JP5211043B2 - 有機発光ダイオードの製造方法 - Google Patents
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Description
パターン化されたアノードを基体上に形成するステップと、
導電性ポリマーとフッ素化酸ポリマーとを含むパターン化されていない連続正孔注入層をアノード上に形成するステップとを含み;
第1のサブピクセルと第2のサブピクセルとの間にはクロストークが実質的に観察されない方法を提供する。
第1の液体組成物から第1のエレクトロルミネッセンス材料を前記第1のサブピクセル領域内のプライマー層上に堆積するステップと;
第2の液体組成物から第2のエレクトロルミネッセンス材料を前記第2のサブピクセル領域内のプライマー層上に堆積するステップと;
カソードを堆積するステップとをさらに含み;
前記第1のエレクトロルミネッセンス材料が第1の色の光を発し、第2のエレクトロルミネッセンス材料が第2の色の光を発し、第1の色が第2の色とは異なる、上記方法も提供する。
パターン化されていない連続プライマー層を正孔注入層上に形成するステップと;
第1の液体組成物から第1のエレクトロルミネッセンス材料を前記第1のサブピクセル領域内のプライマー層上に堆積するステップと;
第2の液体組成物から第2のエレクトロルミネッセンス材料を前記第2のサブピクセル領域内のプライマー上に堆積するステップと;
第3の液体組成物から第3のエレクトロルミネッセンス材料を前記第3のサブピクセル領域内のプライマー層上に堆積するステップと;
カソードを堆積するステップとをさらに含み;
第1のエレクトロルミネッセンス材料が第1の色の光を発し、第2のエレクトロルミネッセンス材料が第2の色の光を発し、第3のエレクトロルミネッセンス材料が第3の色の光を発し、第1、第2、および第3の色が互いに異なる、方法も提供する。
以下に説明する実施形態の詳細を扱う前に、一部の用語について定義または説明を行う。
本発明のデバイスは、少なくとも第1および第2のサブピクセル領域を有する。ほとんどのフルカラーOLEDでは、デバイスは、3つの組のサブピクセル領域を有する。第1、第2、および第3のサブピクセル領域を有するフルカラーOLEDの代表例を図1に示す。電子デバイス100は、アノード層110からエレクトロルミネッセンス層140への正孔の注入を促進する1つまたは複数の層120および130を含む。任意選択の電子輸送層150が、エレクトロルミネッセンス層140とカソード層160との間に配置されている。図示されていないが基体が、アノード110またはカソード160に隣接して存在することができる。多くの場合、基体はアノードに隣接して存在する。
正孔注入層120は、導電性ポリマーおよびフッ素化酸ポリマーを含む。
一実施形態においては、導電性材料は、少なくとも1つの導電性ポリマーを含む。用語「ポリマー」は、少なくとも3つの繰り返し単位を有する化合物を意味することを意図しており、ホモポリマーおよびコポリマーを含んでいる。ある実施形態においては、導電性ポリマーは、プロトン化された形態では導電性であり、プロトン化されていない形態では非導電性である。正孔注入層が所望の仕事関数を有する限りはあらゆる導電性ポリマーを使用することができる。
Qは、S、Se、およびTeからなる群から選択され;
R1は、それぞれ同じかまたは異なるように独立して選択され、そして、水素、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルカノイル、アルキチオ(alkythio)、アリールオキシ、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール、アルキルスルフィニル、アルコキシアルキル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルフィニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アクリル酸、リン酸、ホスホン酸、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、アミドスルホネート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択されるか;あるいは両方のR1基が一緒になってアルキレン鎖またはアルケニレン鎖を形成して、3、4、5、6、または7員の芳香環または脂環式環を完成させてもよく、その環は場合により、1つまたは複数の二価の窒素原子、セレン原子、テルル原子、硫黄原子、または酸素原子を含んでもよい。
「アルコール」 −R3−OH
「アミド」 −R3−C(O)N(R6)R6
「アミドスルホネート」 −R3−C(O)N(R6)R4−SO3Z
「ベンジル」 −CH2−C6H5
「カルボキシレート」 −R3−C(O)O−Zまたは−R3−O−C(O)−Z
「エーテル」 −R3−(O−R5)p−O−R5
「エーテルカルボキシレート」 −R3−O−R4−C(O)O−Zまたは−R3−O−R4−O−C(O)−Z
「エーテルスルホネート」 −R3−O−R4−SO3Z
