JP5228513B2 - Organic EL device - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 285
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 230
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 158
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 146
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 119
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 117
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 13
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 10
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 16
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- -1 aluminum quinolinol Chemical compound 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 4
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPEKVUUBSDFMDR-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound CC1C=CCC2C(=O)OC(=O)C12 XPEKVUUBSDFMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Description
この発明は、有機EL装置とその製造方法に関するものである。 The present invention relates to an organic EL device and a method for manufacturing the same.
従来から、一対の電極の間に有機発光層を挟持した複数の発光素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、有機EL装置という)が知られている。有機EL装置は、これら複数の発光素子を被覆する封止層を備えた素子基板と、前記素子基板に対向して配置され、接着層を介して素子基板に接着された封止基板と、各基板の周辺部を接着する枠状のシール層と、を備えている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、上記従来の有機EL装置は、未硬化のシール層材料を一方の基板上に枠状に配置し、その内側に液状の接着層材料が配置した後、シール材を配置した基板に他方の基板を対向配置して接着することにより形成される。そのため、接着層材料が両基板の間で圧縮されて両基板の外周側に押し出され、未硬化のシール層材料を損傷する虞がある。シール層材料が損傷すると、接着層材料が枠状のシール層の外側に漏出するという課題がある。 However, in the conventional organic EL device, an uncured sealing layer material is arranged in a frame shape on one substrate, and after a liquid adhesive layer material is arranged on the inside thereof, the other substrate is arranged on the substrate on which the sealing material is arranged. It is formed by arranging the substrates facing each other and bonding them. Therefore, the adhesive layer material is compressed between the two substrates and pushed out to the outer peripheral side of both the substrates, which may damage the uncured seal layer material. When the sealing layer material is damaged, there is a problem that the adhesive layer material leaks outside the frame-shaped sealing layer.
そこで、この発明は、接着層材料を介して素子基板と封止基板とを接着する際に、接着層材料が外部に漏出することを防止できる有機EL装置とその製造方法を提供するものである。 Therefore, the present invention provides an organic EL device capable of preventing the adhesive layer material from leaking to the outside when the element substrate and the sealing substrate are bonded via the adhesive layer material, and a method for manufacturing the same. .
上記の課題を解決するために、本発明の有機EL装置は、一対の電極の間に少なくとも有機発光層を有する機能層を挟持した複数の発光素子と、前記複数の発光素子を被覆する封止層と、を有する素子基板と、前記素子基板に対向配置され、接着層を介して前記素子基板に接着された封止基板と、を備え、前記複数の発光素子が配置された表示領域の外側に、前記接着層の周縁部を収容して前記接着層の外縁を規定する溝状の周辺凹部が、前記表示領域を囲んで形成されていることを特徴とする。
上記の課題を解決するために、本発明の有機EL装置は、一対の電極の間に発光層を有する複数の発光素子および前記複数の発光素子を被覆する封止層が設けられた素子基板と、着色層および前記着色層を被覆する被覆層が設けられた封止基板と、が接着層により前記発光素子と前記着色層とが対向するように接着された有機EL装置であって、前記被覆層には、前記複数の発光素子が配置された表示領域を囲むように前記着色層の外側に周辺凹部が設けられており、前記接着層の周縁部は、前記周辺凹部内に配置され、前記周辺凹部により前記接着層の外縁を規定することを特徴とする。
上記の課題を解決するために、本発明の有機EL装置は、一対の電極の間に発光層を有する複数の発光素子および前記複数の発光素子を被覆する封止層が設けられた素子基板と、着色層および前記着色層を被覆する被覆層が設けられた封止基板と、が接着層により前記発光素子と前記着色層とが対向するように接着された有機EL装置であって、前記被覆層には、前記複数の発光素子が配置された表示領域を囲むように前記着色層の外側に周辺凹部が設けられており、前記封止層と前記被覆層との間に設けられた前記接着層は、前記封止層の周辺端部とは接しておらず、前記接着層の周縁部は、前記周辺凹部内に配置されており、前記周辺凹部により、前記接着層の外縁が規定されていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, an organic EL device of the present invention includes a plurality of light-emitting elements each having a functional layer having at least an organic light-emitting layer between a pair of electrodes, and a sealing covering the plurality of light-emitting elements. And a sealing substrate disposed opposite to the element substrate and bonded to the element substrate via an adhesive layer, and outside the display region in which the plurality of light emitting elements are disposed In addition, a groove-shaped peripheral recess that accommodates a peripheral portion of the adhesive layer and defines an outer edge of the adhesive layer is formed surrounding the display region.
In order to solve the above-described problems, an organic EL device according to the present invention includes a plurality of light-emitting elements each having a light-emitting layer between a pair of electrodes, and an element substrate provided with a sealing layer that covers the plurality of light-emitting elements. An organic EL device in which a colored layer and a sealing substrate provided with a coating layer covering the colored layer are bonded so that the light emitting element and the colored layer are opposed to each other by an adhesive layer, The layer is provided with a peripheral recess on the outer side of the colored layer so as to surround the display area in which the plurality of light emitting elements are disposed, and a peripheral edge of the adhesive layer is disposed in the peripheral recess, An outer edge of the adhesive layer is defined by a peripheral recess.
In order to solve the above-described problems, an organic EL device according to the present invention includes a plurality of light-emitting elements each having a light-emitting layer between a pair of electrodes, and an element substrate provided with a sealing layer that covers the plurality of light-emitting elements. An organic EL device in which a colored layer and a sealing substrate provided with a coating layer covering the colored layer are bonded so that the light emitting element and the colored layer are opposed to each other by an adhesive layer, The layer is provided with a peripheral recess on the outside of the colored layer so as to surround the display region in which the plurality of light emitting elements are arranged, and the adhesion provided between the sealing layer and the covering layer The layer is not in contact with the peripheral edge of the sealing layer, the peripheral edge of the adhesive layer is disposed in the peripheral recess, and the peripheral recess defines the outer edge of the adhesive layer It is characterized by being.
このように構成することで、素子基板と封止基板とを接合する際に、両基板間の表示領域に未硬化の接着層材料を配置して、両基板により接着層材料を挟み込んで圧迫すると、接着層材料が両基板間で圧縮されて表示領域から両基板の外周側に押し出される。このとき、周辺凹部の内側の表示領域から両基板の外周側に押し出された接着層材料の周縁部は、周辺凹部に流入して収容される。これにより、接着層材料の周縁部が周辺凹部を越えて両基板の外周側へ押し出されることが防止される。したがって、接着層材料が外部に漏出することを防止でき、接着層材料が硬化した後の接着層の外縁を周辺凹部により規定することができる。 With this configuration, when the element substrate and the sealing substrate are bonded, an uncured adhesive layer material is disposed in the display region between the two substrates, and the adhesive layer material is sandwiched between the substrates and pressed. The adhesive layer material is compressed between the two substrates and pushed out of the display area to the outer peripheral side of the two substrates. At this time, the peripheral edge portion of the adhesive layer material pushed out from the display area inside the peripheral concave portion to the outer peripheral side of both substrates flows into and is accommodated in the peripheral concave portion. This prevents the peripheral edge portion of the adhesive layer material from being pushed out to the outer peripheral side of both substrates beyond the peripheral recess. Therefore, the adhesive layer material can be prevented from leaking to the outside, and the outer edge of the adhesive layer after the adhesive layer material is cured can be defined by the peripheral recess.
