図3に示すように、本実施形態の有機EL装置1は、素子基板20と、素子基板20に対向して配置され、接着層34及びシール層35を介して素子基板20に接着された封止基板30とを備えている。
素子基板20上には、陽極10と陰極11との間に、発光層(有機発光層)12を含む機能層を挟持した複数の発光素子22が形成されている。そして、これら複数の発光素子22を覆うように封止層23が形成されている。以下、これらの構成についてさらに詳しく説明する。
As shown in FIG. 3, the organic EL device 1 according to the present embodiment includes an element substrate 20, a seal that is disposed to face the element substrate 20 and is bonded to the element substrate 20 via an adhesive layer 34 and a seal layer 35. A stop substrate 30 is provided.
On the element substrate 20, a plurality of light emitting elements 22 are formed with a functional layer including a light emitting layer (organic light emitting layer) 12 interposed between the anode 10 and the cathode 11. And the sealing layer 23 is formed so that these light emitting elements 22 may be covered. Hereinafter, these configurations will be described in more detail.

素子基板20は、素子基板本体21と、素子基板本体21の封止基板30側の面を覆う無機絶縁層14とを備えている。素子基板本体21は、例えばシリコン等により形成され、無機絶縁層14は窒化珪素等により形成されている。素子基板本体21上には、駆動用TFT123や、その他、図1に示す各種配線等(図3では図示省略)が形成され、無機絶縁層14はこれらを覆うように形成されている。   The element substrate 20 includes an element substrate main body 21 and an inorganic insulating layer 14 that covers a surface of the element substrate main body 21 on the sealing substrate 30 side. The element substrate main body 21 is formed of, for example, silicon, and the inorganic insulating layer 14 is formed of silicon nitride or the like. On the element substrate body 21, the driving TFT 123 and other various wirings shown in FIG. 1 (not shown in FIG. 3) are formed, and the inorganic insulating layer 14 is formed so as to cover them.

無機絶縁層14上には、アルミ合金等からなる金属反射板15が内装された平坦化層16が形成されている。平坦化層16は、絶縁性の樹脂材料、例えば、感光性のアクリル樹脂や環状オレフィン樹脂等により形成されている。   On the inorganic insulating layer 14, a planarizing layer 16 is formed in which a metal reflector 15 made of an aluminum alloy or the like is housed. The planarizing layer 16 is formed of an insulating resin material, for example, a photosensitive acrylic resin or a cyclic olefin resin.

平坦化層16上の金属反射板15に平面的に重なる領域には、発光素子22の陽極10が形成されている。陽極10は、例えば仕事関数が5eV以上の正孔注入層の高いITO(Indium Thin Oxide:インジウム錫酸化物)等の金属酸化物により形成されている。陽極10は、平坦化層16及び無機絶縁層14を貫通するコンタクトホールを介して、素子基板本体21上の駆動用TFT123に接続されている。   The anode 10 of the light emitting element 22 is formed in a region overlapping the metal reflector 15 on the planarizing layer 16 in a plane. The anode 10 is made of, for example, a metal oxide such as ITO (Indium Thin Oxide) having a high hole injection layer having a work function of 5 eV or more. The anode 10 is connected to the driving TFT 123 on the element substrate body 21 through a contact hole that penetrates the planarization layer 16 and the inorganic insulating layer 14.

また、平坦化層16上には、発光素子22を区画する絶縁性の画素隔壁13が形成されている。画素隔壁13は、陽極10の上部を露出させる複数の開口部を備えている。   An insulating pixel partition wall 13 that partitions the light emitting element 22 is formed on the planarizing layer 16. The pixel partition wall 13 includes a plurality of openings that expose the upper portion of the anode 10.

この開口部と画素隔壁13による凹凸形状に沿って、画素隔壁13及び陽極10の上面を覆うように発光層12が形成されている。発光層12としては、例えば、スリチルアミン系発光層にアントラセン系のドーパントをドーピングした層(青色)と、スリチルアミン系発光層にルブレン系のドーパントをドーピングした層(黄色)と、を同時に発光させて白色発光を実現している発光材料を用いることができる。   A light emitting layer 12 is formed so as to cover the upper surface of the pixel partition wall 13 and the anode 10 along the uneven shape formed by the opening and the pixel partition wall 13. As the light emitting layer 12, for example, a layer in which an anthracene-based dopant is doped in a stiltylamine-based luminescent layer (blue) and a layer in which a stiltylamine-based luminescent layer is doped with a rubrene-based dopant (yellow) are allowed to emit light simultaneously. A light-emitting material that can emit light can be used.

なお、図示は省略するが、本実施形態では、陽極10と発光層12との間に、トリアリールアミン多量体(ATP)層(正孔注入層)、トリフェニルジアミン系誘導体(TPD)層(正孔輸送層)、発光層12と陰極11との間にアルミニウムキノリノール(Alq3)層(電子注入層)、LiF(電子注入バッファー層)がそれぞれ成膜され、各電極からの電子および正孔の注入を容易にさせる構成となっている。本実施形態では、これら正孔注入層、正孔輸送層、発光層12、電子注入層及び電子注入バッファー層により機能層が構成されている。   Although illustration is omitted, in the present embodiment, a triarylamine multimer (ATP) layer (hole injection layer), a triphenyldiamine derivative (TPD) layer (between the anode 10 and the light emitting layer 12 ( A hole transport layer), an aluminum quinolinol (Alq3) layer (electron injection layer) and a LiF (electron injection buffer layer) are formed between the light emitting layer 12 and the cathode 11, respectively. The structure facilitates injection. In this embodiment, the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer 12, the electron injection layer, and the electron injection buffer layer constitute a functional layer.

発光層12上には、発光層12の凹凸形状に沿って、発光層12を覆うように、陰極11が形成されている。陰極11は、トップエミッション構造の有機EL装置1においては光透過性を有する材料により形成する必要がある。したがって、陰極11の材料としては、例えば、ITO、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス導電膜(Indium Zinc Oxide:IZO/アイ・ゼット・オー(登録商標))等を用いることができる。   A cathode 11 is formed on the light emitting layer 12 so as to cover the light emitting layer 12 along the uneven shape of the light emitting layer 12. In the organic EL device 1 having a top emission structure, the cathode 11 needs to be formed of a light transmissive material. Therefore, as the material of the cathode 11, for example, ITO, an indium oxide / zinc oxide based amorphous conductive film (Indium Zinc Oxide: IZO / IZET O (registered trademark)), or the like can be used.

