JP2007128741A - Organic el device, electronic apparatus, and manufacturing method of organic el device - Google Patents

Organic el device, electronic apparatus, and manufacturing method of organic el device Download PDF

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JP2007128741A JP2005320465A JP2005320465A JP2007128741A JP 2007128741 A JP2007128741 A JP 2007128741A JP 2005320465 A JP2005320465 A JP 2005320465A JP 2005320465 A JP2005320465 A JP 2005320465A JP 2007128741 A JP2007128741 A JP 2007128741A
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Tsuyoshi Maeda
強 前田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device having a longer luminescence life, an electronic apparatus, and a manufacturing method of the organic EL device. <P>SOLUTION: This organic EL device 10 is a top emission type organic EL device. An element substrate 1 in which a plurality of light emitting elements L obtained by laminating anodes 5c, 5d, 5f having light transmissibility and a functional layer K containing an organic luminescent layer 7, and a cathode 9 having semi-transmissible reflectivity in order are formed is bonded to a sealed substrate 2 in which respective color elements 12r, 12g, 12b corresponding to a plurality of the light emitting elements L are formed through an adhesive layer 11. A gas barrier layers 16, 17 made of an oxidized silicon nitride having high light transmissibility and low gas permeability are provided on both of the element substrate 1 side facing the adhesive layer 11 and the sealing substrate 2 side. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL(エレクトロルミネセンス)素子を有する有機EL発光装置、およ
び有機EL発光装置を備えた電子機器、有機EL発光装置の製造方法に関する。
The present invention relates to an organic EL light emitting device having an organic EL (electroluminescence) element, an electronic device including the organic EL light emitting device, and a method for manufacturing the organic EL light emitting device.

電子とホール(正孔)が注入され、それらの再結合により発光中心が励起される有機E
L素子は、水分や有機溶媒成分が吸着することによって、黒い斑点状のダークスポットが
発生する。そして、ダークスポットが成長することにより発光寿命が低下する。
Organic E in which electrons and holes are injected and the emission center is excited by their recombination
The L element generates a black spot-like dark spot by adsorbing moisture or an organic solvent component. The light emission lifetime is reduced by the growth of dark spots.

このような問題を改善するために、基板上にカラーフィルタと、カラーフィルタを覆っ
て平坦化する有機層と、透明電極(ホール注入電極)と、有機発光層を含む機能層と、陰
極(電子注入電極)とが順次積層され、有機層と透明電極との間に窒化シリコンを含有す
るパッシベーション層を備えた有機EL素子が知られている(特許文献1)。
In order to improve such problems, a color filter on a substrate, an organic layer that covers and flattens the color filter, a transparent electrode (hole injection electrode), a functional layer including an organic light emitting layer, and a cathode (electron) An organic EL element having a passivation layer containing silicon nitride between an organic layer and a transparent electrode is known (Patent Document 1).

このような有機EL素子は、カラーフィルタや有機層に含まれる水分や有機溶媒成分の
ガスが放出されることをパッシベーション層を設けることにより防止し、発光機能が低下
することを低減したものである。
Such an organic EL element prevents the release of moisture or organic solvent component gas contained in a color filter or an organic layer by providing a passivation layer, and reduces a decrease in light emitting function. .

特開2002−134268号公報JP 2002-134268 A

しかしながら、上記有機EL素子においては、陰極側から水分や有機溶媒成分が吸着す
ることが考えられる。また、カラーフィルタが形成された封止基板と有機EL素子が形成
された素子基板とを接合したトップエミッション型の有機EL発光装置では、封止基板か
ら放出される水分や有機溶剤成分のガスを効率よく遮蔽して、有機発光層を含む機能層の
発光機能の低下を防止する必要があるという課題がある。
However, in the organic EL element, it is considered that moisture and organic solvent components are adsorbed from the cathode side. Further, in a top emission type organic EL light emitting device in which a sealing substrate on which a color filter is formed and an element substrate on which an organic EL element is formed are bonded, moisture or organic solvent component gas released from the sealing substrate is removed. There exists a subject that it is necessary to shield efficiently and to prevent the fall of the light emission function of the functional layer containing an organic light emitting layer.

本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、より長い発光寿命を有する有機E
L発光装置および電子機器、有機EL発光装置の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above-described problems, and is an organic E having a longer emission lifetime.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an L light emitting device, an electronic apparatus, and an organic EL light emitting device.

本発明の有機EL発光装置は、有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成さ
れた素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層を介
して接合された有機EL発光装置であって、接着層に面する素子基板側または封止基板側
のいずれかにガスバリア層を設けたことを特徴とする。
In the organic EL light emitting device of the present invention, an element substrate on which a plurality of light emitting elements having a functional layer including an organic light emitting layer is formed and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light emitting elements are formed have an adhesive layer. An organic EL light emitting device bonded via a gas barrier layer is provided on either the element substrate side or the sealing substrate side facing the adhesive layer.

この構成によれば、素子基板と封止基板とを接合する接着層に面して素子基板側または
封止基板側のいずれかに気体を透過しにくいガスバリア層が設けられているので、少なく
とも色要素に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成された発光素子に
吸着して発光素子の発光寿命が短くなることを抑制することができる。ゆえに、より長い
発光寿命を有する有機EL発光装置を提供することができる。
According to this configuration, since the gas barrier layer that is difficult to transmit gas is provided on either the element substrate side or the sealing substrate side facing the adhesive layer that joins the element substrate and the sealing substrate, at least the color It is possible to suppress a reduction in the light emission lifetime of the light emitting element due to adsorption of a plurality of gas molecules of moisture and solvent components contained in the element to the light emitting element formed on the element substrate. Therefore, an organic EL light emitting device having a longer light emission lifetime can be provided.

本発明の他の有機EL発光装置は、有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形
成された素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層
を介して接合された有機EL発光装置であって、接着層に面する素子基板側と封止基板側
の両方にガスバリア層を設けたことを特徴とする。
In another organic EL light emitting device of the present invention, an element substrate on which a plurality of light emitting elements having a functional layer including an organic light emitting layer is formed and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light emitting elements are formed are bonded. An organic EL light-emitting device bonded through layers, wherein a gas barrier layer is provided on both the element substrate side and the sealing substrate side facing the adhesive layer.

この構成によれば、素子基板と封止基板とを接合する接着層に面して素子基板側と封止
基板側の両方に気体を透過しにくいガスバリア層が設けられているので、少なくとも色要
素に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成された発光素子に吸着して
発光素子の発光寿命が短くなることを抑制することができる。ゆえに、素子基板と封止基
板のうちいずれか一方にガスバリア層を設ける場合に比べて、より長い発光寿命を有する
有機EL発光装置を提供することができる。
According to this configuration, since the gas barrier layer that faces the adhesive layer that joins the element substrate and the sealing substrate and is difficult to transmit gas is provided on both the element substrate side and the sealing substrate side, at least the color element It is possible to suppress a reduction in the light emission lifetime of the light emitting element due to adsorption of a plurality of gas molecules of moisture and solvent components contained in the light emitting element formed on the element substrate. Therefore, it is possible to provide an organic EL light emitting device having a longer light emission lifetime than when a gas barrier layer is provided on one of the element substrate and the sealing substrate.

これらの発明の有機EL発光装置において、上記封止基板には、色要素を覆う有機膜か
らなる平坦化層を有していることを特徴とする。
In the organic EL light-emitting devices of these inventions, the sealing substrate has a planarizing layer made of an organic film covering the color elements.