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部は、前記封止基板の前記素子基板に対向する面に形成されていることを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記接着層は、前記素子基板と接する部分を有さないことを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部の外側には、シール層が設けられており、前記シール層と前記接着層とは接する部分を有さないことを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板および前記接着層は、光透過性を有する材料により形成されており、前記着色層を区画する遮光層が前記着色層と前記周辺凹部との間に設けられていることを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部と前記シール層との間の前記被覆層は、撥液性を有することを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部の外側には、シール層が設けられており、前記シール層と前記接着層とは接する部分を有しておらず、前記封止層は、前記シール層の外側まで延在するように設けられていることを特徴とする。
また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板および前記接着層は、光透過性を有する材料により形成されており、平面視において、前記着色層を区画する遮光層は、前記着色層と前記周辺凹部との間に設けられており、前記接着層と前記着色層とは、互いに接する部分を有しておらず、前記接着層と前記遮光層とは、前記周辺凹部において接していることを特徴とする。
In the organic EL device of the present invention, the peripheral recess is formed on a surface of the sealing substrate facing the element substrate.
The organic EL device of the present invention is characterized in that the adhesive layer does not have a portion in contact with the element substrate.
Further, the organic EL device of the present invention is characterized in that a seal layer is provided outside the peripheral recess, and there is no portion in contact with the seal layer and the adhesive layer.
In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate and the adhesive layer are formed of a light-transmitting material, and a light-shielding layer that partitions the colored layer is formed between the colored layer and the peripheral recess. It is provided between them.
The organic EL device of the present invention is characterized in that the coating layer between the peripheral recess and the seal layer has liquid repellency.
Further, in the organic EL device of the present invention, a seal layer is provided outside the peripheral recess, and the seal layer does not have a portion in contact with the adhesive layer. It is provided so that it may extend to the outer side of the said sealing layer.
In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate and the adhesive layer are formed of a light-transmitting material, and the light-shielding layer that partitions the colored layer in plan view is the same as the colored layer. Provided between the peripheral recesses, the adhesive layer and the colored layer do not have a portion in contact with each other, and the adhesive layer and the light shielding layer are in contact with each other at the peripheral recess. It is characterized by.
このように構成することで、周辺凹部の内側の表示領域から両基板の外周側に押し出された接着層の材料の周縁部を、封止基板の周辺凹部に流入させて収容し、接着層の材料が外部に漏出することを防止できる。 By comprising in this way, the peripheral part of the material of the adhesive layer extruded from the display area inside the peripheral concave part to the outer peripheral side of both substrates is accommodated by flowing into the peripheral concave part of the sealing substrate. The material can be prevented from leaking outside.
また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板は、封止基板本体と、該封止基板本体の前記素子基板に対向する面に形成された被覆層と、を備え、前記周辺凹部は、前記被覆層に形成されていることを特徴とする。 In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate includes a sealing substrate main body and a coating layer formed on a surface of the sealing substrate main body facing the element substrate, and the peripheral recess is It is formed in the said coating layer, It is characterized by the above-mentioned.
このように構成することで、封止基板本体の表面に形成された被覆層をパターニングすして、封止基板に周辺凹部を形成することができる。 By comprising in this way, the surrounding recessed part can be formed in a sealing substrate by patterning the coating layer formed in the surface of the sealing substrate main body.
また、本発明の有機EL装置は、前記封止基板本体および前記接着層は、それぞれ光透過性を有する材料により形成され、前記封止基板は、前記封止基板上の前記表示領域に形成された複数の着色層と、前記着色層を区画する遮光層と、を備え、前記被覆層は、前記着色層および前記遮光層を覆って形成されていることを特徴とする。 In the organic EL device of the present invention, the sealing substrate body and the adhesive layer are each formed of a light-transmitting material, and the sealing substrate is formed in the display area on the sealing substrate. A plurality of colored layers and a light shielding layer that partitions the colored layers, and the covering layer is formed to cover the colored layer and the light shielding layer.
このように構成することで、封止基板本体上に形成された着色層と遮光層とを覆う比較的膜厚の大きい被覆層に周辺凹部を形成し、周辺凹部の容量を拡大して接着層材料の収容力を向上させ、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止できる。 By comprising in this way, a peripheral recessed part is formed in the coating layer with a comparatively large film thickness which covers the coloring layer and light shielding layer which were formed on the sealing substrate main body, the capacity | capacitance of a peripheral recessed part was expanded, and an adhesive layer The capacity of the material can be improved, and leakage of the adhesive layer material to the outside can be prevented more effectively.
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部よりも前記封止基板の外周側の、前記封止基板の前記素子基板側の面が撥液化されていることを特徴とする。 The organic EL device of the present invention is characterized in that the surface of the sealing substrate on the element substrate side, which is closer to the outer periphery of the sealing substrate than the peripheral recess, is made liquid repellent.
このように構成することで、周辺凹部が接着層材料に満たされて、接着層材料が周辺凹部よりも封止基板の外周側へ溢れ出ようとした場合に、周辺凹部よりも封止基板の外周側の、封止基板の素子基板側の面により、接着層材料が弾かれて周辺凹部内に留められる。したがって、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止できる。 With this configuration, when the peripheral concave portion is filled with the adhesive layer material and the adhesive layer material is about to overflow to the outer peripheral side of the sealing substrate from the peripheral concave portion, the sealing substrate is more than the peripheral concave portion. The adhesive layer material is bounced by the surface on the element substrate side of the sealing substrate on the outer peripheral side and is retained in the peripheral recess. Therefore, leakage of the adhesive layer material to the outside can be more effectively prevented.
また、本発明の有機EL装置は、前記周辺凹部によって囲まれた領域の外側に、前記素子基板の周辺部と前記封止基板の周辺部とを接着するシール層が形成されていることを特徴とする。 In the organic EL device of the present invention, a seal layer for bonding the peripheral portion of the element substrate and the peripheral portion of the sealing substrate is formed outside the region surrounded by the peripheral recess. And
このように構成することで、シール層により両基板間を封止することができ、水分等の浸入を防止して発光素子の劣化を防止することができる。 With such a configuration, the two substrates can be sealed with the sealing layer, and moisture and the like can be prevented from entering to prevent the light emitting element from deteriorating.
また、本発明の有機EL装置は、前記シール層は、前記周辺凹部から前記封止基板の外周方向に離間して配置されていることを特徴とする。 Moreover, the organic EL device of the present invention is characterized in that the seal layer is disposed apart from the peripheral recess in the outer peripheral direction of the sealing substrate.