また、陰極11は、電子注入効果の大きい(仕事関数が4eV以下)材料が好適に用いられる。例えば、カルシウムやマグネシウム、ナトリウム、リチウム金属、又はこれらの金属化合物である。金属化合物としては、フッ化カルシウム等の金属フッ化物や酸化リチウム等の金属酸化物、アセチルアセトナトカルシウム等の有機金属錯体が該当する。また、これらの材料だけでは、電気抵抗が大きく電極としての性能が低下するため、発光部分を避けるようにアルミニウムや金、銀、銅などの金属層をパターン形成したり、ITOや酸化錫などの透光性を有する金属酸化物導電層との積層体と組み合わせて用いたりしてもよい。
本実施形態では、陰極11の材料としてフッ化リチウムとマグネシウム−銀合金、ITOの積層体を、透光性が得られる膜厚に調整して用いている。
For the cathode 11, a material having a large electron injection effect (a work function of 4 eV or less) is preferably used. For example, calcium, magnesium, sodium, lithium metal, or a metal compound thereof. Examples of the metal compound include metal fluorides such as calcium fluoride, metal oxides such as lithium oxide, and organometallic complexes such as acetylacetonato calcium. In addition, these materials alone have a large electric resistance and the performance as an electrode is lowered, so that a metal layer such as aluminum, gold, silver, or copper is patterned so as to avoid a light emitting portion, or ITO, tin oxide, or the like is formed. You may use in combination with the laminated body with the metal oxide conductive layer which has translucency.
In the present embodiment, a laminate of lithium fluoride, a magnesium-silver alloy, and ITO is used as the material of the cathode 11 so as to have a film thickness that can provide translucency.

また、素子基板20上には、無機絶縁層14、平坦化層16、及び発光素子22の陰極11を覆って、電極保護層17が形成されている。電極保護層17は、例えば、珪素酸窒化物等の珪素化合物により形成されている。   In addition, an electrode protective layer 17 is formed on the element substrate 20 so as to cover the inorganic insulating layer 14, the planarization layer 16, and the cathode 11 of the light emitting element 22. The electrode protective layer 17 is made of, for example, a silicon compound such as silicon oxynitride.

電極保護層17上には、電極保護層17を覆うように有機緩衝層18が形成されている。この有機緩衝層18は、画素隔壁13とその開口部による凹凸形状を埋めるように形成され、素子基板20上を平坦化している。   An organic buffer layer 18 is formed on the electrode protective layer 17 so as to cover the electrode protective layer 17. The organic buffer layer 18 is formed so as to fill the uneven shape formed by the pixel partition wall 13 and the opening thereof, and the element substrate 20 is planarized.

有機緩衝層18は、光透過性を有する材料により構成され、原料主成分としては、減圧雰囲気下でスクリーン印刷法により形成するために、流動性に優れ、かつ溶媒や揮発成分の無い、全てが高分子骨格の原料となる有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノマー/オリゴマーが用いられる(モノマーの定義:分子量1000以下、オリゴマーの定義:分子量1000〜3000)。例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマーやビスフェノールF型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、アルキルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3',4'-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどがあり、これらが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。   The organic buffer layer 18 is composed of a light-transmitting material, and as a raw material main component, it is excellent in fluidity and free from any solvent or volatile component because it is formed by a screen printing method under a reduced pressure atmosphere. It is necessary to be an organic compound material used as a raw material for the polymer skeleton, and preferably an epoxy monomer / oligomer having an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less is used (monomer definition: molecular weight 1000 or less, oligomer definition: molecular weight 1000 to 3000). ). For example, bisphenol A type epoxy oligomer, bisphenol F type epoxy oligomer, phenol novolac type epoxy oligomer, polyethylene glycol diglycidyl ether, alkyl glycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, There are ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarbochelate, and these are used alone or in combination.

また、エポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、電気絶縁性や接着性に優れ、かつ硬度が高く強靭で耐熱性に優れる硬化被膜を形成するものがよく、透光性に優れ、かつ硬化のばらつきの少ない付加重合型がよい。例えば、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、メチル−3,6−エンドメチレン−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤が好ましい。さらに、酸無水物の反応(開環)を促進する反応促進剤として1,6−ヘキサンジオールなど分子量が大きく揮発しにくいアルコール類やアミノフェノールなどのアミン化合物を微量添加することで低温硬化しやすくなる。これらの硬化は60〜100℃の範囲の加熱で行われ、その硬化被膜はエステル結合を持つ高分子となる。
また、硬化時間を短縮するためよく用いられるカチオン放出タイプの重合開始剤を用いてもよいが、硬化収縮が急激に進まないよう反応の遅いものが良く、また、塗布後の加熱による粘度低下で平坦化を進めるように最終的には熱硬化を用いて硬化物を形成するものが好ましい。
Further, as the curing agent that reacts with the epoxy monomer / oligomer, one that forms a cured film having excellent electrical insulation and adhesiveness, high hardness, toughness and excellent heat resistance, excellent translucency, and curing. An addition polymerization type with little variation in the size is preferred. For example, 3-methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, methyl-3,6-endomethylene-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4,5-benzene Acid anhydride curing agents such as tetracarboxylic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are preferred. Furthermore, low-temperature curing is facilitated by adding trace amounts of amine compounds such as alcohols and aminophenols that have a high molecular weight and are difficult to volatilize such as 1,6-hexanediol as reaction accelerators that promote the reaction (ring opening) of acid anhydrides. Become. These curings are performed by heating in the range of 60 to 100 ° C., and the cured film becomes a polymer having an ester bond.
In addition, a cation-releasing type polymerization initiator often used for shortening the curing time may be used. However, a slow reaction may be used so that curing shrinkage does not rapidly advance, and the viscosity is reduced by heating after coating. What forms a hardened | cured material finally using thermosetting so that planarization may be advanced is preferable.