「エステルスルホネート」 −R3−O−C(O)−R4−SO3Z
「スルホンイミド」 −R3−SO2−NH−SO2−R5
「ウレタン」 −R3−O−C(O)−N(R6)2
式中、すべての「R」基はそれぞれ同じかまたは異なるものであり:
R3は単結合またはアルキレン基であり:
R4はアルキレン基であり
R5はアルキル基であり
R6は水素またはアルキル基であり
pは0または1〜20の整数であり
Zは、H、アルカリ金属、アルカリ土類金属、N(R5)4、またはR5である。
上記基はいずれも、さらに非置換の場合も置換されている場合もあり、いずれの基も、過フッ素化基などのように、1つまたは複数の水素がFで置換されていてもよい。一実施形態においては、上記アルキル基およびアルキレン基は1〜20個の炭素原子を有する。
Qは、S、Se、およびTeからなる群から選択され;
R7は、それぞれ同じかまたは異なるものであり、水素、アルキル、ヘテロアルキル、アルケニル、ヘテロアルケニル、アルコール、アミドスルホネート、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択され、但し、少なくとも1つのR7が水素ではなく、
mは2または3である。
R1は、それぞれ同じかまたは異なるように独立して選択され、そして、水素、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルカノイル、アルキチオ(alkythio)、アリールオキシ、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール、アルキルスルフィニル、アルコキシアルキル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルフィニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アクリル酸、リン酸、ホスホン酸、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、アミドスルホネート、エーテルカルボキシレート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択されるか;あるいは両方のR1基が一緒になってアルキレン鎖またはアルケニレン鎖を形成して、3、4、5、6、または7員の芳香環または脂環式環を完成させてもよく、その環は場合により、1つまたは複数の二価の窒素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、または酸素原子を含んでもよく;
R2は、それぞれ同じかまたは異なるように独立して選択され、そして、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アルカノイル、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択される。
aは0または1〜4の整数であり;
bは1〜5の整数であり、但しa+b=5であり;
R1は、それぞれ同じかまたは異なるように独立して選択され、そして、水素、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルカノイル、アルキチオ(alkythio)、アリールオキシ、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール、アルキルスルフィニル、アルコキシアルキル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルフィニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アクリル酸、リン酸、ホスホン酸、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、アミドスルホネート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択されるか;あるいは両方のR1基が一緒になってアルキレン鎖またはアルケニレン鎖を形成して、3、4、5、6、または7員の芳香環または脂環式環を完成させてもよく、その環は場合により、1つまたは複数の二価の窒素原子、硫黄原子、または酸素原子を含んでもよい。
Qは、S、Se、Te、またはNR6であり;
R6は、水素またはアルキルであり;
R8、R9、R10、およびR11は、それぞれ同じかまたは異なるように独立して選択され、そして、水素、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルカノイル、アルキチオ(alkythio)、アリールオキシ、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール、アルキルスルフィニル、アルコキシアルキル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルフィニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アクリル酸、リン酸、ホスホン酸、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、シアノ、ヒドロキシル、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、アミドスルホネート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択され;