このように構成することで、シール層と周辺凹部との間に空間が形成される。これにより、素子基板と封止基板を接合する際に、両基板の外周側に押し出された接着層材料によってシール層が損傷することをより確実に防止して、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止することができる。 With this configuration, a space is formed between the seal layer and the peripheral recess. As a result, when the element substrate and the sealing substrate are bonded, it is possible to more reliably prevent the sealing layer from being damaged by the adhesive layer material extruded to the outer peripheral side of both substrates, and to leak the adhesive layer material to the outside. Can be prevented more effectively.
また、本発明の有機EL装置の製造方法は、素子基板上の表示領域に、一対の電極の間に少なくとも有機発光層を有する機能層を挟持した複数の発光素子を形成する工程と、前記素子基板上に、前記複数の発光素子を被覆する封止層を形成する工程と、前記素子基板に対向配置される封止基板の前記素子基板に対向する面に、前記表示領域を囲む溝状の周辺凹部を形成する工程と、前記封止基板の前記素子基板に対向する面の前記周辺凹部の内側に、液状の接着層材料を配置する工程と、前記素子基板の前記封止層が形成された面と、前記封止基板の前記接着層材料が配置された面とを対向させ、前記接着層材料を介して前記素子基板と前記封止基板とを貼り合わせる接着工程と、を有し、前記接着工程において、前記封止基板の外周側に押し出された前記接着層材料を前記周辺凹部に収容して、前記周辺凹部により前記接着層材料の外縁を規定することを特徴とする。 In addition, the method for manufacturing an organic EL device of the present invention includes a step of forming a plurality of light emitting elements having a functional layer having at least an organic light emitting layer between a pair of electrodes in a display region on an element substrate, Forming a sealing layer covering the plurality of light emitting elements on the substrate; and a groove-like shape surrounding the display region on a surface of the sealing substrate opposed to the element substrate facing the element substrate A step of forming a peripheral recess, a step of disposing a liquid adhesive layer material inside the peripheral recess of a surface of the sealing substrate facing the element substrate, and the sealing layer of the element substrate being formed And an adhesion step of bonding the element substrate and the sealing substrate through the adhesive layer material, with the surface facing the surface on which the adhesive layer material of the sealing substrate is disposed, In the bonding step, the outer peripheral side of the sealing substrate is pressed. Said adhesive layer material issued housed in the peripheral recess, characterized in that it defines the outer edge of the adhesive layer material by said peripheral recess.
このように製造することで、素子基板と封止基板とを接合する際に、両基板間の表示領域に未硬化の接着層材料を配置して、両基板により接着層材料を挟み込んで圧迫すると、接着層材料が両基板間で圧縮されて表示領域から両基板の外周側に押し出される。このとき、周辺凹部の内側の表示領域から両基板の外周側に押し出された接着層材料の周縁部は、周辺凹部に流入して収容される。これにより、接着層材料の周縁部が周辺凹部を越えて両基板の外周側へ押し出されることが防止される。したがって、接着層材料が外部に漏出することを防止でき、接着層材料が硬化した後の接着層の外縁を周辺凹部により規定することができる。 By manufacturing in this way, when bonding the element substrate and the sealing substrate, placing an uncured adhesive layer material in the display area between the two substrates and pressing the adhesive layer material between both substrates and pressing The adhesive layer material is compressed between the two substrates and pushed out of the display area to the outer peripheral side of the two substrates. At this time, the peripheral edge portion of the adhesive layer material pushed out from the display area inside the peripheral concave portion to the outer peripheral side of both substrates flows into and is accommodated in the peripheral concave portion. This prevents the peripheral edge portion of the adhesive layer material from being pushed out to the outer peripheral side of both substrates beyond the peripheral recess. Therefore, the adhesive layer material can be prevented from leaking to the outside, and the outer edge of the adhesive layer after the adhesive layer material is cured can be defined by the peripheral recess.
また、本発明の有機EL装置の製造方法は、前記接着工程の前に、前記周辺凹部よりも前記封止基板の外周側の、前記被覆層の前記素子基板側の面を撥液化する工程を有することを特徴とする。 Moreover, the manufacturing method of the organic EL device of the present invention includes a step of lyophobic the surface of the covering layer on the element substrate side, which is closer to the outer periphery of the sealing substrate than the peripheral recesses, before the bonding step. It is characterized by having.
このように製造することで、接着工程において接着層材料が周辺凹部に流入し、周辺凹部が接着層材料に満たされて、接着層材料が周辺凹部よりも封止基板の外周側へ溢れ出ようとした場合に、周辺凹部よりも封止基板の外周側の、封止基板の素子基板側の面により、接着層材料が弾かれて周辺凹部内に留められる。したがって、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止できる。 By manufacturing in this way, the adhesive layer material flows into the peripheral recesses in the bonding process, the peripheral recesses are filled with the adhesive layer material, and the adhesive layer material overflows from the peripheral recesses to the outer peripheral side of the sealing substrate. In this case, the adhesive layer material is repelled by the surface on the element substrate side of the sealing substrate on the outer peripheral side of the sealing substrate relative to the peripheral recess, and is retained in the peripheral recess. Therefore, leakage of the adhesive layer material to the outside can be more effectively prevented.
また、本発明の有機EL装置の製造方法は、前記接着工程の前に、前記周辺凹部によって囲まれた領域の外側の領域に対応する前記素子基板上の領域にシール層材料を配置する工程を有し、前記接着工程において、前記シール層材料を介して前記素子基板の周辺部と前記封止基板の周辺部とを接合することを特徴とする。 Further, the method for manufacturing an organic EL device of the present invention includes a step of disposing a seal layer material in a region on the element substrate corresponding to a region outside the region surrounded by the peripheral recesses before the bonding step. And in the bonding step, the peripheral portion of the element substrate and the peripheral portion of the sealing substrate are bonded via the seal layer material.
このように製造することで、接着工程において接着層による素子基板と封止基板との接着と、シール層による両基板間の封止とを一括して行うことができる。また、接着工程において両基板の外周側に押し出された接着層材料を周辺凹部に収容して外縁を規定することができるので、押し出された接着層材料により未硬化のシール層材料が損傷することが防止され、接着層材料が外部に流出することが防止される。 By manufacturing in this way, it is possible to collectively bond the element substrate and the sealing substrate by the adhesive layer and seal between the two substrates by the sealing layer in the bonding step. Further, since the adhesive layer material extruded to the outer peripheral side of both substrates in the bonding process can be accommodated in the peripheral recess and the outer edge can be defined, the uncured seal layer material is damaged by the extruded adhesive layer material. Is prevented, and the adhesive layer material is prevented from flowing out.