有機緩衝層18上には、有機緩衝層18を覆い、さらに電極保護層17の終端部までを覆うガスバリア層19が形成されている。ガスバリア層19は、透光性、ガスバリア性、耐水性を考慮して、例えば、窒素を含む珪素化合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物等によって形成される。また、本実施形態では、ガスバリア層19は、材質や膜厚を適宜調整することにより、可視光領域における光線透過率を例えば80%以上にしている。
本実施形態では、このガスバリア層19と、上述の電極保護層17及び有機緩衝層18により、発光素子22を覆う封止層23が形成されている。
A gas barrier layer 19 is formed on the organic buffer layer 18 so as to cover the organic buffer layer 18 and further to the terminal portion of the electrode protective layer 17. The gas barrier layer 19 is formed of, for example, a silicon compound containing nitrogen, that is, silicon nitride, silicon oxynitride, or the like in consideration of translucency, gas barrier properties, and water resistance. In the present embodiment, the gas barrier layer 19 has a light transmittance in the visible light region of, for example, 80% or more by appropriately adjusting the material and film thickness.
In the present embodiment, a sealing layer 23 that covers the light emitting element 22 is formed by the gas barrier layer 19, the electrode protective layer 17, and the organic buffer layer 18 described above.

素子基板20のガスバリア層19が形成された面には、封止基板30が対向して配置されている。封止基板30は、接着層34及びシール層35を介して素子基板20上のガスバリア層19に接着されている。封止基板30は、ガラスまたは透明プラスチック(ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネ―ト、ポリオレフィン等)等の光透過性を有する材料で構成された封止基板本体31を備えている。   On the surface of the element substrate 20 on which the gas barrier layer 19 is formed, the sealing substrate 30 is disposed so as to face the surface. The sealing substrate 30 is bonded to the gas barrier layer 19 on the element substrate 20 via the adhesive layer 34 and the seal layer 35. The sealing substrate 30 includes a sealing substrate body 31 made of a light-transmitting material such as glass or transparent plastic (polyethylene terephthalate, acrylic resin, polycarbonate, polyolefin, etc.).

封止基板本体31の素子基板20と対向する面には、着色層37として、赤色着色層37R、緑色着色層37G、青色着色層37Bがマトリクス状に配列形成されている。また、各着色層37の周囲には、各着色層37を区画するブラックマトリクス層(遮光層)32が形成されている。着色層37及びブラックマトリクス層32は、封止基板30を素子基板20に位置合わせして接着ときに、図2に示す表示領域4に配置されるように形成されている。着色層37の膜厚は、例えば、約0.1〜1.5μm程度に調整されている。また、その幅は、約10〜15μm程度で設定されている。   A red colored layer 37R, a green colored layer 37G, and a blue colored layer 37B are arranged in a matrix on the surface of the sealing substrate body 31 facing the element substrate 20 as the colored layer 37. Further, a black matrix layer (light-shielding layer) 32 that partitions each colored layer 37 is formed around each colored layer 37. The coloring layer 37 and the black matrix layer 32 are formed so as to be disposed in the display region 4 shown in FIG. 2 when the sealing substrate 30 is aligned with the element substrate 20 and bonded. The film thickness of the colored layer 37 is adjusted to about 0.1 to 1.5 μm, for example. The width is set to about 10 to 15 μm.

着色層37の各々は、陽極10上に形成された白色の発光層12に対向して平面的に重なるように配置されている。これにより、発光層12から射出された光が、着色層37の各々を透過し、赤色光、緑色光、青色光の各色光として観察者側に射出されるように構成されている。   Each of the colored layers 37 is disposed so as to overlap the white light emitting layer 12 formed on the anode 10 in a planar manner. Thereby, the light emitted from the light emitting layer 12 is transmitted through each of the colored layers 37 and is emitted to the observer side as each color light of red light, green light, and blue light.

また、封止基板本体31上には、表示領域4に形成された着色層37及びブラックマトリクス層32上を覆うオーバーコート層(被覆層)33が形成されている。オーバーコート層33は、表示領域4の内側から表示領域4の外側のシール層35の形成領域まで延設されている。オーバーコート層33は、例えばアクリルやポリイミド等の樹脂材料により形成され、約2〜4μm程度の膜厚に形成されている。   An overcoat layer (covering layer) 33 that covers the colored layer 37 and the black matrix layer 32 formed in the display region 4 is formed on the sealing substrate body 31. The overcoat layer 33 extends from the inside of the display area 4 to the formation area of the seal layer 35 outside the display area 4. The overcoat layer 33 is made of, for example, a resin material such as acrylic or polyimide, and has a thickness of about 2 to 4 μm.

オーバーコート層33の表示領域4の外側に延設された部分には、溝状の周辺凹部33aが形成されている。本実施形態では、周辺凹部33aは、図4に示すように、表示領域4の外側に形成されたブラックマトリクス層32の外縁に隣接して設けられている。周辺凹部33aは、接着層34の周縁部を収容して接着層34の外縁34eを規定するように設けられている。周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、封止基板30の素子基板20側の面33sは、撥液化処理されて撥液性を付与されている。また、周辺凹部33aは、図2に示すように、表示領域4を囲むように連続して形成されている。   A groove-shaped peripheral recess 33 a is formed in a portion of the overcoat layer 33 that extends outside the display region 4. In the present embodiment, the peripheral recess 33a is provided adjacent to the outer edge of the black matrix layer 32 formed outside the display area 4, as shown in FIG. The peripheral recess 33 a is provided so as to accommodate the peripheral edge of the adhesive layer 34 and define the outer edge 34 e of the adhesive layer 34. The surface 33s on the element substrate 20 side of the sealing substrate 30 on the outer peripheral side of the sealing substrate 30 with respect to the peripheral concave portion 33a is subjected to a liquid repellent treatment to impart liquid repellency. Further, as shown in FIG. 2, the peripheral concave portion 33 a is continuously formed so as to surround the display region 4.