この構成によれば、色要素を覆う有機膜からなる平坦化層を有しているので、発光素子
からの発光が色要素の表面の凹凸によって散乱して輝度が低下することを抑制することが
できる。また、ガスバリア層は、少なくとも平坦化層と発光素子との間に設けられるので
、有機膜からなる平坦化層に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成さ
れた発光素子に吸着して発光素子の発光寿命が短くなることも抑制することができる。ゆ
えに、発光輝度が高く、より長い発光寿命を有する有機EL発光装置を提供することがで
きる。
According to this configuration, since the flattening layer made of an organic film covering the color element is provided, it is possible to suppress the light emission from the light emitting element from being scattered by the unevenness of the surface of the color element and lowering the luminance. it can. In addition, since the gas barrier layer is provided at least between the planarization layer and the light emitting element, moisture and solvent component gas molecules contained in the planarization layer made of an organic film are adsorbed to the light emitting element formed on the element substrate. Accordingly, it is possible to prevent the light emission lifetime of the light emitting element from being shortened. Therefore, it is possible to provide an organic EL light emitting device having high emission luminance and a longer emission lifetime.

また、上記ガスバリア層が、酸化窒化シリコンからなることが好ましい。これによれば
、酸化窒化シリコンは、高い光透過性を有する一方で低い気体透過性を有しているので、
ガスバリア層を透過する発光素子の発光の色相や輝度の変化が起こり難く、少なくとも色
要素に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が発光素子に吸着して発光寿命が短くなること
を抑制することができる。
The gas barrier layer is preferably made of silicon oxynitride. According to this, since silicon oxynitride has high gas permeability while having low gas permeability,
It is difficult to change the hue and brightness of light emission of the light-emitting element that passes through the gas barrier layer, and at least prevent moisture molecules and solvent component gas molecules included in the color element from adsorbing to the light-emitting element and shortening the light emission lifetime. it can.

また、上記ガスバリア層において、含有する酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、
40%以上80%未満であることが好ましい。酸化窒化シリコンは、酸素の割合が増加す
るとガスバリア層としての光透過率は上昇する傾向となる。しかし、気体透過率も上昇し
てガスバリア層としての機能が低下する。これによれば、酸素の割合が、40%以上80
%未満であれば、気体透過率が低い状態を維持して、比較的に高い光透過率を得ることが
できる。すなわち、発光素子からの発光に比較的に影響を与えずにガスバリア層としての
機能を維持することができる。
In the gas barrier layer, the ratio of oxygen to the total amount of oxygen and nitrogen contained is
It is preferable that it is 40% or more and less than 80%. Silicon oxynitride tends to increase the light transmittance as a gas barrier layer when the proportion of oxygen increases. However, the gas permeability is increased and the function as a gas barrier layer is lowered. According to this, the ratio of oxygen is 40% or more and 80%.
If it is less than%, a relatively high light transmittance can be obtained while maintaining a low gas transmittance. That is, the function as a gas barrier layer can be maintained without relatively affecting the light emission from the light emitting element.

本発明の電子機器は、上記発明の有機EL発光装置を備えたことを特徴とする。これに
よれば、より長い発光寿命を有する有機EL発光装置を備えているので、長期に渡って使
用することが可能な高い信頼性を有する電子機器を提供することができる。
An electronic apparatus of the present invention includes the organic EL light emitting device of the present invention. According to this, since the organic EL light emitting device having a longer light emission lifetime is provided, it is possible to provide a highly reliable electronic device that can be used for a long time.

本発明の有機EL発光装置の製造方法は、有機発光層を含む機能層を有する発光素子が
複数形成された素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板とを
備えた有機EL発光装置の製造方法であって、複数の発光素子が形成された素子基板の表
面または色要素が形成された封止基板の表面を覆うようにガスバリア層を形成する工程と
、素子基板と封止基板とを接着層を介して接合する工程とを備えたことを特徴とする。
The method for manufacturing an organic EL light emitting device of the present invention includes an element substrate on which a plurality of light emitting elements having a functional layer including an organic light emitting layer is formed, and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light emitting elements are formed. A method of manufacturing an organic EL light emitting device comprising: a step of forming a gas barrier layer so as to cover a surface of an element substrate on which a plurality of light emitting elements are formed or a surface of a sealing substrate on which color elements are formed; And a step of bonding the substrate and the sealing substrate through an adhesive layer.

この方法によれば、ガスバリア層を形成する工程では、複数の発光素子が形成された素
子基板の表面または色要素が形成された封止基板の表面を覆うようにガスバリア層が形成
される。その後、素子基板と封止基板とが接着層を介して接合される。したがって、接着
層に面して素子基板側または封止基板側のいずれか一方にガスバリア層が形成される。ゆ
えに、少なくとも色要素に含まれる水分や溶剤成分の気体分子が発光素子に吸着して発光
寿命が短くなることを抑制した長い発光寿命を有する有機EL発光装置を製造することが
できる。
According to this method, in the step of forming the gas barrier layer, the gas barrier layer is formed so as to cover the surface of the element substrate on which the plurality of light emitting elements are formed or the surface of the sealing substrate on which the color elements are formed. Thereafter, the element substrate and the sealing substrate are bonded via an adhesive layer. Therefore, a gas barrier layer is formed on either the element substrate side or the sealing substrate side facing the adhesive layer. Therefore, it is possible to manufacture an organic EL light emitting device having a long light emission lifetime in which at least water molecules contained in the color element and gas molecules of the solvent component are adsorbed on the light emitting element and the light emission life is shortened.

本発明の他の有機EL発光装置の製造方法は、有機発光層を含む機能層を有する発光素
子が複数形成された素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板
とを備えた有機EL発光装置の製造方法であって、色要素が形成された封止基板の表面を
覆うように第1ガスバリア層を形成する工程と、複数の発光素子が形成された素子基板の
表面を覆うように第2ガスバリア層を形成する工程と、素子基板と封止基板とを接着層を
介して接合する工程とを備えたことを特徴とする。
Another organic EL light emitting device manufacturing method of the present invention includes an element substrate on which a plurality of light emitting elements each having a functional layer including an organic light emitting layer are formed, and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light emitting elements are formed. A process for forming a first gas barrier layer so as to cover a surface of a sealing substrate on which color elements are formed, and an element substrate on which a plurality of light emitting elements are formed And a step of forming a second gas barrier layer so as to cover the surface of the substrate, and a step of bonding the element substrate and the sealing substrate through an adhesive layer.

この方法によれば、第1ガスバリア層を形成する工程では、封止基板側に第1ガスバリ
ア層が色要素を覆うように形成される。第2ガスバリア層を形成する工程では、素子基板
側に第2ガスバリア層が発光素子を覆うように形成される。その後、素子基板と封止基板
とが接着層を介して接合される。したがって、接着層に面して素子基板側と封止基板側の
両方にガスバリア層が形成される。ゆえに、少なくとも色要素に含まれる水分や溶剤成分
の気体分子が発光素子に吸着して発光寿命が短くなることを抑制したことにより長い発光
寿命を有する有機EL発光装置を製造することができる。
According to this method, in the step of forming the first gas barrier layer, the first gas barrier layer is formed on the sealing substrate side so as to cover the color elements. In the step of forming the second gas barrier layer, the second gas barrier layer is formed on the element substrate side so as to cover the light emitting element. Thereafter, the element substrate and the sealing substrate are bonded via an adhesive layer. Therefore, the gas barrier layer is formed on both the element substrate side and the sealing substrate side facing the adhesive layer. Therefore, it is possible to manufacture an organic EL light emitting device having a long light emission lifetime by suppressing the light emission element from adsorbing at least water molecules and gas molecules of a solvent component contained in the color elements to shorten the light emission lifetime.