また、本発明の有機EL装置の製造方法は、前記シール層材料は、前記素子基板と前記封止基板とを接着したときに、前記シール層材料が前記周辺凹部から前記封止基板の外周方向に離間するように配置することを特徴とする。 In the organic EL device manufacturing method of the present invention, when the sealing layer material is bonded to the element substrate and the sealing substrate, the sealing layer material moves from the peripheral recess to the outer peripheral direction of the sealing substrate. It arrange | positions so that it may space apart.
このように製造することで、素子基板と封止基板を接合する際に、シール層と周辺凹部との間に空間が形成される。そのため、両基板の外周側に押し出された接着層材料が、万一、周辺凹部を乗り越えて両基板の外周側に溢れ出た場合であっても、その空間によって溢れ出た接着層材料を受容することができる。したがって、接着層材料によってシール層が損傷することをより確実に防止して、接着層材料の外部への漏出をより効果的に防止することができる。 By manufacturing in this way, a space is formed between the sealing layer and the peripheral recess when the element substrate and the sealing substrate are bonded. Therefore, even if the adhesive layer material extruded to the outer peripheral side of both substrates gets over the peripheral recesses and overflows to the outer peripheral side of both substrates, the adhesive layer material overflowing by the space is received. can do. Therefore, it is possible to more reliably prevent the sealing layer from being damaged by the adhesive layer material, and more effectively prevent leakage of the adhesive layer material to the outside.
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following drawings, the scale is appropriately changed for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.
図1は、本実施形態の有機EL装置の配線構造を示す模式図である。この有機EL装置1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:以下、TFT)を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線101と、各走査線101に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線102と、各信号線102に並列に延びる複数の電源線103とからなる配線構成を有し、走査線101と信号線102との各交点付近にサブ画素Xを形成したものである。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a wiring structure of the organic EL device of this embodiment. The
信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路100が接続されている。また、走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路80が接続されている。
A data
さらに、サブ画素Xの各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT(スイッチング素子)112と、このスイッチング用TFT112を介して信号線102から共有される画素信号を保持する保持容量113と、この保持容量113によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT(スイッチング素子)123と、この駆動用TFT123を介して電源線103に電気的に接続したときに電源線103から駆動電流が流れ込む陽極10と、この陽極10と陰極11との間に挟み込まれた発光層(有機発光層)12が設けられている。
Further, each of the sub-pixels X includes a switching TFT (switching element) 112 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the
この有機EL装置1によれば、走査線101が駆動されてスイッチング用TFT112がオン状態になると、そのときの信号線102の電位が保持容量113に保持され、この保持容量113の状態に応じて、駆動用TFT123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT123のチャネルを介して、電源線103から陽極10に電流が流れ、さらに発光層12を介して陰極11に電流が流れる。発光層12は、これを流れる電流量に応じて発光する。
According to the
次に、本実施形態の有機EL装置1の具体的な態様を、図2〜図4を参照して説明する。ここで、図2は有機EL装置1の構成を模式的に示す平面図である。図3は有機EL装置1を模式的に示す断面図である。図4は、図3の要部(A部)を示す図である。
Next, specific modes of the
図2に示すように、有機EL装置1は、素子基板本体21上に形成された上述の各種配線、TFT、及び各種回路により発光層12を発光させるTFT素子基板(以下「素子基板」という。)20を備えている。また、図2では図示を省略するが、素子基板20に対向して封止基板30が配置されている。
素子基板20及び封止基板30は、後述する複数の発光素子及び着色層が形成された領域に対応する表示領域4(中央部分に二点鎖線で示す枠内の領域)と、表示領域4の周囲に配置されたダミー領域5(一点鎖線と二点鎖線との間の領域)とを備えている。
As shown in FIG. 2, the
The
表示領域4内には、複数の画素領域R,G,Bがマトリクス状に配置されている。画素領域R,G,Bは、それぞれ、図1のサブ画素Xが備える陽極10、発光層12、及び陰極11を発光素子として備えている。そして、発光素子から射出された光を各画素領域R,G,Bの着色層に透過させることにより、各画素領域R,G,Bから、それぞれR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の光を取り出すことができるように構成されている。
In the
また、画素領域R,G,Bの各々は、紙面縦方向において同一色で配列しており、いわゆるストライプ配置を構成している。そして、画素領域R,G,Bが一つのまとまりとなって、表示単位画素が構成されており、表示単位画素はR,G,Bの発光を混色させてフルカラー表示を行うようになっている。 In addition, each of the pixel regions R, G, and B is arranged in the same color in the vertical direction of the paper, and forms a so-called stripe arrangement. The pixel regions R, G, and B are combined into one display unit pixel, and the display unit pixel performs full color display by mixing the light emission of R, G, and B. .
素子基板20上の表示領域4の図2中両側であって、ダミー領域5の下層側には、走査線駆動回路80が配置されている。また、素子基板20上の表示領域4の図2中上方側であってダミー領域5の下層側には、検査回路90が配置されている。この検査回路90は、有機EL装置1の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段(不図示)を備え、製造途中や出荷時における有機EL装置1の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
Scanning
図3に示すように、本実施形態の有機EL装置1は、いわゆる「トップエミッション構造」の有機EL装置である。トップエミッション構造は、光を素子基板20側ではなく封止基板30側から取り出すため、素子基板20に配置された各種回路の大きさに影響されず、発光面積を広く確保できる効果がある。そのため、電圧及び電流を抑えつつ輝度を確保することが可能であり、発光素子22の寿命を長く維持することができる。
As shown in FIG. 3, the
図3に示すように、本実施形態の有機EL装置1は、素子基板20と、素子基板20に対向して配置され、接着層34及びシール層35を介して素子基板20に接着された封止基板30とを備えている。
素子基板20上には、陽極10と陰極11との間に、発光層(有機発光層)12を含む機能層を挟持した複数の発光素子22が形成されている。そして、これら複数の発光素子22を覆うように封止層23が形成されている。以下、これらの構成についてさらに詳しく説明する。
As shown in FIG. 3, the
On the