素子基板20と封止基板30との間の周辺部には、シール層35が設けられている。シール層35は周辺凹部33aによって囲まれた領域の外側に形成され、素子基板20の周辺部と封止基板30の周辺部とを接着している。シール層35は、周辺凹部33aから封止基板30の外周方向に離間して配置され、接着層34とシール層35との間に空間が形成されている。   A seal layer 35 is provided on the periphery between the element substrate 20 and the sealing substrate 30. The seal layer 35 is formed outside the region surrounded by the peripheral recess 33 a and bonds the peripheral portion of the element substrate 20 and the peripheral portion of the sealing substrate 30. The seal layer 35 is disposed away from the peripheral recess 33 a in the outer peripheral direction of the sealing substrate 30, and a space is formed between the adhesive layer 34 and the seal layer 35.

このシール層35は、紫外線によって硬化して粘度が向上するエポキシ材料等で構成され、例えば、有機緩衝層18と同様の材料が用いられる。また、シール層35のエポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、ジアゾニウム塩、ジフェニルヨウドニウム塩、トリフェルスルフォニウム塩、スルホン酸エステル、鉄アレーン錯体、シラノール/アルミニウム錯体などのカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤が用いられる。   The seal layer 35 is made of an epoxy material that is cured by ultraviolet rays to improve the viscosity, and for example, the same material as the organic buffer layer 18 is used. In addition, as a curing agent that reacts with the epoxy monomer / oligomer of the seal layer 35, cationic polymerization reaction such as diazonium salt, diphenyliodonium salt, triphenylsulfonium salt, sulfonic acid ester, iron arene complex, silanol / aluminum complex, etc. A photoreactive initiator that wakes up is used.

また、接着層34は、硬化前の原料主成分としては、流動性に優れ、かつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、シール層35及び有機緩衝層18と同様の材料が用いられる。また、接着層のエポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としても、有機緩衝層18と同様の材料が用いられる。   Further, the adhesive layer 34 needs to be an organic compound material that has excellent fluidity and does not have a volatile component such as a solvent as a raw material main component before curing, and is similar to the seal layer 35 and the organic buffer layer 18. These materials are used. The same material as the organic buffer layer 18 is used as a curing agent that reacts with the epoxy monomer / oligomer of the adhesive layer.

また、この有機EL装置1の周辺部は額縁部(非発光部分)Dとなっている。この額縁部Dは、有機EL装置1の非発光部分であり、例えば、素子基板20上の最端部に設けられた画素隔壁13から素子基板20の端部までの幅である。その額縁部Dは、例えば、2mmで形成され、周辺シール層の幅dは、例えば、約1mmで形成されている。   The peripheral portion of the organic EL device 1 is a frame portion (non-light emitting portion) D. The frame portion D is a non-light-emitting portion of the organic EL device 1 and has a width from the pixel partition wall 13 provided at the outermost end on the element substrate 20 to the end portion of the element substrate 20, for example. The frame portion D is formed, for example, at 2 mm, and the width d of the peripheral seal layer is formed, for example, at about 1 mm.

次に、本実施形態の有機EL装置1の製造方法について図5〜図7を用いて説明する。図5(a)〜(c)は、素子基板20側の製造工程を示す工程図である。図6(a)〜(d)は、封止基板30側の製造工程を示す工程図である。図7(a)及び(b)は素子基板20と封止基板30との接着工程を示す工程図である。   Next, a method for manufacturing the organic EL device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5A to 5C are process diagrams showing the manufacturing process on the element substrate 20 side. 6A to 6D are process diagrams showing a manufacturing process on the sealing substrate 30 side. 7A and 7B are process diagrams showing an adhesion process between the element substrate 20 and the sealing substrate 30. FIG.

まず、図5(a)に示すように、公知の製造方法により、素子基板本体21上に各種配線、TFT、各種回路、無機絶縁層14、平坦化層16、金属反射板15、発光素子22及び画素隔壁13を形成し、これらを覆うように電極保護層17を形成する。
電極保護層17は、例えば、窒素を含む珪素化合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物などを、ECRスパッタ法やイオンプレーティング法等の高密度プラズマ成膜法により成膜して形成する。
First, as shown in FIG. 5A, various wirings, TFTs, various circuits, an inorganic insulating layer 14, a planarizing layer 16, a metal reflector 15, and a light emitting element 22 are formed on the element substrate body 21 by a known manufacturing method. And the pixel partition wall 13 is formed, and the electrode protective layer 17 is formed so as to cover them.
The electrode protective layer 17 is formed, for example, by forming a silicon compound containing nitrogen, that is, silicon nitride, silicon oxynitride, or the like by a high-density plasma film forming method such as an ECR sputtering method or an ion plating method.

次に、図5(b)に示すように、電極保護層17上に有機緩衝層18を形成する。
具体的には、減圧雰囲気下でスクリーン印刷を行った有機緩衝層18を、60〜100℃の範囲で加熱して硬化させる。この時、有機緩衝層18の形成材料が電極保護層17や陰極11を透過してAlp3などの発光層12に浸透してダークスポットが発生することを防止するために、ある程度硬化が進むまでは低温で放置し、ある程度高粘度化したところで温度を上げて完全硬化させる。
Next, as shown in FIG. 5B, the organic buffer layer 18 is formed on the electrode protective layer 17.
Specifically, the organic buffer layer 18 that has been screen-printed in a reduced-pressure atmosphere is cured by heating in the range of 60 to 100 ° C. At this time, until the organic buffer layer 18 is cured to some extent in order to prevent the formation of dark spots by transmitting the electrode protective layer 17 and the cathode 11 and penetrating into the light emitting layer 12 such as Alp3. Allow to stand at low temperature and raise the temperature to a certain degree when it has increased to some degree of viscosity.

次に、図5(c)に示すように、有機緩衝層18上にガスバリア層19を形成する。
具体的には、ECRスパッタ法やイオンプレーティング法などの高密度プラズマ成膜法で形成する。また、形成前には、酸素プラズマ処理によって密着性を向上させると信頼性が向上する。
以上の工程により、複数の発光素子22を備え、それらが電極保護層17、有機緩衝層18、及びガスバリア層19からなる封止層23により被覆された素子基板20が製造される。
Next, as shown in FIG. 5C, a gas barrier layer 19 is formed on the organic buffer layer 18.
Specifically, it is formed by a high density plasma film forming method such as an ECR sputtering method or an ion plating method. In addition, reliability is improved by improving the adhesion by oxygen plasma treatment before the formation.
Through the above steps, an element substrate 20 that includes a plurality of light-emitting elements 22 and that is covered with a sealing layer 23 including an electrode protective layer 17, an organic buffer layer 18, and a gas barrier layer 19 is manufactured.