これらの本発明の有機EL発光装置の製造方法において、上記ガスバリア層または第1
のガスバリア層を形成する工程の前に、色要素を覆うように有機膜からなる平坦化層を形
成する工程を備えたことを特徴とする。
In these methods for producing an organic EL light emitting device of the present invention, the gas barrier layer or the first
Before the step of forming the gas barrier layer, a step of forming a planarizing layer made of an organic film so as to cover the color element is provided.

この方法によれば、ガスバリア層は、色要素を覆うように平坦化層が形成された後に、
形成される。したがって、発光素子からの発光が色要素の表面の凹凸によって散乱して輝
度が低下することを平坦化層で抑制することができる。また、ガスバリア層または第1ガ
スバリア層は、少なくとも平坦化層と発光素子との間に設けられるので、有機膜からなる
平坦化層に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成された発光素子に吸
着して発光素子の発光寿命が短くなることも抑制することができる。ゆえに、発光輝度が
高く、より長い発光寿命を有する有機EL発光装置を製造することができる。
According to this method, the gas barrier layer is formed after the planarization layer is formed so as to cover the color element.
It is formed. Therefore, the planarization layer can suppress the light emission from the light emitting element from being scattered by the unevenness of the surface of the color element and lowering the luminance. In addition, since the gas barrier layer or the first gas barrier layer is provided at least between the planarization layer and the light emitting element, a plurality of gas molecules of moisture and solvent components contained in the planarization layer made of an organic film are formed on the element substrate. It is also possible to suppress a reduction in the light emission lifetime of the light emitting element due to adsorption to the light emitting element. Therefore, it is possible to manufacture an organic EL light emitting device having high emission luminance and a longer light emission lifetime.

また、上記ガスバリア層、第1ガスバリア層および第2ガスバリア層が酸化窒化シリコ
ンからなるように形成することが好ましい。これによれば、酸化窒化シリコンは、高い光
透過性を有する一方で低い気体透過性を有しているので、ガスバリア層を透過する発光素
子の発光の色相や輝度の変化が起こり難く、少なくとも色要素に含まれる水分や溶媒成分
の気体分子が発光素子に吸着して発光寿命が短くなることを抑制することが可能である。
ゆえに、優れた機能を有するガスバリア層、第1ガスバリア層および第2ガスバリア層を
形成することができる。
The gas barrier layer, the first gas barrier layer, and the second gas barrier layer are preferably formed of silicon oxynitride. According to this, since silicon oxynitride has high gas permeability and low gas permeability, it does not easily change the hue or luminance of the light emitting element that transmits the gas barrier layer. It is possible to prevent moisture molecules contained in the element and gas molecules of the solvent component from adsorbing to the light emitting element and shortening the light emission lifetime.
Therefore, the gas barrier layer, the first gas barrier layer, and the second gas barrier layer having an excellent function can be formed.

また、上記ガスバリア層、第1ガスバリア層および第2ガスバリア層において、含有す
る酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、40%以上80%未満となるように形成する
ことが好ましい。酸化窒化シリコンは、酸素の割合が増加するとガスバリア層の光透過率
は上昇する傾向となる。しかし、気体透過率も上昇してガスバリア層としての機能が低下
する。これによれば、酸素の割合が、40%以上80%未満であれば、気体透過率が低い
状態を維持して、比較的に高い光透過率を得ることができる。すなわち、発光素子からの
発光に比較的に影響を与えずに本来の機能を維持したガスバリア層、第1ガスバリア層お
よび第2ガスバリア層を形成することができる。
In the gas barrier layer, the first gas barrier layer, and the second gas barrier layer, the ratio of oxygen to the total amount of oxygen and nitrogen contained is preferably 40% or more and less than 80%. In silicon oxynitride, the light transmittance of the gas barrier layer tends to increase as the proportion of oxygen increases. However, the gas permeability is increased and the function as a gas barrier layer is lowered. According to this, if the ratio of oxygen is 40% or more and less than 80%, a relatively low light transmittance can be obtained while maintaining a low gas permeability. That is, it is possible to form the gas barrier layer, the first gas barrier layer, and the second gas barrier layer that maintain their original functions without relatively affecting the light emission from the light emitting element.

本発明の実施形態は、発光素子としての有機EL素子を備えた有機EL発光装置を例に
説明する。尚、説明に用いる各図面は、構成を明確にするために適宜拡大または縮尺して
いる。
In the embodiment of the present invention, an organic EL light emitting device including an organic EL element as a light emitting element will be described as an example. In addition, each drawing used for description is appropriately enlarged or reduced in order to clarify the configuration.

<有機EL発光装置>
図1は、有機EL発光装置を示す概略断面図である。図1に示すように、本実施形態の
有機EL発光装置10は、発光素子Lが複数形成された素子基板1と、各色要素12r,
12g,12bが形成された封止基板2とを備えている。素子基板1と封止基板2とは、
各色要素12r,12g,12bが各発光素子Lに対応するように接着層11を介して接
合されている。接着層11に面する封止基板2側の表面には、第1ガスバリア層としての
ガスバリア層16が設けられ、同じく素子基板1側の表面には、第2ガスバリア層として
のガスバリア層17が設けられている。すなわち、2つのガスバリア層16,17が互い
に対向する状態で接着層11を介して素子基板1と封止基板2とが接合されている。色要
素12rは赤色(Red)系、色要素12gは緑色(Green)系、色要素12bは青
色(Blue)系を指す。
<Organic EL light emitting device>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an organic EL light emitting device. As shown in FIG. 1, the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment includes an element substrate 1 on which a plurality of light emitting elements L are formed, and color elements 12r,
And a sealing substrate 2 on which 12g and 12b are formed. The element substrate 1 and the sealing substrate 2 are
The color elements 12r, 12g, and 12b are bonded via the adhesive layer 11 so as to correspond to the light emitting elements L. A gas barrier layer 16 as a first gas barrier layer is provided on the surface on the sealing substrate 2 side facing the adhesive layer 11, and a gas barrier layer 17 as a second gas barrier layer is provided on the surface on the element substrate 1 side. It has been. That is, the element substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded via the adhesive layer 11 with the two gas barrier layers 16 and 17 facing each other. The color element 12r indicates a red (Red) system, the color element 12g indicates a green (Green) system, and the color element 12b indicates a blue (Blue) system.

各色要素12r,12g,12bに対応する発光素子Lは、光反射性を有する反射層3
と、光透過性を有する陽極5c,5d,5fと、有機発光層7を含む機能層Kと、陽極5
c,5d,5fに対向して配置される半透過反射性を有する陰極9とが、素子基板1に順
次積層されたものである。また、反射層3と陰極9との間で光共振器が構成されている。
このような発光素子Lを備えた有機EL発光装置10は、発光素子Lの発光が封止基板2
側から出射される所謂トップエミッション型と呼ばれるものである。
The light-emitting elements L corresponding to the color elements 12r, 12g, and 12b each have a reflective layer 3 having light reflectivity.
A light-transmitting anode 5c, 5d, 5f, a functional layer K including the organic light emitting layer 7, and an anode 5
The cathode 9 having transflective properties disposed opposite to c, 5d, and 5f is sequentially laminated on the element substrate 1. An optical resonator is configured between the reflective layer 3 and the cathode 9.
In the organic EL light emitting device 10 provided with such a light emitting element L, the light emission of the light emitting element L is the sealing substrate 2.
The so-called top emission type is emitted from the side.