素子基板20は、素子基板本体21と、素子基板本体21の封止基板30側の面を覆う無機絶縁層14とを備えている。素子基板本体21は、例えばシリコン等により形成され、無機絶縁層14は窒化珪素等により形成されている。素子基板本体21上には、駆動用TFT123や、その他、図1に示す各種配線等(図3では図示省略)が形成され、無機絶縁層14はこれらを覆うように形成されている。
The
無機絶縁層14上には、アルミ合金等からなる金属反射板15が内装された平坦化層16が形成されている。平坦化層16は、絶縁性の樹脂材料、例えば、感光性のアクリル樹脂や環状オレフィン樹脂等により形成されている。
On the inorganic insulating
平坦化層16上の金属反射板15に平面的に重なる領域には、発光素子22の陽極10が形成されている。陽極10は、例えば仕事関数が5eV以上の正孔注入層の高いITO(Indium Thin Oxide:インジウム錫酸化物)等の金属酸化物により形成されている。陽極10は、平坦化層16及び無機絶縁層14を貫通するコンタクトホールを介して、素子基板本体21上の駆動用TFT123に接続されている。
The
また、平坦化層16上には、発光素子22を区画する絶縁性の画素隔壁13が形成されている。画素隔壁13は、陽極10の上部を露出させる複数の開口部を備えている。
An insulating
この開口部と画素隔壁13による凹凸形状に沿って、画素隔壁13及び陽極10の上面を覆うように発光層12が形成されている。発光層12としては、例えば、スリチルアミン系発光層にアントラセン系のドーパントをドーピングした層(青色)と、スリチルアミン系発光層にルブレン系のドーパントをドーピングした層(黄色)と、を同時に発光させて白色発光を実現している発光材料を用いることができる。
A
なお、図示は省略するが、本実施形態では、陽極10と発光層12との間に、トリアリールアミン多量体(ATP)層(正孔注入層)、トリフェニルジアミン系誘導体(TPD)層(正孔輸送層)、発光層12と陰極11との間にアルミニウムキノリノール(Alq3)層(電子注入層)、LiF(電子注入バッファー層)がそれぞれ成膜され、各電極からの電子および正孔の注入を容易にさせる構成となっている。本実施形態では、これら正孔注入層、正孔輸送層、発光層12、電子注入層及び電子注入バッファー層により機能層が構成されている。
Although illustration is omitted, in the present embodiment, a triarylamine multimer (ATP) layer (hole injection layer), a triphenyldiamine derivative (TPD) layer (between the
発光層12上には、発光層12の凹凸形状に沿って、発光層12を覆うように、陰極11が形成されている。陰極11は、トップエミッション構造の有機EL装置1においては光透過性を有する材料により形成する必要がある。したがって、陰極11の材料としては、例えば、ITO、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス導電膜(Indium Zinc Oxide:IZO/アイ・ゼット・オー(登録商標))等を用いることができる。
A
また、陰極11は、電子注入効果の大きい(仕事関数が4eV以下)材料が好適に用いられる。例えば、カルシウムやマグネシウム、ナトリウム、リチウム金属、又はこれらの金属化合物である。金属化合物としては、フッ化カルシウム等の金属フッ化物や酸化リチウム等の金属酸化物、アセチルアセトナトカルシウム等の有機金属錯体が該当する。また、これらの材料だけでは、電気抵抗が大きく電極としての性能が低下するため、発光部分を避けるようにアルミニウムや金、銀、銅などの金属層をパターン形成したり、ITOや酸化錫などの透光性を有する金属酸化物導電層との積層体と組み合わせて用いたりしてもよい。
本実施形態では、陰極11の材料としてフッ化リチウムとマグネシウム−銀合金、ITOの積層体を、透光性が得られる膜厚に調整して用いている。
For the
In the present embodiment, a laminate of lithium fluoride, a magnesium-silver alloy, and ITO is used as the material of the
また、素子基板20上には、無機絶縁層14、平坦化層16、及び発光素子22の陰極11を覆って、電極保護層17が形成されている。電極保護層17は、例えば、珪素酸窒化物等の珪素化合物により形成されている。
In addition, an electrode
電極保護層17上には、電極保護層17を覆うように有機緩衝層18が形成されている。この有機緩衝層18は、画素隔壁13とその開口部による凹凸形状を埋めるように形成され、素子基板20上を平坦化している。
An
有機緩衝層18は、光透過性を有する材料により構成され、原料主成分としては、減圧雰囲気下でスクリーン印刷法により形成するために、流動性に優れ、かつ溶媒や揮発成分の無い、全てが高分子骨格の原料となる有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノマー/オリゴマーが用いられる(モノマーの定義:分子量1000以下、オリゴマーの定義:分子量1000〜3000)。例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマーやビスフェノールF型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、アルキルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3',4'-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどがあり、これらが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。
The
また、エポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、電気絶縁性や接着性に優れ、かつ硬度が高く強靭で耐熱性に優れる硬化被膜を形成するものがよく、透光性に優れ、かつ硬化のばらつきの少ない付加重合型がよい。例えば、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、メチル−3,6−エンドメチレン−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤が好ましい。さらに、酸無水物の反応(開環)を促進する反応促進剤として1,6−ヘキサンジオールなど分子量が大きく揮発しにくいアルコール類やアミノフェノールなどのアミン化合物を微量添加することで低温硬化しやすくなる。これらの硬化は60〜100℃の範囲の加熱で行われ、その硬化被膜はエステル結合を持つ高分子となる。
また、硬化時間を短縮するためよく用いられるカチオン放出タイプの重合開始剤を用いてもよいが、硬化収縮が急激に進まないよう反応の遅いものが良く、また、塗布後の加熱による粘度低下で平坦化を進めるように最終的には熱硬化を用いて硬化物を形成するものが好ましい。
Further, as the curing agent that reacts with the epoxy monomer / oligomer, one that forms a cured film having excellent electrical insulation and adhesiveness, high hardness, toughness and excellent heat resistance, excellent translucency, and curing. An addition polymerization type with little variation in the size is preferred. For example, 3-methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, methyl-3,6-endomethylene-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4,5-benzene Acid anhydride curing agents such as tetracarboxylic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are preferred. Furthermore, low-temperature curing is facilitated by adding trace amounts of amine compounds such as alcohols and aminophenols that have a high molecular weight and are difficult to volatilize such as 1,6-hexanediol as reaction accelerators that promote the reaction (ring opening) of acid anhydrides. Become. These curings are performed by heating in the range of 60 to 100 ° C., and the cured film becomes a polymer having an ester bond.
In addition, a cation-releasing type polymerization initiator often used for shortening the curing time may be used. However, a slow reaction may be used so that curing shrinkage does not rapidly advance, and the viscosity is reduced by heating after coating. What forms a hardened | cured material finally using thermosetting so that planarization may be advanced is preferable.