一方、図6(a)に示すように、封止基板本体31上に、着色層37及びブラックマトリクス層32を形成する。着色層37として、赤色着色層37R、緑色着色層37G、青色着色層37Bを、表示領域4に対応してマトリクス状に形成するとともに、各着色層37R,37G,37Bの周囲に、各着色層37R,37G,37Bを区画するブラックマトリクス層32を形成する。   On the other hand, as shown in FIG. 6A, a colored layer 37 and a black matrix layer 32 are formed on the sealing substrate body 31. As the colored layer 37, a red colored layer 37R, a green colored layer 37G, and a blue colored layer 37B are formed in a matrix corresponding to the display area 4, and each colored layer 37R, 37G, 37B is provided around each colored layer 37R, 37G, 37B. A black matrix layer 32 that partitions 37R, 37G, and 37B is formed.

具体的には、各着色層37R,37G,37Bを、陽極10上に形成された白色の発光層12に対向するように形成する。着色層37の膜厚は光透過率を考慮して極力薄い方がよく、赤色着色層37R、緑色着色層37G、青色着色層37Bを、上記した0.1〜1.5μm程度でそれぞれ形成する。
ブラックマトリクス層32は、着色層37と同様かそれ以上の膜厚で形成する。
具体的には、フォトリソグラフィ法やインクジェット法などの印刷法でパターン形成し、使用する材料に応じて塗布量を調整しながら膜厚を適宜調整する。
Specifically, the colored layers 37R, 37G, and 37B are formed so as to face the white light emitting layer 12 formed on the anode 10. The thickness of the colored layer 37 is preferably as thin as possible in consideration of light transmittance, and the red colored layer 37R, the green colored layer 37G, and the blue colored layer 37B are respectively formed with the above-described thicknesses of about 0.1 to 1.5 μm. .
The black matrix layer 32 is formed with a film thickness similar to or greater than that of the colored layer 37.
Specifically, a pattern is formed by a printing method such as a photolithography method or an ink jet method, and the film thickness is appropriately adjusted while adjusting the coating amount in accordance with the material to be used.

次に、図6(b)に示すように、着色層37及びブラックマトリクス層32を覆い、表示領域4の内側から外側まで延設するようにオーバーコート層33を形成する。
具体的には、上記した樹脂材料を原料成分または有機溶媒等で希釈して、フレキソ印刷法やグラビア印刷法やスリットコート法やスクリーン印刷法などを用いてパターン塗布し、熱オーブン等で蒸発及び硬化を行う。
これにより、封止基板本体31上に、着色層37及びブラックマトリクス層32が形成され、これらを覆うオーバーコート層を備えた封止基板30が製造される。
Next, as shown in FIG. 6B, an overcoat layer 33 is formed so as to cover the colored layer 37 and the black matrix layer 32 and extend from the inside to the outside of the display region 4.
Specifically, the resin material described above is diluted with a raw material component or an organic solvent, and is applied with a pattern using a flexographic printing method, a gravure printing method, a slit coating method, a screen printing method, etc. Curing is performed.
Thereby, the colored layer 37 and the black matrix layer 32 are formed on the sealing substrate main body 31, and the sealing substrate 30 provided with the overcoat layer covering these is manufactured.

次に、図6(c)に示すように、オーバーコート層33の表示領域4の外側に延設された部分に、例えば、フォトリソグラフィ法やエッチング法等により、図2に示すように表示領域4を囲むように連続した溝状の周辺凹部33aを形成する。本実施形態では、周辺凹部33aは、表示領域4の外側に形成されたブラックマトリクス層32の外縁に隣接するように近接して形成する。   Next, as shown in FIG. 6C, the display area shown in FIG. 2 is formed on the portion of the overcoat layer 33 that extends outside the display area 4 by, for example, photolithography or etching. A continuous groove-shaped peripheral recess 33 a is formed so as to surround 4. In the present embodiment, the peripheral recess 33a is formed adjacent to the outer edge of the black matrix layer 32 formed outside the display region 4.

次に、周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、オーバーコート層33の素子基板20に対向させる面33sを撥液化して、濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で4フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理(CF4プラズマ処理)を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された封止基板30を室温まで冷却することで、周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、オーバーコート層33の素子基板20に対向させる面33sを撥液化して、濡れ性を低下させる。   Next, the surface 33 s of the overcoat layer 33 facing the element substrate 20 on the outer peripheral side of the sealing substrate 30 with respect to the peripheral recess 33 a is made liquid repellent to reduce wettability. Specifically, by performing plasma treatment using CF 4 as a reaction gas under atmospheric pressure (CF 4 plasma treatment), and then cooling the sealing substrate 30 heated for the plasma treatment to room temperature, The surface 33 s of the overcoat layer 33 facing the element substrate 20 on the outer peripheral side of the sealing substrate 30 with respect to the peripheral recess 33 a is made liquid repellent to reduce wettability.

次に、図6(d)に示すように、オーバーコート層33上の、周辺凹部33aの内側(図2に破線で示す周辺凹部33aの内側の領域)に、液状の接着層材料340を配置する。具体的には、例えば、ジェットディスペンス法により前述した熱硬化性樹脂材料を塗布していく。   Next, as shown in FIG. 6D, a liquid adhesive layer material 340 is disposed on the overcoat layer 33 inside the peripheral recess 33a (a region inside the peripheral recess 33a indicated by a broken line in FIG. 2). To do. Specifically, for example, the above-described thermosetting resin material is applied by a jet dispensing method.