R8とR9、R9とR10、およびR10とR11、のうち少なくとも1つがアルケニレン鎖を形成して5または6員の芳香環を完成させ、その環は、場合により1つまたは複数の二価の窒素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、または酸素原子を含むことができる。
Qは、S、Se、Te、またはNHであり;
Tは、それぞれ同じかまたは異なるものであり、S、NR6、O、SiR6 2、Se、Te、およびPR6から選択され;
R6は、水素またはアルキルである。
Qは、S、Se、Te、またはNR6であり;
Tは、S、NR6、O、SiR6 2、Se、Te、およびPR6から選択され;
Eは、アルケニレン、アリーレン、およびヘテロアリーレンから選択され;
R6は、水素またはアルキルであり;
R12は、それぞれ同じかまたは異なるものであり、水素、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルカノイル、アルキチオ(alkythio)、アリールオキシ、アルキルチオアルキル、アルキルアリール、アリールアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリール、アルキルスルフィニル、アルコキシアルキル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルフィニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アクリル酸、リン酸、ホスホン酸、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、シアノ、ヒドロキシル、エポキシ、シラン、シロキサン、アルコール、ベンジル、カルボキシレート、エーテル、エーテルカルボキシレート、アミドスルホネート、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびウレタンから選択されるか;あるいは両方のR12基が一緒になってアルキレン鎖またはアルケニレン鎖を形成して、3、4、5、6、または7員の芳香環または脂環式環を完成させてもよく、その環は場合により1つまたは複数の二価の窒素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、または酸素原子を含んでもよい。
本発明のフッ素化酸ポリマーは、フッ素化され、酸性プロトンを有する酸性基を有するあらゆるポリマーであってよい。この用語は、部分フッ素化材料および完全フッ素化材料を含んでいる。一実施形態においては、本発明のフッ素化酸ポリマーは高フッ素化されている。用語「高フッ素化」は、炭素に結合した利用可能な水素の少なくとも50%が、フッ素で置き換えられていることを意味する。酸性基は、イオン化可能なプロトンを供給する。一実施形態においては、酸性プロトンは3未満のpKaを有する。一実施形態においては、酸性プロトンは0未満のpKaを有する。一実施形態においては、酸性プロトンは−5未満のpKaを有する。酸性基は、ポリマー主鎖に直接結合していてもよいし、ポリマー主鎖上の側鎖に結合していてもよい。酸性基の例としては、カルボン酸基、スルホン酸基、スルホンイミド基、リン酸基、ホスホン酸基、およびそれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されるものではない。酸性基はすべてが同じものである場合もあるし、ポリマーが2種類以上の酸性基を有することもできる。
−SO2−NH−SO2−R
式中、Rはアルキル基である。
bは1〜5の整数であり、
R13はOHまたはNHR14であり、
R14は、アルキル、フルオロアルキル、スルホニルアルキル、またはスルホニルフルオロアルキルである。
Wは、(CF2)b、O(CF2)b、S(CF2)b、(CF2)bO(CF2)bから選択され、
bは独立して1〜5の整数であり
R13はOHまたはNHR14であり、
R14は、アルキル、フルオロアルキル、スルホニルアルキル、またはスルホニルフルオロアルキルである。
Rfは、フッ素化アルキレン、フッ素化ヘテロアルキレン、フッ素化アリーレン、またはフッ素化ヘテロアリーレンから選択され;
nは少なくとも4である。
R15は、フッ素化アルキレン基またはフッ素化ヘテロアルキレン基であり;
R16は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アリール基であり;
aは0または1〜4の整数である。
R16は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アリール基であり;