封止基板2は、透明なガラス基板あるいはプラスチック等の樹脂基板を用いることがで
きる。3種の異なる色要素12r,12g,12bは、遮光部13によって区画されてお
り、例えば色要素材料としての顔料を含む感光性樹脂を塗布して露光現像することにより
形成される。遮光部13は、例えばCrやブラック樹脂などからなるシャドウマスク上に
各色要素12r,12g,12bのいずれか2つが重なったものである。これらの色要素
12r,12g,12bと遮光部13とを覆うと共に、その表面の凹凸を緩和するために
平坦化層14が形成されている。平坦化層14は、有機膜であり、例えばアクリル等の透
明な樹脂材料を用いることができる。遮光部13によって区画された領域が、異なる発光
色の光が出射される領域となっている。
The sealing substrate 2 can be a transparent glass substrate or a resin substrate such as plastic. The three different color elements 12r, 12g, and 12b are partitioned by the light shielding portion 13, and are formed, for example, by applying a photosensitive resin containing a pigment as a color element material and exposing and developing it. The light shielding portion 13 is formed by overlapping any two of the color elements 12r, 12g, and 12b on a shadow mask made of, for example, Cr or black resin. A flattening layer 14 is formed to cover the color elements 12r, 12g, and 12b and the light-shielding portion 13 and to reduce unevenness on the surface. The planarization layer 14 is an organic film, and for example, a transparent resin material such as acrylic can be used. A region partitioned by the light shielding unit 13 is a region from which light of different emission colors is emitted.

素子基板1は、透明なガラス基板あるいは不透明なセラミックやシリコン基板等を用い
ることができる。素子基板1には、各発光素子Lを駆動するための複数のTFT(Thin
Film Transistor)素子(図示省略)と、各発光素子Lに電流を流すための複数の配線1
5と、各発光素子Lとが、異なる発光色の光が出射される領域に対応して形成されている
。複数の配線15の一方は、陽極5c,5d,5fにそれぞれ接続され、他方は、複数の
TFT素子のゲート電極またはソース電極にそれぞれ接続されている。
As the element substrate 1, a transparent glass substrate, an opaque ceramic, a silicon substrate, or the like can be used. The element substrate 1 includes a plurality of TFTs (Thin for driving each light emitting element L).
Film transistor) element (not shown) and a plurality of wirings 1 for supplying current to each light emitting element L
5 and each light emitting element L are formed corresponding to regions where light of different emission colors is emitted. One of the plurality of wirings 15 is connected to the anodes 5c, 5d, and 5f, respectively, and the other is connected to the gate electrodes or source electrodes of the plurality of TFT elements.

反射層3は、Alを主成分とする材料から構成されている。尚、反射層3を構成する材
料の主成分は、Al、Ag、Au、Cr、Ta、Mo、Mg、ITO、IZOの中から選
択することができる。
The reflective layer 3 is made of a material mainly composed of Al. The main component of the material constituting the reflective layer 3 can be selected from Al, Ag, Au, Cr, Ta, Mo, Mg, ITO, and IZO.

また、配線15を構成する材料の主成分は、反射層3を構成する材料と同じ材料を採用
することが望ましい。そうすれば、同一の工程にて成膜し、所望の形状にパターニングす
ることが可能である。
Further, it is desirable that the main component of the material constituting the wiring 15 is the same material as that constituting the reflective layer 3. Then, it is possible to form a film in the same process and pattern it into a desired shape.

色要素12rに対応する発光素子Lの陽極5fは、透明なITO(Indium Tin Oxide
)からなり、反射層3を覆う厚みおよそ50nmの透明なシリコン窒化膜からなる保護層
4の上に、膜厚が30nmのITO膜5aと、同じく35nmのITO膜5bと、同じく
30nmのITO膜5cとが積層されたものである。これにより陽極5fの総膜厚が95
nmとなっている。
The anode 5f of the light emitting element L corresponding to the color element 12r is made of transparent ITO (Indium Tin Oxide).
On the protective layer 4 made of a transparent silicon nitride film having a thickness of about 50 nm and covering the reflective layer 3, an ITO film 5 a having a thickness of 30 nm, an ITO film 5 b having a thickness of 35 nm, and an ITO film having a thickness of 30 nm 5c is laminated. As a result, the total film thickness of the anode 5f is 95.
nm.

同様にして色要素12gに対応する発光素子Lの陽極5dは、ITO膜5bとITO膜
5cとが積層され、総膜厚が65nmとなっている。色要素12bに対応する発光素子L
の陽極としてのITO膜5cの膜厚は、30nmである。以降、これを陽極5cと呼ぶ。
すなわち、異なる発光色の光が出射される領域に対応して各陽極5c,5d,5fが異な
る膜厚で形成されている。これにより、各発光素子Lの光共振器における光学的距離が異
なって、封止基板2の各色要素12r,12g,12bに対応した異なったピーク波長の
光が出射される。
Similarly, the anode 5d of the light emitting element L corresponding to the color element 12g is formed by laminating the ITO film 5b and the ITO film 5c, and the total film thickness is 65 nm. Light emitting element L corresponding to color element 12b
The thickness of the ITO film 5c as the anode is 30 nm. Hereinafter, this is referred to as an anode 5c.
That is, the anodes 5c, 5d, and 5f are formed with different film thicknesses corresponding to regions where light of different emission colors are emitted. Thereby, the optical distance in the optical resonator of each light emitting element L differs, and the light of the different peak wavelength corresponding to each color element 12r, 12g, 12b of the sealing substrate 2 is radiate | emitted.

機能層Kは、各陽極5c,5d,5fの上に、正孔輸送層6、有機発光層7、電子輸送
層8を順次積層したものである。形成方法としては、各層を構成する材料をスピンコート
法などにより塗布する方法や真空中で蒸着する方法が挙げられる。
The functional layer K is formed by sequentially laminating a hole transport layer 6, an organic light emitting layer 7, and an electron transport layer 8 on each of the anodes 5c, 5d, and 5f. Examples of the forming method include a method of applying a material constituting each layer by a spin coating method or a method of vapor deposition in a vacuum.

正孔輸送層6、有機発光層7、電子輸送層8を形成する材料としては公知の材料を用い
ればよい。尚、この場合、有機発光層7は、単色(白色)発光が可能となるように異なる
発光色を発光する複数種の有機発光材料が積層されている。
As materials for forming the hole transport layer 6, the organic light emitting layer 7, and the electron transport layer 8, known materials may be used. In this case, the organic light emitting layer 7 is formed by laminating a plurality of types of organic light emitting materials that emit different emission colors so that single color (white) light emission is possible.

陰極9は、Mg・Agの薄膜を蒸着法により、機能層Kから発光した光の一部を透過し
、一部を反射するように厚みおよそ10nmとして、機能層Kを覆うように形成されてい
る。すなわち、陰極9は、半透過反射性を有したハーフミラー状態となっている。
The cathode 9 is formed to cover the functional layer K with a thickness of about 10 nm so that a part of the light emitted from the functional layer K is transmitted and a part of the light is reflected by an evaporation method using a thin film of Mg / Ag. Yes. That is, the cathode 9 is in a half mirror state having transflective properties.