次に、図7(a)に示すように、素子基板20上に形成されたガスバリア層19上の周辺部にシール層材料350を配置する。シール層材料350は、封止基板30に形成された周辺凹部33aによって囲まれた領域(図2参照)の外側に対応するガスバリア層19上の領域に配置する。また、シール層材料350は、素子基板20と封止基板30とを接着したときに、シール層35が周辺凹部33aから封止基板30の外周方向に離間するように、シール層材料350の内縁が対向して配置される封止基板30の周辺凹部33aの外縁よりも素子基板20の外周側に位置するように配置する。
具体的には、ニードルディスペンス法により前述した紫外線硬化性樹脂材料を封止基板30の周囲に塗布していく。なお、この塗布方法は、スクリーン印刷法を用いてもよい
Next, as shown in FIG. 7A, a seal layer material 350 is disposed on the periphery of the gas barrier layer 19 formed on the element substrate 20. The sealing layer material 350 is disposed in a region on the gas barrier layer 19 corresponding to the outside of the region (see FIG. 2) surrounded by the peripheral recess 33a formed in the sealing substrate 30. Further, the sealing layer material 350 has an inner edge of the sealing layer material 350 so that the sealing layer 35 is separated from the peripheral recess 33a in the outer peripheral direction of the sealing substrate 30 when the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are bonded. Are arranged so as to be located on the outer peripheral side of the element substrate 20 with respect to the outer edge of the peripheral recess 33a of the sealing substrate 30 arranged to face each other.
Specifically, the above-described ultraviolet curable resin material is applied around the sealing substrate 30 by a needle dispensing method. Note that this printing method may use a screen printing method.

次いで、シール層材料350が塗布された素子基板20に紫外線照射を行う。
具体的には、シール層材料350の硬化反応を開始させる目的で、例えば、照度30mW/cm2、光量500mJ/cm2の紫外線を素子基板20に照射する。この時、紫外線硬化性樹脂であるシール層材料350のみが反応し、徐々に粘度が向上する。
Next, the element substrate 20 coated with the seal layer material 350 is irradiated with ultraviolet rays.
Specifically, for example, the element substrate 20 is irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 30 mW / cm 2 and a light amount of 500 mJ / cm 2 for the purpose of starting the curing reaction of the seal layer material 350. At this time, only the seal layer material 350, which is an ultraviolet curable resin, reacts and the viscosity is gradually improved.

次に、素子基板20の封止層23が形成された面と、封止基板30の接着層材料340が配置された面とを対向させ、図7(b)に示すように、接着層材料340及びシール層材料350を介して素子基板20と封止基板30とを貼り合わせる。このとき、貼り合わせた素子基板20と封止基板30とのアライメント位置の微調整を行いながら、素子基板20と封止基板30の双方を接近させていく。   Next, the surface of the element substrate 20 on which the sealing layer 23 is formed and the surface of the sealing substrate 30 on which the adhesive layer material 340 is disposed are opposed to each other, and as shown in FIG. The element substrate 20 and the sealing substrate 30 are bonded to each other through the 340 and the seal layer material 350. At this time, both the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are brought closer to each other while finely adjusting the alignment position between the bonded element substrate 20 and the sealing substrate 30.

具体的には、素子基板20と封止基板30とを面方向(平行方向)に相対移動させ、発光素子22と着色層37との対向位置を調整する。例えば、発光素子22と着色層37との位置ずれが2μm以下となるように調整する。このようにして、最終的な位置合わせ(補正)を行う。   Specifically, the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are relatively moved in the plane direction (parallel direction), and the facing position between the light emitting element 22 and the coloring layer 37 is adjusted. For example, the positional deviation between the light emitting element 22 and the colored layer 37 is adjusted to be 2 μm or less. In this way, final alignment (correction) is performed.

このとき、封止基板30と素子基板20との間で圧迫されて、封止基板30の外周側に押し出された接着層材料340を周辺凹部33aに収容して、周辺凹部33aにより接着層材料340の外縁を規定する。
このように、アライメント位置精度を調整しながら周辺凹部33aにより接着層材料340の外縁を規定し、例えば、真空度1Paの真空雰囲気下で、加圧600Nで200秒間保持して圧着させる。
At this time, the adhesive layer material 340 pressed between the sealing substrate 30 and the element substrate 20 and pushed to the outer peripheral side of the sealing substrate 30 is accommodated in the peripheral recess 33a, and the adhesive layer material is formed by the peripheral recess 33a. 340 outer edges are defined.
As described above, the outer edge of the adhesive layer material 340 is defined by the peripheral concave portion 33a while adjusting the alignment position accuracy, and, for example, held in a vacuum atmosphere with a vacuum degree of 1 Pa at a pressure of 600 N for 200 seconds for pressure bonding.

次に、圧着して貼り合わせた素子基板20と封止基板30とを大気雰囲気中で加熱する。具体的には、素子基板20側と封止基板30側とを貼り合わせた状態で、大気中において60〜100℃程度で加熱することで、前述した硬化反応が開始したシール層材料350と、接着層材料340とを熱硬化させ、シール層35と接着層34とを形成する。接着層34は、ガスバリア層19を保護する役割もあり、液状体のままであったりすると高温となる場所に放置された場合に、装置内で液状体が対流してガスバリア層19を損傷する虞があるため、接着層34は必ず固体化させておく。
以上により、上述した本実施形態の有機EL装置1を製造することができる。
Next, the element substrate 20 and the sealing substrate 30 bonded by pressure bonding are heated in an air atmosphere. Specifically, in the state where the element substrate 20 side and the sealing substrate 30 side are bonded together, by heating at about 60 to 100 ° C. in the atmosphere, the sealing layer material 350 in which the above-described curing reaction has started, The adhesive layer material 340 is thermally cured to form the seal layer 35 and the adhesive layer 34. The adhesive layer 34 also has a role of protecting the gas barrier layer 19. If the liquid layer is left in a liquid state, the liquid layer may convect and damage the gas barrier layer 19 when left in a place where the temperature becomes high. Therefore, the adhesive layer 34 must be solidified.
As described above, the organic EL device 1 according to the present embodiment described above can be manufactured.