cは独立して0または1〜3の整数であり;
nは少なくとも4である。
R17〜R20は独立して、H、ハロゲン、1〜10個の炭素原子のアルキルまたはアルコキシ、Y、C(Rf’)(Rf’)OR21、R4Y、あるいはOR4Yであり;
Yは、COE2、SO2E2、またはスルホンイミドであり;
R21は、水素であるかまたは酸に不安定な保護基であり;
Rf’は、それぞれ同じかまたは異なるものであり、1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基であるか、1つに合わせたものが(CF2)eとなるかであり、eは2〜10であり;
R4はアルキレン基であり;
E2は、OH、ハロゲン、またはOR7であり;
R7はアルキル基であり;
但し、R17〜R20の少なくとも1つが、Y、R4Y、またはOR5Yである。
R4、R5、およびR17〜R20は、ハロゲンまたはエーテル酸素によって場合により置換されていてもよい。
−OaSi(OH)b-aR22 3-bR23RfSO3H
式中:
aは1〜bであり;
bは1〜3であり;
R22は、独立してアルキル、アリール、およびアリールアルキルからなる群から選択される非加水分解性基であり;
R23は、1つまたは複数のエーテル酸素原子によって置換されていてもよい二座アルキレン基であり、但し、R23は、SiとRfとの間に直線状に配置された少なくとも2つの炭素原子を有し;
Rfは、1つまたは複数エーテル酸素原子によって置換されていてもよいパーフルオルアルキレン(perfluoralkylene)基である。
−Og−[CF(Rf 2)CF−Oh]i−CF2CF2SO3H (XIV)
式中、Rf 2は、F、または、非置換であるか、1つまたは複数のエーテル酸素原子によって置換されているかのいずれかであり1〜10個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基であり、h=0または1であり、i=0〜3であり、g=0または1である。
−(O−CF2CFRf 3)a−O−CF2CFRf 4SO3E5
式中、Rf 3およびRf 4は独立して、F、Cl、または1〜10個の炭素原子を有する過フッ素化アルキル基から選択され、a=0、1、または2であり、E5は、H、Li、Na、K、またはN(R1)(R2)(R3)(R4)であり、R1、R2、R3、およびR4は同じかまたは異なるものであり、一実施形態においてはこれらはH、CH3、またはC2H5である。別の一実施形態においてはE5はHである。前述したように、E5は多価であってもよい。
−O−CF2CF(CF3)−O−CF2CF2SO3E5
式中、Xは前出の定義の通りである。この種類のFSAポリマーは、米国特許公報(特許文献2)に開示されており、テトラフルオロエチレン(TFE)と、過フッ素化ビニルエーテルのCF2=CF−O−CF2CF(CF3)−O−CF2CF2SO2F(パーフルオロ(3,6−ジオキサ−4−メチル−7−オクテンスルホニルフルオリド)(PDMOF))との共重合の後、スルホニルフルオリド基の加水分解によってスルホネート基に変換し、必要に応じてイオン交換することによってそれらを所望のイオン形態に変換することによって製造することができる。米国特許公報(特許文献8)および米国特許公報(特許文献9)に開示されている種類のポリマーの一例は、側鎖−O−CF2CF2SO3E5を有し、式中のE5は前出の定義の通りである。このポリマーは、テトラフルオロエチレン(TFE)と、過フッ素化ビニルエーテルのCF2=CF−O−CF2CF2SO2F(パーフルオロ(3−オキサ−4−ペンテンスルホニルフルオリド)(POPF))との共重合の後、加水分解し、さらに必要に応じてイオン交換することによって製造することができる。
本発明の導電性ポリマー組成物は、(i)フッ素化酸ポリマーの存在下で前駆体モノマーを重合させることによって;または(ii)本質的に導電性のコポリマーを形成し、それをフッ素化酸ポリマーと混合することによって調製される。
一実施形態においては、本発明の導電性ポリマー組成物は、フッ素化酸ポリマーの存在下での前駆体モノマーの酸化重合によって形成される。一実施形態においては、前駆体モノマーは、2つ以上の導電性前駆体モノマーを含む。一実施形態においては、これらのモノマーは、構造A−B−Cを有する中間前駆体モノマーを含み、式中、AおよびCは、同じかまたは異なっていてもよい導電性前駆体モノマーを表しており、Bは、非導電性前駆体モノマーを表している。一実施形態においては、この中間前駆体モノマーは、1つまたは複数の導電性前駆体モノマーとともに重合される。
(a)フッ素化酸ポリマーの水溶液または分散体を提供するステップと;
(b)ステップ(a)の溶液または分散体に酸化剤を加えるステップと;
(c)ステップ(b)の混合物に前駆体モノマーを加えるステップとを含む。