各ガスバリア層16,17は、酸化窒化シリコンからなり、酸化シリコンと窒化シリコ
ンをそれぞれターゲットとして真空中で同時スパッタリングすることにより、素子基板1
と封止基板2のそれぞれの表面に形成されている。酸化窒化シリコンは、酸化シリコンの
高い光透過性と、窒化シリコンの低い気体透過性とを兼ね備えている。したがって、発光
素子Lからの発光を減衰させることなく、水分や溶剤成分などの気体が透過することを抑
制可能である。
Each of the gas barrier layers 16 and 17 is made of silicon oxynitride, and is simultaneously sputtered in vacuum using silicon oxide and silicon nitride as targets, thereby providing the element substrate 1.
And formed on the respective surfaces of the sealing substrate 2. Silicon oxynitride combines the high light transmittance of silicon oxide with the low gas permeability of silicon nitride. Therefore, it is possible to suppress the transmission of gas such as moisture and solvent components without attenuating the light emission from the light emitting element L.

酸化窒化シリコンの薄膜においては、酸素の含有量が増加すると光透過率が上昇する。
一方で気体透過率も上昇してしまう。この場合、ガスバリア層16,17における酸素と
窒素の総量に対する酸素の含有率は、40%以上80%未満となっている。さらには、お
よそ50%程度が好ましい。これによれば、高い光透過率を維持して低い気体透過率を得
ることができる。
In the thin film of silicon oxynitride, the light transmittance increases as the oxygen content increases.
On the other hand, gas permeability will also rise. In this case, the oxygen content in the gas barrier layers 16 and 17 with respect to the total amount of oxygen and nitrogen is 40% or more and less than 80%. Furthermore, about 50% is preferable. According to this, a low gas permeability can be obtained while maintaining a high light transmittance.

また、ガスバリア層16,17としての機能は、当然ながらその膜厚にも依存する。た
だし、膜厚が厚すぎると成膜時または成膜後にクラックが生じやすく本来の機能が果たせ
ないので、膜厚は100nm以上〜800nm未満が好ましい。この場合、封止基板2側
のガスバリア層16の膜厚はおよそ400nmであり、素子基板1側のガスバリア層17
の膜厚はおよそ100nmである。すなわち、封止基板2側のガスバリア層16の膜厚を
厚くすることにより、封止基板2に形成された各色要素12r,12g,12bおよび平
坦化層14から水分や溶剤成分の気体が拡散することをより抑制する構造となっている。
Further, the function as the gas barrier layers 16 and 17 naturally depends on the film thickness. However, if the film thickness is too thick, cracks are likely to occur during film formation or after film formation, and the original function cannot be performed. Therefore, the film thickness is preferably 100 nm to less than 800 nm. In this case, the film thickness of the gas barrier layer 16 on the sealing substrate 2 side is approximately 400 nm, and the gas barrier layer 17 on the element substrate 1 side.
The film thickness is about 100 nm. That is, by increasing the film thickness of the gas barrier layer 16 on the sealing substrate 2 side, moisture and solvent component gases diffuse from the color elements 12r, 12g, 12b and the planarization layer 14 formed on the sealing substrate 2. It has a structure that suppresses this more.

素子基板1と封止基板2とを接合する接着層11は、例えば熱硬化型の透明なエポキシ
樹脂接着剤を用いることができる。積層形成された発光素子Lが硬化時の収縮によって浮
き等が発生しないように常温硬化するタイプの接着剤を用いることが好ましい。
For the adhesive layer 11 that joins the element substrate 1 and the sealing substrate 2, for example, a thermosetting transparent epoxy resin adhesive can be used. It is preferable to use an adhesive that cures at room temperature so that the light-emitting element L formed by lamination does not float due to shrinkage during curing.

このような有機EL発光装置10は、各発光素子Lにおいて、反射層3と陰極9との間
で光共振器が構成されている。したがって、各色要素12r,12g,12bに対応した
ピーク波長を有する光が発光し、各色要素12r,12g,12bを通過することにより
、高い色純度の発光が封止基板2側から出射される。また、封止基板2側と素子基板1側
とに各ガスバリア層16,17が設けられ接着層11を介して接合されているので、各色
要素12r,12g,12bおよび平坦化層14から水分や溶剤成分の気体が拡散して発
光素子Lに吸着し、時間の経過と共に発光の輝度が低下する所謂発光寿命の低下を抑制す
ることが可能である。
In such an organic EL light emitting device 10, an optical resonator is formed between the reflective layer 3 and the cathode 9 in each light emitting element L. Accordingly, light having a peak wavelength corresponding to each of the color elements 12r, 12g, and 12b emits light, and light having high color purity is emitted from the sealing substrate 2 side through the color elements 12r, 12g, and 12b. Further, since the gas barrier layers 16 and 17 are provided on the sealing substrate 2 side and the element substrate 1 side and bonded through the adhesive layer 11, moisture and water are removed from the color elements 12 r, 12 g and 12 b and the planarizing layer 14. It is possible to suppress a so-called reduction in light emission lifetime in which the solvent component gas diffuses and is adsorbed on the light emitting element L, and the luminance of light emission decreases with time.

尚、本実施形態では、封止基板2側と素子基板1側の両方にガスバリア層16,17を
設けたが、封止基板2側と素子基板1側のうちいずれか一方、好ましくは封止基板2側の
みにガスバリア層16を設ける構造としてもよい。また、封止基板2に形成された各色要
素12r,12g,12bは、3色に限定されず、多色の構成としてもよい。さらには、
平坦化層14は必ずしも必要としない。各色要素12r,12g,12bの表面の凹凸が
数十nm程度ならば、ガスバリア層16が平坦化層14を兼ねるように成膜することも可
能である。
In this embodiment, the gas barrier layers 16 and 17 are provided on both the sealing substrate 2 side and the element substrate 1 side. However, either one of the sealing substrate 2 side or the element substrate 1 side, preferably sealing is performed. The gas barrier layer 16 may be provided only on the substrate 2 side. Further, the color elements 12r, 12g, and 12b formed on the sealing substrate 2 are not limited to three colors, and may have a multicolor configuration. Moreover,
The planarization layer 14 is not always necessary. If the unevenness of the surface of each color element 12r, 12g, 12b is about several tens of nanometers, the gas barrier layer 16 can be formed so as to also serve as the planarizing layer.

<有機EL発光装置の製造方法>
次に本実施形態の有機EL発光装置の製造方法について図2および図3を基に説明する
。図2は有機EL発光装置の製造方法を示すフローチャート、図3(a)〜(d)は有機
EL発光装置の製造方法を示す概略断面図である。尚、図示しないが、素子基板1には、
発光素子Lを駆動するための駆動素子としてのTFT素子が形成されている。
<Method for Manufacturing Organic EL Light Emitting Device>
Next, a method for manufacturing the organic EL light emitting device of this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an organic EL light emitting device, and FIGS. 3A to 3D are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the organic EL light emitting device. Although not shown, the element substrate 1 includes
A TFT element as a drive element for driving the light emitting element L is formed.