次に、本実施形態の作用について説明する。
本実施形態では、表示領域4の外側に、接着層34の周縁部を収容して接着層34の外縁34eを規定する溝状の周辺凹部33aが、表示領域4を囲んで形成されている。このため、素子基板20と封止基板30とを接合する際に、上述のように、両基板間の表示領域4に未硬化の接着層材料340を配置して、両基板により接着層材料340を挟み込んで圧迫すると、接着層材料340が両基板間で圧縮されて表示領域4から両基板の外周側に押し出される。
Next, the operation of this embodiment will be described.
In the present embodiment, a groove-shaped peripheral recess 33 a that accommodates the peripheral portion of the adhesive layer 34 and defines the outer edge 34 e of the adhesive layer 34 is formed outside the display region 4 so as to surround the display region 4. For this reason, when the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are joined, as described above, the uncured adhesive layer material 340 is disposed in the display region 4 between the two substrates, and the adhesive layer material 340 is formed by both substrates. Is pressed between the two substrates, the adhesive layer material 340 is compressed between the two substrates and pushed out from the display area 4 to the outer peripheral side of the two substrates.

このとき、周辺凹部33aの内側の表示領域4から両基板の外周側に押し出された接着層材料340の周縁部は、周辺凹部33aに流入して収容される。これにより、接着層材料340の周縁部が周辺凹部33aを越えて両基板の外周側へ押し出されることが防止される。したがって、接着層材料340が外部に漏出することを防止でき、接着層材料340が硬化した後の接着層34の外縁34eを周辺凹部33aにより規定することができる。   At this time, the peripheral edge portion of the adhesive layer material 340 pushed out from the display area 4 inside the peripheral concave portion 33a to the outer peripheral side of both substrates flows into and is accommodated in the peripheral concave portion 33a. Thus, the peripheral edge portion of the adhesive layer material 340 is prevented from being pushed out to the outer peripheral side of both substrates beyond the peripheral concave portion 33a. Therefore, the adhesive layer material 340 can be prevented from leaking to the outside, and the outer edge 34e of the adhesive layer 34 after the adhesive layer material 340 is cured can be defined by the peripheral recess 33a.

また、本実施形態では、着色層37及びブラックマトリクス層32を覆うオーバーコート層33に周辺凹部33aが形成されている。そのため、オーバーコート層33をパターニングすることで容易に周辺凹部33aを形成することができる。また、比較的膜厚の大きいオーバーコート層33に周辺凹部33aを形成し、周辺凹部33aの容量を拡大して接着層材料340の収容力を向上させ、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止できる。   In the present embodiment, the peripheral recess 33 a is formed in the overcoat layer 33 that covers the colored layer 37 and the black matrix layer 32. Therefore, the peripheral recess 33a can be easily formed by patterning the overcoat layer 33. In addition, a peripheral recess 33a is formed in the overcoat layer 33 having a relatively large thickness, and the capacity of the peripheral recess 33a is increased to improve the capacity of the adhesive layer material 340, thereby preventing leakage of the adhesive layer material 340 to the outside. It can be prevented more effectively.

また、周辺凹部よりも封止基板30の外周側の、封止基板30の素子基板20側の面33sが撥液化されていることで、周辺凹部33aが接着層材料340に満たされて、接着層材料340が周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側へ溢れ出ようとした場合に、周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、封止基板30の素子基板20側の面33sにより、接着層材料340が弾かれて周辺凹部33a内に留められる。したがって、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止できる。   Further, since the surface 33s on the element substrate 20 side of the sealing substrate 30 on the outer peripheral side of the sealing substrate 30 with respect to the peripheral recesses is made liquid-repellent, the peripheral recesses 33a are filled with the adhesive layer material 340 and bonded. When the layer material 340 overflows to the outer peripheral side of the sealing substrate 30 from the peripheral concave portion 33a, the surface on the element substrate 20 side of the sealing substrate 30 on the outer peripheral side of the sealing substrate 30 relative to the peripheral concave portion 33a. By 33s, the adhesive layer material 340 is bounced and retained in the peripheral recess 33a. Therefore, leakage of the adhesive layer material 340 to the outside can be more effectively prevented.

このように、本実施形態では、素子基板20上の発光素子22は封止層23によって被覆されて封止され、素子基板20と封止基板30とは接着層34を介して接着され、さらに封止基板30に形成された周辺凹部33aにより、接着層材料340の外部への漏出が防止されている。このため、従来、シール層35に要求されていた素子基板20と封止基板との接着機能や発光素子22の封止機能を、接着層34及び封止層23によって担うことができ、シール層35を省略、あるいは削減することが可能となる。
したがって、シール層35を省略、あるいは削減した場合には、シール層35の製造工程を省略あるいは簡略化し、シール層材料350のコストを削減することができる。
Thus, in this embodiment, the light emitting element 22 on the element substrate 20 is covered and sealed with the sealing layer 23, and the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are bonded via the adhesive layer 34. Leakage of the adhesive layer material 340 to the outside is prevented by the peripheral recess 33 a formed in the sealing substrate 30. Therefore, the adhesive function between the element substrate 20 and the sealing substrate and the sealing function of the light emitting element 22 that are conventionally required for the sealing layer 35 can be performed by the adhesive layer 34 and the sealing layer 23. 35 can be omitted or reduced.
Therefore, when the seal layer 35 is omitted or reduced, the manufacturing process of the seal layer 35 can be omitted or simplified, and the cost of the seal layer material 350 can be reduced.

しかし、本実施形態のように、あえてシール層35を形成することで、有機EL装置1の封止性能を向上させ、水分等の浸入を防止して発光素子22の劣化を防止することができる。また、周辺凹部33aにより、素子基板20と封止基板30とを接合する際に両基板の外周側に押し出された接着層材料340によって未硬化のシール層材料350が損傷することが防止され、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止することができる。   However, as in the present embodiment, the sealing layer 35 is intentionally formed, so that the sealing performance of the organic EL device 1 can be improved, the penetration of moisture and the like can be prevented, and the light emitting element 22 can be prevented from deteriorating. . Further, the peripheral concave portion 33a prevents the uncured sealing layer material 350 from being damaged by the adhesive layer material 340 extruded to the outer peripheral sides of the two substrates when the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are joined. Leakage of the adhesive layer material 340 to the outside can be more effectively prevented.