有機緩衝層18上には、有機緩衝層18を覆い、さらに電極保護層17の終端部までを覆うガスバリア層19が形成されている。ガスバリア層19は、透光性、ガスバリア性、耐水性を考慮して、例えば、窒素を含む珪素化合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物等によって形成される。また、本実施形態では、ガスバリア層19は、材質や膜厚を適宜調整することにより、可視光領域における光線透過率を例えば80%以上にしている。
本実施形態では、このガスバリア層19と、上述の電極保護層17及び有機緩衝層18により、発光素子22を覆う封止層23が形成されている。
A
In the present embodiment, a
素子基板20のガスバリア層19が形成された面には、封止基板30が対向して配置されている。封止基板30は、接着層34及びシール層35を介して素子基板20上のガスバリア層19に接着されている。封止基板30は、ガラスまたは透明プラスチック(ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネ―ト、ポリオレフィン等)等の光透過性を有する材料で構成された封止基板本体31を備えている。
On the surface of the
封止基板本体31の素子基板20と対向する面には、着色層37として、赤色着色層37R、緑色着色層37G、青色着色層37Bがマトリクス状に配列形成されている。また、各着色層37の周囲には、各着色層37を区画するブラックマトリクス層(遮光層)32が形成されている。着色層37及びブラックマトリクス層32は、封止基板30を素子基板20に位置合わせして接着ときに、図2に示す表示領域4に配置されるように形成されている。着色層37の膜厚は、例えば、約0.1〜1.5μm程度に調整されている。また、その幅は、約10〜15μm程度で設定されている。
A red
着色層37の各々は、陽極10上に形成された白色の発光層12に対向して平面的に重なるように配置されている。これにより、発光層12から射出された光が、着色層37の各々を透過し、赤色光、緑色光、青色光の各色光として観察者側に射出されるように構成されている。
Each of the
また、封止基板本体31上には、表示領域4に形成された着色層37及びブラックマトリクス層32上を覆うオーバーコート層(被覆層)33が形成されている。オーバーコート層33は、表示領域4の内側から表示領域4の外側のシール層35の形成領域まで延設されている。オーバーコート層33は、例えばアクリルやポリイミド等の樹脂材料により形成され、約2〜4μm程度の膜厚に形成されている。
An overcoat layer (covering layer) 33 that covers the
オーバーコート層33の表示領域4の外側に延設された部分には、溝状の周辺凹部33aが形成されている。本実施形態では、周辺凹部33aは、図4に示すように、表示領域4の外側に形成されたブラックマトリクス層32の外縁に隣接して設けられている。周辺凹部33aは、接着層34の周縁部を収容して接着層34の外縁34eを規定するように設けられている。周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、封止基板30の素子基板20側の面33sは、撥液化処理されて撥液性を付与されている。また、周辺凹部33aは、図2に示すように、表示領域4を囲むように連続して形成されている。
A groove-shaped
素子基板20と封止基板30との間の周辺部には、シール層35が設けられている。シール層35は周辺凹部33aによって囲まれた領域の外側に形成され、素子基板20の周辺部と封止基板30の周辺部とを接着している。シール層35は、周辺凹部33aから封止基板30の外周方向に離間して配置され、接着層34とシール層35との間に空間が形成されている。
A
このシール層35は、紫外線によって硬化して粘度が向上するエポキシ材料等で構成され、例えば、有機緩衝層18と同様の材料が用いられる。また、シール層35のエポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、ジアゾニウム塩、ジフェニルヨウドニウム塩、トリフェルスルフォニウム塩、スルホン酸エステル、鉄アレーン錯体、シラノール/アルミニウム錯体などのカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤が用いられる。
The
また、接着層34は、硬化前の原料主成分としては、流動性に優れ、かつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、シール層35及び有機緩衝層18と同様の材料が用いられる。また、接着層のエポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としても、有機緩衝層18と同様の材料が用いられる。
Further, the
また、この有機EL装置1の周辺部は額縁部(非発光部分)Dとなっている。この額縁部Dは、有機EL装置1の非発光部分であり、例えば、素子基板20上の最端部に設けられた画素隔壁13から素子基板20の端部までの幅である。その額縁部Dは、例えば、2mmで形成され、周辺シール層の幅dは、例えば、約1mmで形成されている。
The peripheral portion of the
次に、本実施形態の有機EL装置1の製造方法について図5〜図7を用いて説明する。図5(a)〜(c)は、素子基板20側の製造工程を示す工程図である。図6(a)〜(d)は、封止基板30側の製造工程を示す工程図である。図7(a)及び(b)は素子基板20と封止基板30との接着工程を示す工程図である。
Next, a method for manufacturing the
まず、図5(a)に示すように、公知の製造方法により、素子基板本体21上に各種配線、TFT、各種回路、無機絶縁層14、平坦化層16、金属反射板15、発光素子22及び画素隔壁13を形成し、これらを覆うように電極保護層17を形成する。
電極保護層17は、例えば、窒素を含む珪素化合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物などを、ECRスパッタ法やイオンプレーティング法等の高密度プラズマ成膜法により成膜して形成する。
First, as shown in FIG. 5A, various wirings, TFTs, various circuits, an inorganic insulating
The electrode
次に、図5(b)に示すように、電極保護層17上に有機緩衝層18を形成する。
具体的には、減圧雰囲気下でスクリーン印刷を行った有機緩衝層18を、60〜100℃の範囲で加熱して硬化させる。この時、有機緩衝層18の形成材料が電極保護層17や陰極11を透過してAlp3などの発光層12に浸透してダークスポットが発生することを防止するために、ある程度硬化が進むまでは低温で放置し、ある程度高粘度化したところで温度を上げて完全硬化させる。
Next, as shown in FIG. 5B, the
Specifically, the
次に、図5(c)に示すように、有機緩衝層18上にガスバリア層19を形成する。
具体的には、ECRスパッタ法やイオンプレーティング法などの高密度プラズマ成膜法で形成する。また、形成前には、酸素プラズマ処理によって密着性を向上させると信頼性が向上する。
以上の工程により、複数の発光素子22を備え、それらが電極保護層17、有機緩衝層18、及びガスバリア層19からなる封止層23により被覆された素子基板20が製造される。
Next, as shown in FIG. 5C, a
Specifically, it is formed by a high density plasma film forming method such as an ECR sputtering method or an ion plating method. In addition, reliability is improved by improving the adhesion by oxygen plasma treatment before the formation.
Through the above steps, an
一方、図6(a)に示すように、封止基板本体31上に、着色層37及びブラックマトリクス層32を形成する。着色層37として、赤色着色層37R、緑色着色層37G、青色着色層37Bを、表示領域4に対応してマトリクス状に形成するとともに、各着色層37R,37G,37Bの周囲に、各着色層37R,37G,37Bを区画するブラックマトリクス層32を形成する。
On the other hand, as shown in FIG. 6A, a
具体的には、各着色層37R,37G,37Bを、陽極10上に形成された白色の発光層12に対向するように形成する。着色層37の膜厚は光透過率を考慮して極力薄い方がよく、赤色着色層37R、緑色着色層37G、青色着色層37Bを、上記した0.1〜1.5μm程度でそれぞれ形成する。
ブラックマトリクス層32は、着色層37と同様かそれ以上の膜厚で形成する。
具体的には、フォトリソグラフィ法やインクジェット法などの印刷法でパターン形成し、使用する材料に応じて塗布量を調整しながら膜厚を適宜調整する。
Specifically, the
The
Specifically, a pattern is formed by a printing method such as a photolithography method or an ink jet method, and the film thickness is appropriately adjusted while adjusting the coating amount in accordance with the material to be used.
次に、図6(b)に示すように、着色層37及びブラックマトリクス層32を覆い、表示領域4の内側から外側まで延設するようにオーバーコート層33を形成する。
具体的には、上記した樹脂材料を原料成分または有機溶媒等で希釈して、フレキソ印刷法やグラビア印刷法やスリットコート法やスクリーン印刷法などを用いてパターン塗布し、熱オーブン等で蒸発及び硬化を行う。
これにより、封止基板本体31上に、着色層37及びブラックマトリクス層32が形成され、これらを覆うオーバーコート層を備えた封止基板30が製造される。
Next, as shown in FIG. 6B, an
Specifically, the resin material described above is diluted with a raw material component or an organic solvent, and is applied with a pattern using a flexographic printing method, a gravure printing method, a slit coating method, a screen printing method, etc. Curing is performed.