本実施形態の有機EL発光装置10の製造方法は、封止基板2に形成された各色要素1
2r,12g,12bを覆うように平坦化層14を形成する工程(ステップS1)と、各
色要素12r,12g,12bが形成された封止基板2の表面を覆うように第1ガスバリ
ア層としてのガスバリア層16を形成する工程(ステップS2)とを備えている。さらに
、複数の発光素子Lが形成された素子基板1の表面を覆うように第2ガスバリア層として
のガスバリア層17を形成する工程(ステップS3)と、各ガスバリア層16,17が形
成された封止基板2と素子基板1とを接着層11を介して接合する基板接合工程(ステッ
プS4)とを備えている。
In the method for manufacturing the organic EL light emitting device 10 according to the present embodiment, each color element 1 formed on the sealing substrate 2 is used.
As a first gas barrier layer, the step of forming the planarizing layer 14 so as to cover 2r, 12g, 12b (step S1) and the surface of the sealing substrate 2 on which the color elements 12r, 12g, 12b are formed are covered. And a step of forming the gas barrier layer 16 (step S2). Further, a step (step S3) of forming a gas barrier layer 17 as a second gas barrier layer so as to cover the surface of the element substrate 1 on which the plurality of light emitting elements L are formed, and the sealing in which the gas barrier layers 16 and 17 are formed. A substrate bonding step (step S4) for bonding the stop substrate 2 and the element substrate 1 via the adhesive layer 11;

図2のステップS1は、平坦化層14を形成する工程である。ステップS1では、図3
(a)に示すように、封止基板2に形成された各色要素12r,12g,12bを覆うよ
うにアクリル系樹脂材料を用いて平坦化層14を形成する。形成方法としては、スピンコ
ート法、ロールコート法などによりアクリル系樹脂をコーティングして乾燥させる方法が
挙げられる。また、感光性アクリル樹脂をコーティングしてから紫外光を照射して硬化さ
せる方法も採用することができる。そして、ステップS2へ進む。
Step S1 in FIG. 2 is a step of forming the planarization layer 14. In step S1, FIG.
As shown to (a), the planarization layer 14 is formed using an acrylic resin material so that each color element 12r, 12g, 12b formed in the sealing substrate 2 may be covered. Examples of the forming method include a method in which an acrylic resin is coated and dried by a spin coating method, a roll coating method, or the like. Further, a method in which a photosensitive acrylic resin is coated and then cured by irradiation with ultraviolet light can be employed. Then, the process proceeds to step S2.

図2のステップS2は、ガスバリア層16を形成する工程である。ステップS2では、
図3(b)に示すように、封止基板2に形成された平坦化層14の表面を覆うようにガス
バリア層16を形成する。より具体的には、平坦化層14が形成された封止基板2を真空
チャンバー内に配置し、酸化シリコンと窒化シリコンの2つのターゲットを用いて同時ス
パッタリングすることで、平坦化層14の表面に酸化窒化シリコンの薄膜からなるガスバ
リア層16を成膜する。膜厚が、およそ400nmとなるように成膜する。また、形成さ
れた酸化窒化シリコンの薄膜における酸素と窒素の総量に対して酸素の割合が40%以上
80%未満、好ましくは50%程度となるように各ターゲットのスパッタリング速度や導
入する不活性ガス等のガス分圧を調整する。そして、ステップS3へ進む。
Step S2 in FIG. 2 is a process for forming the gas barrier layer 16. In step S2,
As shown in FIG. 3B, the gas barrier layer 16 is formed so as to cover the surface of the planarization layer 14 formed on the sealing substrate 2. More specifically, the sealing substrate 2 on which the planarization layer 14 is formed is placed in a vacuum chamber, and simultaneously sputtered using two targets of silicon oxide and silicon nitride, whereby the surface of the planarization layer 14 is obtained. Then, a gas barrier layer 16 made of a silicon oxynitride thin film is formed. The film is formed so that the film thickness is about 400 nm. Further, the sputtering rate of each target and the inert gas introduced so that the ratio of oxygen to the total amount of oxygen and nitrogen in the formed silicon oxynitride thin film is 40% or more and less than 80%, preferably about 50%. Adjust the gas partial pressure. Then, the process proceeds to step S3.

図2のステップS3は、ガスバリア層17を形成する工程である。ステップS3では、
図3(c)に示すように、素子基板1に形成された複数の発光素子Lを覆うようにガスバ
リア層17を形成する。形成方法は、ステップS2と同様である。この場合の膜厚は、1
00nmである。そして、ステップS4へ進む。
Step S3 in FIG. 2 is a process for forming the gas barrier layer 17. In step S3,
As shown in FIG. 3C, the gas barrier layer 17 is formed so as to cover the plurality of light emitting elements L formed on the element substrate 1. The formation method is the same as in step S2. The film thickness in this case is 1
00 nm. Then, the process proceeds to step S4.

図2のステップS4は、両基板1,2を接合する基板接合工程である。ステップS4で
は、図3(d)に示すように、まず、素子基板1の表面に透明なエポキシ樹脂を主成分と
する接着剤を塗布して接着層11を形成し、その上にガスバリア層16が形成された封止
基板2を隙間が発生しないように押圧する。そして、各色要素12r,12g,12bと
各発光素子Lとが対応するように位置決めして硬化させる。好ましくは、対向配置される
各ガスバリア層16,17と接着層11との間に気泡が含まれないように、減圧下で素子
基板1と封止基板2とを接合させる。接着層11は、熱硬化型のエポキシ樹脂でもよいが
、硬化時の熱収縮が少ない常温硬化型のほうがより好ましい。
Step S4 in FIG. 2 is a substrate bonding step for bonding the substrates 1 and 2 together. In step S4, as shown in FIG. 3 (d), first, an adhesive layer 11 is formed on the surface of the element substrate 1 by applying an adhesive mainly composed of a transparent epoxy resin, and the gas barrier layer 16 is formed thereon. The sealing substrate 2 on which is formed is pressed so as not to generate a gap. Then, each color element 12r, 12g, 12b and each light emitting element L are positioned and cured so as to correspond to each other. Preferably, the element substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded to each other under reduced pressure so that bubbles are not included between the gas barrier layers 16 and 17 and the adhesive layer 11 that are disposed to face each other. The adhesive layer 11 may be a thermosetting epoxy resin, but is more preferably a room temperature curable type that has less thermal shrinkage during curing.

このような有機EL発光装置10の製造方法によれば、素子基板1と封止基板2の両方
にガスバリア層16,17が設けられた高い信頼性を有すると共に、色純度が高い有機E
L発光装置10を製造することが可能である。尚、ガスバリア層16を形成する工程、ガ
スバリア層17を形成する工程のいずれか一方を行ってもよい。好ましくは封止基板2側
にガスバリア層16を形成する工程を採用するほうがよい。これによれば、より単純な構
造で高い信頼性を得ることが可能である。
According to such a method for manufacturing the organic EL light emitting device 10, the organic barrier layer 16 and 17 are provided on both the element substrate 1 and the sealing substrate 2, and the organic E has high reliability and high color purity.
The L light emitting device 10 can be manufactured. Note that either the step of forming the gas barrier layer 16 or the step of forming the gas barrier layer 17 may be performed. Preferably, it is better to adopt a process of forming the gas barrier layer 16 on the sealing substrate 2 side. According to this, it is possible to obtain high reliability with a simpler structure.

(電子機器)
次に本発明の有機EL発光装置を備えた電子機器について図4を基に説明する。図4は
、電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図である。
(Electronics)
Next, an electronic apparatus including the organic EL light emitting device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic perspective view showing a mobile phone as an electronic apparatus.

