JP5225476B2 - バイオメディカル応用のための常圧低温マイクロプラズマ噴射装置 - Google Patents
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Description
ニッケル正極の製作工程は、次の通りであった。シリコン基板上にメッキの種層として使われるチタン/金をそれぞれ500Å/2500Å厚さに蒸着した。その上に陰性厚膜感光剤であるSU8−2100を100μmの厚さにパターニングしてメッキモールドとして使った。
プラズマ噴射装置の構造は、プラズマが噴射される正極、正極と負極とを絶縁する誘電層、そして、ガスが流入される負極で構成された。正極は、ニッケルで製作され、厚さは60μmであった。プラズマが噴射される孔の直径は100μmであり、個数は10×10個であった。誘電層は、正極と負極とを絶縁すると同時に、ガスが通過することができる多孔性アルミナで製作された。正極と負極との間の誘電層の厚さは、1mmであった。負極としては、外径が1.6mmであり、内径が1.2mmであるステンレス鋼チューブを使った。放電実験間の安全のために、負極を石英チューブ内に入れて周辺環境から絶縁した。
放電実験は、窒素ガスを使って常圧でDCで実験した。2MΩ安全抵抗を使い、電圧は、0Vから9kVまで印加した。ガスの流量が放電開始電圧に及ぼす影響を調べるために、流量による放電特性を観察し、バイオメディカル分野に適用できるか否かを調べるために、プラズマの温度を測定した。ガスの流量による素子の放電開始電圧と電流/電圧特性とを測定するために、窒素ガスの流量を〜4L/minの場合に対して実験した。図5は、図1のプラズマ噴射装置でガス流量による放電開始電圧を示すグラフである。図5を参照すると、流量が増加すれば、素子の放電開始電圧が高くなるということが分かる。ガスが電場内に留まる時間が短いほど放電開始に高い電圧が必要であるためである。
図6は、図1のプラズマ噴射装置でガス流量による放電電圧/電流特性を示すグラフである。放電が始まりながら電流が高くなり、電圧が低くなる放電特性を示す。噴射されたプラズマの温度を測定するために、10分間アルミニウム薄膜にプラズマを噴射しながら、薄膜の温度を測定した。測定結果、噴射されたプラズマの温度は、最高41℃であることを確認した。バイオメディカル分野で必要なプラズマの処理時間は、10秒内外であるので、プラズマによる細胞の熱的損傷は起こらないと考えられる。
2 多孔性絶縁材
3 絶縁ケース
4 保護管
5 ガス注入管
Claims (20)
- プラズマ噴射装置の電極を製造する方法において、
基板上に種層を形成する段階と、
前記種層上にモールド層を形成する段階と、
前記モールド層に複数の電極形成ホールが生成されるように、前記モールド層をパターニングする段階と、
前記パターニングされたモールド層が形成された基板上に電極層を形成する段階と、
前記パターニングされたモールド層と前記電極層とを平坦化する段階と、
前記基板、前記種層、及び前記パターニングされたモールド層を除去する段階と、
を含むことを特徴とするプラズマ噴射装置の電極製造方法。 - 前記種層を形成する段階は、チタン/金を500Å/2500Å厚さに蒸着して、前記種層を形成することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記チタン/金は、スパッタリング方式で形成されることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記モールド層を形成する段階は、陰性感光剤をコーティングして、前記モールド層を形成することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記モールド層の厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項4に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記モールド層をパターニングする段階は、前記複数の電極形成ホールのそれぞれが互いに同じ間隔で離隔して配されるように、前記モールド層をパターニングすることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記電極形成ホールの幅は、100μm以下であることを特徴とする請求項6に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記生成される電極形成ホールの個数は、10×10以上であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記電極層を形成する段階は、ニッケル層をメッキして、前記電極層を形成することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記電極形成ホールに形成されるニッケル層の厚さは、70μm以下であることを特徴とする請求項9に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記平坦化する段階は、CMP方式で前記パターニングされたモールド層と前記電極層とを平坦化することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 前記平坦化された前記電極層の厚さは、60μm以下であることを特徴とする請求項11に記載のプラズマ噴射装置の電極製造方法。
- 請求項1ないし請求項12のうち何れか一項に記載の方法で製造されたプラズマ噴射装置の電極。
- 請求項13の電極であって、正極として使われ、プラズマが噴射される電極と、
外部からガスを注入し、負極として使われるガス注入管と、
前記電極と前記ガス注入管との間で、前記電極と前記ガス注入管とを絶縁させ、前記ガス注入管から注入されたガスを前記電極に通過させるための複数の通過孔を有する多孔性絶縁材と、
前記ガス注入管を外部から絶縁させて保護するために、前記ガス注入管を取り囲む保護管と、
前記電極、前記多孔性絶縁材、及び前記ガス注入管のうち、前記多孔性絶縁材と連結される部分を取り囲み、前記電極と前記ガス注入管との間で、前記プラズマを発生させるために起こる放電が外部に拡散されることを遮断するための絶縁ケースと、
を含むことを特徴とするプラズマ噴射装置。 - 前記ガス注入管は、ステンレススチール材からなることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ噴射装置。
- 前記多孔性絶縁材は、セラミック材からなることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ噴射装置。
- 前記多孔性絶縁材は、アルミナ材であることを特徴とする請求項16に記載のプラズマ噴射装置。
- 前記保護管は、石英材からなることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ噴射装置。
- 前記プラズマは、細胞に噴射されて、前記プラズマが噴射された細胞を死滅させる用途として使われることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ噴射装置。
- 前記死滅される細胞は、癌細胞であることを特徴とする請求項19に記載のプラズマ噴射装置。
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