Thereby, the
次に、図6(c)に示すように、オーバーコート層33の表示領域4の外側に延設された部分に、例えば、フォトリソグラフィ法やエッチング法等により、図2に示すように表示領域4を囲むように連続した溝状の周辺凹部33aを形成する。本実施形態では、周辺凹部33aは、表示領域4の外側に形成されたブラックマトリクス層32の外縁に隣接するように近接して形成する。
Next, as shown in FIG. 6C, the display area shown in FIG. 2 is formed on the portion of the
次に、周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、オーバーコート層33の素子基板20に対向させる面33sを撥液化して、濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で4フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理(CF4プラズマ処理)を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された封止基板30を室温まで冷却することで、周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、オーバーコート層33の素子基板20に対向させる面33sを撥液化して、濡れ性を低下させる。
Next, the
次に、図6(d)に示すように、オーバーコート層33上の、周辺凹部33aの内側(図2に破線で示す周辺凹部33aの内側の領域)に、液状の接着層材料340を配置する。具体的には、例えば、ジェットディスペンス法により前述した熱硬化性樹脂材料を塗布していく。
Next, as shown in FIG. 6D, a liquid
次に、図7(a)に示すように、素子基板20上に形成されたガスバリア層19上の周辺部にシール層材料350を配置する。シール層材料350は、封止基板30に形成された周辺凹部33aによって囲まれた領域(図2参照)の外側に対応するガスバリア層19上の領域に配置する。また、シール層材料350は、素子基板20と封止基板30とを接着したときに、シール層35が周辺凹部33aから封止基板30の外周方向に離間するように、シール層材料350の内縁が対向して配置される封止基板30の周辺凹部33aの外縁よりも素子基板20の外周側に位置するように配置する。
具体的には、ニードルディスペンス法により前述した紫外線硬化性樹脂材料を封止基板30の周囲に塗布していく。なお、この塗布方法は、スクリーン印刷法を用いてもよい
Next, as shown in FIG. 7A, a
Specifically, the above-described ultraviolet curable resin material is applied around the sealing
次いで、シール層材料350が塗布された素子基板20に紫外線照射を行う。
具体的には、シール層材料350の硬化反応を開始させる目的で、例えば、照度30mW/cm2、光量500mJ/cm2の紫外線を素子基板20に照射する。この時、紫外線硬化性樹脂であるシール層材料350のみが反応し、徐々に粘度が向上する。
Next, the
Specifically, for example, the
次に、素子基板20の封止層23が形成された面と、封止基板30の接着層材料340が配置された面とを対向させ、図7(b)に示すように、接着層材料340及びシール層材料350を介して素子基板20と封止基板30とを貼り合わせる。このとき、貼り合わせた素子基板20と封止基板30とのアライメント位置の微調整を行いながら、素子基板20と封止基板30の双方を接近させていく。
Next, the surface of the
具体的には、素子基板20と封止基板30とを面方向(平行方向)に相対移動させ、発光素子22と着色層37との対向位置を調整する。例えば、発光素子22と着色層37との位置ずれが2μm以下となるように調整する。このようにして、最終的な位置合わせ(補正)を行う。
Specifically, the
このとき、封止基板30と素子基板20との間で圧迫されて、封止基板30の外周側に押し出された接着層材料340を周辺凹部33aに収容して、周辺凹部33aにより接着層材料340の外縁を規定する。
このように、アライメント位置精度を調整しながら周辺凹部33aにより接着層材料340の外縁を規定し、例えば、真空度1Paの真空雰囲気下で、加圧600Nで200秒間保持して圧着させる。
At this time, the
As described above, the outer edge of the
次に、圧着して貼り合わせた素子基板20と封止基板30とを大気雰囲気中で加熱する。具体的には、素子基板20側と封止基板30側とを貼り合わせた状態で、大気中において60〜100℃程度で加熱することで、前述した硬化反応が開始したシール層材料350と、接着層材料340とを熱硬化させ、シール層35と接着層34とを形成する。接着層34は、ガスバリア層19を保護する役割もあり、液状体のままであったりすると高温となる場所に放置された場合に、装置内で液状体が対流してガスバリア層19を損傷する虞があるため、接着層34は必ず固体化させておく。
以上により、上述した本実施形態の有機EL装置1を製造することができる。
Next, the
As described above, the
次に、本実施形態の作用について説明する。
本実施形態では、表示領域4の外側に、接着層34の周縁部を収容して接着層34の外縁34eを規定する溝状の周辺凹部33aが、表示領域4を囲んで形成されている。このため、素子基板20と封止基板30とを接合する際に、上述のように、両基板間の表示領域4に未硬化の接着層材料340を配置して、両基板により接着層材料340を挟み込んで圧迫すると、接着層材料340が両基板間で圧縮されて表示領域4から両基板の外周側に押し出される。
Next, the operation of this embodiment will be described.