図4に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯電話機100は、数字や文字、
記号等を入力可能な入力ボタン102を有する本体101と、本体101に対して折りた
たみ可能な状態に取り付けられた表示部103とを備えている。表示部103には、高い
色純度と長い発光寿命を有する自発光型のカラー表示が可能な有機EL発光装置10が搭
載されている。
As shown in FIG. 4, the mobile phone 100 as the electronic apparatus of the present embodiment includes numbers, letters,
A main body 101 having an input button 102 capable of inputting symbols and the like, and a display unit 103 attached to the main body 101 in a foldable state are provided. The display unit 103 is equipped with an organic EL light emitting device 10 capable of self-luminous color display having high color purity and a long light emission lifetime.

上記実施形態の効果は、以下の通りである。
(1)上記実施形態の有機EL発光装置10は、各発光素子Lにおいて反射層3と陰極
9との間に光共振器が構成され、接着層11に面する封止基板2側と素子基板1側の両方
にガスバリア層16,17が設けられている。ガスバリア層16,17は、光透過性が高
く気体透過性が低い酸化窒化シリコンにより構成されているので、封止基板2に設けられ
た有機膜からなる各色要素12r,12g,12bおよび平坦化層14から水分や有機溶
剤の気体分子が拡散することを抑制することができる。したがって、これらの水分や有機
溶剤の分子が発光素子Lに吸着して発光寿命が短くなることを抑制することができる。す
なわち、高い色純度とより長い発光寿命を有する有機EL発光装置10を提供することが
できる。
The effect of the said embodiment is as follows.
(1) In the organic EL light emitting device 10 of the above embodiment, an optical resonator is formed between the reflective layer 3 and the cathode 9 in each light emitting element L, and the sealing substrate 2 side facing the adhesive layer 11 and the element substrate Gas barrier layers 16 and 17 are provided on both sides. Since the gas barrier layers 16 and 17 are made of silicon oxynitride having high light permeability and low gas permeability, the color elements 12r, 12g, and 12b made of an organic film provided on the sealing substrate 2 and a planarizing layer are formed. It is possible to suppress the diffusion of moisture and organic solvent gas molecules from 14. Therefore, it is possible to suppress the moisture and organic solvent molecules from adsorbing to the light emitting element L and shortening the light emission lifetime. That is, the organic EL light emitting device 10 having high color purity and a longer light emission lifetime can be provided.

(2)上記実施形態の有機EL発光装置10およびその製造方法において、接着層11
に面する封止基板2側と素子基板1側の両方に形成されたガスバリア層16,17は、酸
化窒化シリコンから構成されている。そして、含有する酸素と窒素の総量に対する酸素の
含有率が40%以上80%未満、好ましくは50%程度となっているので、高い光透過性
を有する一方で低い気体透過性を得ることができる。すなわち、発光素子Lからの発光を
減衰させないガスバリア機能を有する。
(2) In the organic EL light emitting device 10 and the manufacturing method thereof according to the above embodiment, the adhesive layer 11
The gas barrier layers 16 and 17 formed on both the sealing substrate 2 side and the element substrate 1 side facing the substrate are made of silicon oxynitride. And since the content rate of oxygen with respect to the total amount of oxygen and nitrogen to be contained is 40% or more and less than 80%, preferably about 50%, low gas permeability can be obtained while having high light transmittance. . That is, it has a gas barrier function that does not attenuate the light emission from the light emitting element L.

(3)上記実施形態の有機EL発光装置10の製造方法は、各色要素12r,12g,
12bとこれを覆う平坦化層14が形成された封止基板2の表面に酸化窒化シリコンのガ
スバリア層16を形成する工程と、複数の発光素子Lが形成された素子基板1の表面に酸
化窒化シリコンのガスバリア層17を形成する工程とを備えている。したがって、ガスバ
リア層16,17により、封止基板2に設けられた有機膜からなる各色要素12r,12
g,12bおよび平坦化層14から水分や有機溶剤の分子が発光素子Lに吸着して発光寿
命が短くなることを抑制することができる。すなわち、より長い発光寿命を有する有機E
L発光装置10を製造することができる。
(3) The manufacturing method of the organic EL light emitting device 10 of the above embodiment includes the color elements 12r, 12g,
A step of forming a gas barrier layer 16 of silicon oxynitride on the surface of the sealing substrate 2 on which the planarizing layer 14 covering the surface 12b and 12b are formed; and an oxynitriding on the surface of the element substrate 1 on which the plurality of light emitting elements L are formed Forming a silicon gas barrier layer 17. Therefore, each color element 12r, 12 made of an organic film provided on the sealing substrate 2 by the gas barrier layers 16, 17 is provided.
It is possible to prevent moisture and organic solvent molecules from adsorbing to the light emitting element L from g, 12b and the planarizing layer 14 and shortening the light emission lifetime. That is, organic E having a longer emission lifetime
The L light emitting device 10 can be manufactured.

(4)上記実施形態の携帯電話機100は、高い色純度と長い発光寿命を有する自発光
型のカラー表示が可能な有機EL発光装置10を備えているので、高い信頼性品質を有す
る携帯電話機100を提供することができる。
(4) Since the mobile phone 100 of the above embodiment includes the organic EL light emitting device 10 capable of self-luminous color display having high color purity and a long light emission lifetime, the mobile phone 100 having high reliability quality. Can be provided.

上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
(変形例1)上記実施形態の有機EL発光装置10において、各発光素子Lは、反射層
3と陰極9との間に光共振器が構成される構造に限定されない。例えば、光共振器を構成
せず、各機能層Kの有機発光層7がそれぞれ白色(単色)発光するものでもよい。
Modifications other than the above embodiment are as follows.
(Modification 1) In the organic EL light emitting device 10 of the above embodiment, each light emitting element L is not limited to a structure in which an optical resonator is formed between the reflective layer 3 and the cathode 9. For example, the organic light emitting layer 7 of each functional layer K may emit white (monochrome) light without forming an optical resonator.

(変形例2)上記実施形態の有機EL発光装置10において、ガスバリア層16,17
は、それぞれ単層に限定されない。例えば、ガスバリア層16と平坦化層14の間に透明
なITOなどの薄膜等が設けられた複層構造としてもよい。これによれば、各色要素12
r,12g,12bおよび平坦化層14からの水分や有機溶剤の分子の拡散をより低減す
ることができる。
(Modification 2) In the organic EL light emitting device 10 of the above embodiment, the gas barrier layers 16 and 17 are used.
Each is not limited to a single layer. For example, a multilayer structure in which a transparent thin film such as ITO is provided between the gas barrier layer 16 and the planarizing layer 14 may be used. According to this, each color element 12
The diffusion of moisture and organic solvent molecules from r, 12g, 12b and the planarizing layer 14 can be further reduced.

(変形例3)上記実施形態の有機EL発光装置10およびその製造方法において、接着
層11の配置は、これに限定されない。例えば、接着層11を複数の発光素子Lを取り囲
むように額縁状に配置し、ガスバリア層16,17が所定の間隔(空間)をおいて対向す
るように素子基板1と封止基板2とを減圧下で接合してもよい。これによれば、減圧下で
接合されるので、当該空間に水分などが存在しない状態で接合され、ガスバリア層16,
17の機能は損なわれない。
(Modification 3) In the organic EL light emitting device 10 and the manufacturing method thereof according to the above embodiment, the arrangement of the adhesive layer 11 is not limited to this. For example, the adhesive layer 11 is arranged in a frame shape so as to surround the plurality of light emitting elements L, and the element substrate 1 and the sealing substrate 2 are arranged so that the gas barrier layers 16 and 17 face each other with a predetermined interval (space). You may join under reduced pressure. According to this, since the bonding is performed under reduced pressure, the bonding is performed in a state where moisture or the like does not exist in the space, and the gas barrier layers 16,
The function of 17 is not impaired.