また、本実施形態では、シール層35は、周辺凹部33aから封止基板30の外周方向に離間して配置されているので、シール層35と周辺凹部33aとの間に空間が形成される。そのため、両基板の外周側に押し出された接着層材料340が、万一、周辺凹部33aを乗り越えて両基板の外周側に溢れ出た場合であっても、その空間によって溢れ出た接着層材料340を受容することができる。したがって、素子基板20と封止基板30とを接合する際に、両基板の外周側に押し出された接着層材料340によって未硬化のシール層材料350が損傷することをより確実に防止して、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止することができる。   In the present embodiment, since the seal layer 35 is disposed away from the peripheral recess 33a in the outer peripheral direction of the sealing substrate 30, a space is formed between the seal layer 35 and the peripheral recess 33a. Therefore, even if the adhesive layer material 340 extruded to the outer peripheral side of both substrates overflows the peripheral recess 33a and overflows to the outer peripheral side of both substrates, the adhesive layer material overflowed by the space 340 can be accepted. Therefore, when the element substrate 20 and the sealing substrate 30 are bonded, the uncured sealing layer material 350 is more reliably prevented from being damaged by the adhesive layer material 340 extruded to the outer peripheral sides of both substrates. Leakage of the adhesive layer material 340 to the outside can be more effectively prevented.

尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本発明はトップエミッション型の有機EL装置だけでなく、ボトムエミッション型の有機EL装置に適用してもよい。
また、周辺凹部は、封止基板側ではなく素子基板側に形成してもよく、封止基板と素子基板の両方に形成してもよい。また、周辺凹部は、オーバーコート層に形成するのではなく、封止基板本体に直接形成してもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the present invention may be applied not only to a top emission type organic EL device but also to a bottom emission type organic EL device.
The peripheral recess may be formed not on the sealing substrate side but on the element substrate side, or on both the sealing substrate and the element substrate. Further, the peripheral recess may be formed directly on the sealing substrate body instead of being formed on the overcoat layer.

本発明の実施形態における有機EL装置の配線構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the wiring structure of the organic electroluminescent apparatus in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における有機EL装置の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the organic electroluminescent apparatus in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における有機EL装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the organic electroluminescent apparatus in embodiment of this invention. 図3のA部の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the A section of FIG. 本発明の実施形態における有機EL装置の製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における有機EL装置の製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における有機EL装置の製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus in embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 有機EL装置、4 表示領域、10 陽極(一対の電極)、11 陰極(一対の電極)、12 発光層(有機発光層)、17 電極保護層(封止層)、18 有機緩衝層(封止層)、19 ガスバリア層(封止層)、20 素子基板、21 素子基板本体、22 発光素子、23 封止層、30 封止基板、32 ブラックマトリクス層(遮光層)、33 オーバーコート層(被覆層)、33a 周辺凹部、33s 面、34 接着層、34e 外縁、35 シール層、37 着色層、37B 青色着色層(着色層)、37G 緑色着色層(着色層)、37R 赤色着色層(着色層)、340 接着層材料 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL apparatus, 4 Display area, 10 Anode (a pair of electrodes), 11 Cathode (a pair of electrodes), 12 Light emitting layer (organic light emitting layer), 17 Electrode protective layer (sealing layer), 18 Organic buffer layer (sealing) Stop layer), 19 gas barrier layer (sealing layer), 20 element substrate, 21 element substrate body, 22 light emitting element, 23 sealing layer, 30 sealing substrate, 32 black matrix layer (light shielding layer), 33 overcoat layer ( Coating layer), 33a peripheral recess, 33s face, 34 adhesive layer, 34e outer edge, 35 sealing layer, 37 colored layer, 37B blue colored layer (colored layer), 37G green colored layer (colored layer), 37R red colored layer (colored) Layer), 340 adhesive layer material

Claims (5)

一対の電極の間に発光層を有する複数の発光素子および前記複数の発光素子を被覆する封止層が設けられた素子基板と、着色層および前記着色層を被覆する被覆層が設けられた封止基板と、が接着層により前記発光素子と前記着色層とが対向するように接着された有機EL装置であって、
前記被覆層には、前記複数の発光素子が配置された表示領域を囲むように前記着色層の外側に周辺凹部が設けられており、
前記封止層と前記被覆層との間に設けられた前記接着層は、前記封止層の周辺端部とは接しておらず、
前記接着層の周縁部は、前記周辺凹部内に配置されており
前記周辺凹部により前記接着層の外縁規定されていることを特徴とする有機EL装置。
A plurality of light-emitting elements each having a light-emitting layer between a pair of electrodes, an element substrate provided with a sealing layer covering the plurality of light-emitting elements, and a sealing layer provided with a colored layer and a coating layer covering the colored layer An organic EL device bonded to the stop substrate with an adhesive layer so that the light emitting element and the colored layer face each other,
In the covering layer, a peripheral concave portion is provided outside the colored layer so as to surround a display area in which the plurality of light emitting elements are arranged,
The adhesive layer provided between the sealing layer and the covering layer is not in contact with the peripheral edge of the sealing layer,
Periphery of the adhesive layer is disposed in the peripheral recess,
An organic EL device , wherein an outer edge of the adhesive layer is defined by the peripheral recess.
前記接着層は、前記素子基板と接する部分を有さないことを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the adhesive layer does not have a portion in contact with the element substrate. 前記周辺凹部の外側には、シール層が設けられており、
前記シール層と前記接着層とは接する部分を有しておらず、
前記封止層は、前記シール層の外側まで延在するように設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL装置。
A seal layer is provided outside the peripheral recess,
Not have a portion in contact and the adhesive layer and the sealing layer,
The organic EL device according to claim 1 , wherein the sealing layer is provided so as to extend to the outside of the sealing layer .
前記封止基板および前記接着層は、光透過性を有する材料により形成されており、
平面視において、前記着色層を区画する遮光層は、前記着色層と前記周辺凹部との間に設けられており、
前記接着層と前記着色層とは、互いに接する部分を有しておらず、
前記接着層と前記遮光層とは、前記周辺凹部において接していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の有機EL装置。
The sealing substrate and the adhesive layer are made of a light transmissive material,
In plan view, the light-shielding layer for partitioning the colored layer is provided between the peripheral recess and the colored layer,
The adhesive layer and the colored layer do not have a portion in contact with each other,
The organic EL device according to claim 1, wherein the adhesive layer and the light shielding layer are in contact with each other at the peripheral recess .
前記周辺凹部と前記シール層との間の前記被覆層は、撥液性を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the coating layer between the peripheral recess and the seal layer has liquid repellency.
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