In the present embodiment, a groove-shaped
このとき、周辺凹部33aの内側の表示領域4から両基板の外周側に押し出された接着層材料340の周縁部は、周辺凹部33aに流入して収容される。これにより、接着層材料340の周縁部が周辺凹部33aを越えて両基板の外周側へ押し出されることが防止される。したがって、接着層材料340が外部に漏出することを防止でき、接着層材料340が硬化した後の接着層34の外縁34eを周辺凹部33aにより規定することができる。
At this time, the peripheral edge portion of the
また、本実施形態では、着色層37及びブラックマトリクス層32を覆うオーバーコート層33に周辺凹部33aが形成されている。そのため、オーバーコート層33をパターニングすることで容易に周辺凹部33aを形成することができる。また、比較的膜厚の大きいオーバーコート層33に周辺凹部33aを形成し、周辺凹部33aの容量を拡大して接着層材料340の収容力を向上させ、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止できる。
In the present embodiment, the
また、周辺凹部よりも封止基板30の外周側の、封止基板30の素子基板20側の面33sが撥液化されていることで、周辺凹部33aが接着層材料340に満たされて、接着層材料340が周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側へ溢れ出ようとした場合に、周辺凹部33aよりも封止基板30の外周側の、封止基板30の素子基板20側の面33sにより、接着層材料340が弾かれて周辺凹部33a内に留められる。したがって、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止できる。
Further, since the
このように、本実施形態では、素子基板20上の発光素子22は封止層23によって被覆されて封止され、素子基板20と封止基板30とは接着層34を介して接着され、さらに封止基板30に形成された周辺凹部33aにより、接着層材料340の外部への漏出が防止されている。このため、従来、シール層35に要求されていた素子基板20と封止基板との接着機能や発光素子22の封止機能を、接着層34及び封止層23によって担うことができ、シール層35を省略、あるいは削減することが可能となる。
したがって、シール層35を省略、あるいは削減した場合には、シール層35の製造工程を省略あるいは簡略化し、シール層材料350のコストを削減することができる。
Thus, in this embodiment, the
Therefore, when the
しかし、本実施形態のように、あえてシール層35を形成することで、有機EL装置1の封止性能を向上させ、水分等の浸入を防止して発光素子22の劣化を防止することができる。また、周辺凹部33aにより、素子基板20と封止基板30とを接合する際に両基板の外周側に押し出された接着層材料340によって未硬化のシール層材料350が損傷することが防止され、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止することができる。
However, as in the present embodiment, the
また、本実施形態では、シール層35は、周辺凹部33aから封止基板30の外周方向に離間して配置されているので、シール層35と周辺凹部33aとの間に空間が形成される。そのため、両基板の外周側に押し出された接着層材料340が、万一、周辺凹部33aを乗り越えて両基板の外周側に溢れ出た場合であっても、その空間によって溢れ出た接着層材料340を受容することができる。したがって、素子基板20と封止基板30とを接合する際に、両基板の外周側に押し出された接着層材料340によって未硬化のシール層材料350が損傷することをより確実に防止して、接着層材料340の外部への漏出をより効果的に防止することができる。
In the present embodiment, since the
尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本発明はトップエミッション型の有機EL装置だけでなく、ボトムエミッション型の有機EL装置に適用してもよい。
また、周辺凹部は、封止基板側ではなく素子基板側に形成してもよく、封止基板と素子基板の両方に形成してもよい。また、周辺凹部は、オーバーコート層に形成するのではなく、封止基板本体に直接形成してもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the present invention may be applied not only to a top emission type organic EL device but also to a bottom emission type organic EL device.
The peripheral recess may be formed not on the sealing substrate side but on the element substrate side, or on both the sealing substrate and the element substrate. Further, the peripheral recess may be formed directly on the sealing substrate body instead of being formed on the overcoat layer.
1 有機EL装置、4 表示領域、10 陽極(一対の電極)、11 陰極(一対の電極)、12 発光層(有機発光層)、17 電極保護層(封止層)、18 有機緩衝層(封止層)、19 ガスバリア層(封止層)、20 素子基板、21 素子基板本体、22 発光素子、23 封止層、30 封止基板、32 ブラックマトリクス層(遮光層)、33 オーバーコート層(被覆層)、33a 周辺凹部、33s 面、34 接着層、34e 外縁、35 シール層、37 着色層、37B 青色着色層(着色層)、37G 緑色着色層(着色層)、37R 赤色着色層(着色層)、340 接着層材料
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記被覆層には、前記複数の発光素子が配置された表示領域を囲むように前記着色層の外側に周辺凹部が設けられており、
前記封止層と前記被覆層との間に設けられた前記接着層は、前記封止層の周辺端部とは接しておらず、
前記接着層の周縁部は、前記周辺凹部内に配置されており、
前記周辺凹部により、前記接着層の外縁が規定されていることを特徴とする有機EL装置。 A plurality of light-emitting elements each having a light-emitting layer between a pair of electrodes, an element substrate provided with a sealing layer covering the plurality of light-emitting elements, and a sealing layer provided with a colored layer and a coating layer covering the colored layer An organic EL device bonded to the stop substrate with an adhesive layer so that the light emitting element and the colored layer face each other,
In the covering layer, a peripheral concave portion is provided outside the colored layer so as to surround a display area in which the plurality of light emitting elements are arranged,
The adhesive layer provided between the sealing layer and the covering layer is not in contact with the peripheral edge of the sealing layer,
Periphery of the adhesive layer is disposed in the peripheral recess,
An organic EL device , wherein an outer edge of the adhesive layer is defined by the peripheral recess.
前記シール層と前記接着層とは接する部分を有しておらず、
前記封止層は、前記シール層の外側まで延在するように設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL装置。 A seal layer is provided outside the peripheral recess,
Not have a portion in contact and the adhesive layer and the sealing layer,
The organic EL device according to claim 1 , wherein the sealing layer is provided so as to extend to the outside of the sealing layer .
平面視において、前記着色層を区画する遮光層は、前記着色層と前記周辺凹部との間に設けられており、
前記接着層と前記着色層とは、互いに接する部分を有しておらず、
前記接着層と前記遮光層とは、前記周辺凹部において接していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の有機EL装置。 The sealing substrate and the adhesive layer are made of a light transmissive material,
In plan view, the light-shielding layer for partitioning the colored layer is provided between the peripheral recess and the colored layer,
The adhesive layer and the colored layer do not have a portion in contact with each other,
The organic EL device according to claim 1, wherein the adhesive layer and the light shielding layer are in contact with each other at the peripheral recess .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008028503A JP5228513B2 (en) | 2008-02-08 | 2008-02-08 | Organic EL device |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008028503A JP5228513B2 (en) | 2008-02-08 | 2008-02-08 | Organic EL device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009187857A JP2009187857A (en) | 2009-08-20 |
JP5228513B2 true JP5228513B2 (en) | 2013-07-03 |
Family
ID=41070888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008028503A Active JP5228513B2 (en) | 2008-02-08 | 2008-02-08 | Organic EL device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5228513B2 (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101695019B1 (en) * | 2009-12-18 | 2017-01-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic Light Emitting Device and Method For The Same |
CN103930503B (en) * | 2011-11-14 | 2017-12-12 | Lg化学株式会社 | Bonding film |
WO2014065171A1 (en) * | 2012-10-23 | 2014-05-01 | シャープ株式会社 | Bonded substrate manufacturing method |
KR102133421B1 (en) * | 2013-08-26 | 2020-07-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic light emitting device and manufacturing method the same |
JP6425877B2 (en) * | 2013-09-26 | 2018-11-21 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Display element and method of manufacturing the same |
JP6507545B2 (en) * | 2014-09-24 | 2019-05-08 | セイコーエプソン株式会社 | Organic electroluminescent device, method of manufacturing organic electroluminescent device, electronic device |
KR102468861B1 (en) * | 2017-12-22 | 2022-11-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | Light Emitting Display Device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4432367B2 (en) * | 2003-05-28 | 2010-03-17 | カシオ計算機株式会社 | Display panel |
KR100666550B1 (en) * | 2004-04-07 | 2007-01-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | Flat panel displaye and fabrication method of the same |
JP2007128741A (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Seiko Epson Corp | Organic el device, electronic apparatus, and manufacturing method of organic el device |
JP4852988B2 (en) * | 2005-11-10 | 2012-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | ELECTROLUMINESCENCE DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE |
US7999372B2 (en) * | 2006-01-25 | 2011-08-16 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device and method of fabricating the same |
-
2008
- 2008-02-08 JP JP2008028503A patent/JP5228513B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009187857A (en) | 2009-08-20 |
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Date | Code | Title | Description |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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