(変形例4)上記実施形態の有機EL発光装置10が搭載される電子機器は、携帯電話
機100に限定されない。例えば、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれ
る携帯型情報機器や携帯端末機器、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車
載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型の
ビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプ
ロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機等々の画像表示手段として
好適に用いることができる。
(Modification 4) The electronic device on which the organic EL light emitting device 10 of the above embodiment is mounted is not limited to the mobile phone 100. For example, portable information devices called PDA (Personal Digital Assistants), portable terminal devices, personal computers, digital still cameras, in-vehicle monitors, digital video cameras, liquid crystal televisions, viewfinder types, monitor direct-view type video tape recorders, cars It can be suitably used as image display means for navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, POS terminals, and the like.

は、有機EL発光装置を示す概略断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an organic EL light emitting device. は、有機EL発光装置の製造方法を示すフローチャート。These are flowcharts which show the manufacturing method of an organic electroluminescent light emitting device. (a)〜(d)は、有機EL発光装置の製造方法を示す概略断面図。(A)-(d) is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of an organic electroluminescent light emitting device. は、電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図。FIG. 2 is a schematic perspective view showing a mobile phone as an electronic apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1…素子基板、2…封止基板、5c,5d,5f…陽極、7…有機発光層、9…陰極、
10…有機EL発光装置、11…接着層、12r,12g,12b…色要素、14…平坦
化層、16…第1ガスバリア層としてのガスバリア層、17…第2ガスバリア層としての
ガスバリア層、100…電子機器としての携帯電話機、K…機能層、L…発光素子。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Element substrate, 2 ... Sealing substrate, 5c, 5d, 5f ... Anode, 7 ... Organic light emitting layer, 9 ... Cathode,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Organic EL light-emitting device, 11 ... Adhesion layer, 12r, 12g, 12b ... Color element, 14 ... Planarization layer, 16 ... Gas barrier layer as 1st gas barrier layer, 17 ... Gas barrier layer as 2nd gas barrier layer, 100 A mobile phone as an electronic device, K ... a functional layer, L ... a light emitting element.

Claims (11)

有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層を介して接合された有機EL発
光装置であって、
前記接着層に面する前記素子基板側または前記封止基板側のいずれかにガスバリア層を
設けたことを特徴とする有機EL発光装置。
Organic EL light emission in which an element substrate having a plurality of light emitting elements each having a functional layer including an organic light emitting layer and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light emitting elements are formed are bonded via an adhesive layer A device,
An organic EL light emitting device comprising a gas barrier layer provided on either the element substrate side or the sealing substrate side facing the adhesive layer.
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層を介して接合された有機EL発
光装置であって、
前記接着層に面する前記素子基板側と前記封止基板側の両方にガスバリア層を設けたこ
とを特徴とする有機EL発光装置。
Organic EL light emission in which an element substrate having a plurality of light emitting elements each having a functional layer including an organic light emitting layer and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light emitting elements are formed are bonded via an adhesive layer A device,
An organic EL light-emitting device comprising a gas barrier layer on both the element substrate side and the sealing substrate side facing the adhesive layer.
前記封止基板には、前記色要素を覆う有機膜からなる平坦化層を有していることを特徴
とする請求項1または2に記載の有機EL発光装置。
The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein the sealing substrate has a planarizing layer made of an organic film that covers the color elements.
前記ガスバリア層が、酸化窒化シリコンからなることを特徴とする請求項1ないし3の
いずれか一項に記載の有機EL発光装置。
The organic EL light emitting device according to any one of claims 1 to 3, wherein the gas barrier layer is made of silicon oxynitride.
前記ガスバリア層において、含有する酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、40%
以上80%未満であることを特徴とする請求項4に記載の有機EL発光装置。
In the gas barrier layer, the ratio of oxygen to the total amount of oxygen and nitrogen contained is 40%.
The organic EL light emitting device according to claim 4, wherein the organic EL light emitting device is less than 80%.
請求項1ないし5のいずれか一項に記載の有機EL発光装置を備えたことを特徴とする
電子機器。
An electronic apparatus comprising the organic EL light emitting device according to any one of claims 1 to 5.
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とを備えた有機EL発光装置の製造方法で
あって、
複数の前記発光素子が形成された前記素子基板の表面または前記色要素が形成された前
記封止基板の表面を覆うようにガスバリア層を形成する工程と、
前記素子基板と前記封止基板とを接着層を介して接合する工程とを備えたことを特徴と
する有機EL発光装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL light-emitting device, comprising: an element substrate on which a plurality of light-emitting elements each having a functional layer including an organic light-emitting layer are formed; and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light-emitting elements are formed. And
Forming a gas barrier layer so as to cover the surface of the element substrate on which a plurality of the light emitting elements are formed or the surface of the sealing substrate on which the color elements are formed;
And a step of bonding the element substrate and the sealing substrate through an adhesive layer.
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とを備えた有機EL発光装置の製造方法で
あって、
前記色要素が形成された前記封止基板の表面を覆うように第1ガスバリア層を形成する
工程と、
複数の前記発光素子が形成された前記素子基板の表面を覆うように第2ガスバリア層を
形成する工程と、
前記素子基板と前記封止基板とを接着層を介して接合する工程とを備えたことを特徴と
する有機EL発光装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL light-emitting device, comprising: an element substrate on which a plurality of light-emitting elements each having a functional layer including an organic light-emitting layer are formed; and a sealing substrate on which color elements corresponding to the plurality of light-emitting elements are formed. And
Forming a first gas barrier layer so as to cover the surface of the sealing substrate on which the color elements are formed;
Forming a second gas barrier layer so as to cover a surface of the element substrate on which a plurality of the light emitting elements are formed;
And a step of bonding the element substrate and the sealing substrate through an adhesive layer.
前記ガスバリア層または第1ガスバリア層を形成する工程の前に、前記色要素を覆うよ
うに有機膜からなる平坦化層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項7または8
に記載の有機EL発光装置の製造方法。
9. A step of forming a planarizing layer made of an organic film so as to cover the color elements before the step of forming the gas barrier layer or the first gas barrier layer is provided.
The manufacturing method of the organic electroluminescent light emitting device of description.
前記ガスバリア層、前記第1ガスバリア層および前記第2ガスバリア層が酸化窒化シリ
コンからなるように形成することを特徴とする請求項7または8に記載の有機EL発光装
置の製造方法。
9. The method of manufacturing an organic EL light emitting device according to claim 7, wherein the gas barrier layer, the first gas barrier layer, and the second gas barrier layer are formed of silicon oxynitride.
前記ガスバリア層、前記第1ガスバリア層および前記第2ガスバリア層において、含有
する酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、40%以上80%未満となるように形成す
ることを特徴とする請求項10に記載の有機EL発光装置の製造方法。
11. The gas barrier layer, the first gas barrier layer, and the second gas barrier layer are formed so that a ratio of oxygen to a total amount of oxygen and nitrogen contained is 40% or more and less than 80%. The manufacturing method of the organic electroluminescent light emitting device of description.
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