一実施形態においては、本質的に導電性のポリマーが、フッ素化酸ポリマーとは別に形成される。一実施形態においては、これらのポリマーは、対応するモノマーを水溶液中で酸化重合させることによって調製される。一実施形態においては、酸化重合は水溶性酸の存在下で行われる。一実施形態においては、この酸は、水溶性非フッ素化ポリマー酸である。一実施形態においては、この酸は、非フッ素化ポリマースルホン酸である。この酸の一部の非限定的な例は、ポリ(スチレンスルホン酸)(「PSSA」)、ポリ(2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸)(「PAAMPSA」)、およびそれらの混合物である。酸化重合によって、正電荷を有するコポリマーが得られる場合、その酸の陰イオンが導電性ポリマーの対イオンとなる。この酸化重合は、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、およびそれらの混合物などの酸化剤を使用して行われる。
合成された時点では、本発明の導電性コポリマー組成物の水性分散体は、一般に非常に低いpHを有する。一実施形態においては、デバイスの性質に悪影響を与えずに、pHをより高い値に調整される。一実施形態においては、分散体のpHは約1.5〜約4に調整される。一実施形態においては、pHは3〜4の間に調整される。pHは、イオン交換、または塩基性水溶液を使用した滴定などの周知の技術を使用して調整できることが分かっている。
プライマー層130は、正孔注入層上の層の溶液堆積を促進する。プライマー層は、正孔注入層の表面エネルギーよりも高い表面エネルギーを有する。プライマー層によって、正孔を正孔注入層からEL層に輸送することができ、プライマー層は最終デバイスの性能を大きく低下させることはない。
Arはアリーレン基であり;
Ar’およびAr”は独立にアリール基から選択され;
R24〜R27は独立に、水素、アルキル、アリール、ハロゲン、ヒドロキシル、アリールオキシ、アルコキシ、アルケニル、アルキニ(alkyny)、アミノ、アルキルチオ、ホスフィノ、シリル、−COR、−COOR、−PO3R2、−OPO3R2、およびCNからなる群から選択され;
Rは、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、およびアミノからなる群から選択され;
mおよびnは、それぞれ独立に0〜5の値を有する整数であり、m+n≠0である。
所望の色を発する限りはあらゆるエレクトロルミネッセンス(「EL」)材料を層140に使用することができる。ある実施形態においては、所望の色は赤色、緑色、および青色から選択される。エレクトロルミネッセンス材料としては、小分子有機蛍光化合物、蛍光性およびリン光性の金属錯体、共役ポリマー、およびそれらの混合物が挙げられる。蛍光化合物の例としては、ピレン、ペリレン、ルブレン、クマリン、それらの誘導体、およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。金属錯体の例としては、トリス(8−ヒドロキシキノラト)アルミニウム(Alq3)などの金属キレート化オキシノイド化合物;ペトロフ(Petrov)らの米国特許公報(特許文献13)、ならびに(特許文献14)および(特許文献15)に開示されるような、フェニルピリジン配位子、フェニルキノリン配位子、またはフェニルピリミジン配位子を有するイリジウムの錯体などのシクロメタレート化イリジウムおよび白金エレクトロルミネッセンス化合物、ならびに、たとえば(特許文献16)、(特許文献17)、および(特許文献18)に記載されるような有機金属錯体、ならびにそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。電荷輸送ホスト材料と金属錯体とを含むエレクトロルミネッセンス発光層が、トンプソン(Thompson)らの米国特許公報(特許文献19)、ならびにバローズ(Burrows)およびトンプソン(Thompson)の(特許文献20)、および(特許文献21)に記載されている。共役ポリマーの例としては、ポリ(フェニレンビニレン)、ポリフルオレン、ポリ(スピロビフルオレン)、ポリチオフェン、ポリ(p−フェニレン)、それらのコポリマー、およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Aは、それぞれ同じかまたは異なり、3〜60個の炭素原子を有する芳香族基であり;
Qは、単結合、または3〜60個の炭素原子を有する芳香族基であり;
nおよびmは独立に1〜6の整数である。
Yは、それぞれ同じかまたは異なり、3〜60個の炭素原子を有する芳香族基であり;
Q’は、芳香族基、二価のトリフェニルアミン残基、または単結合である。
An−L−An
上式中:
Anはアントラセン部分であり;
Lは二価の連結基である。
A−An−A
上式中:
Anはアントラセン部分であり;
Aは芳香族基である。
A’は、それぞれ同じかまたは異なり、芳香族基またはアルケニル基であり;
nは、それぞれ同じかまたは異なり、1〜3の整数である。
aは1、2、または3であり;
bは0、1、または2であり;
a+bの合計は3であり;
R28は、H、F、またはアルキルであり;
R29は、それぞれ同じかまたは異なり、H、D、F、アルキル、アルコキシル、トリアルキルシリル、トリアリールシリ(triarylsily)、およびアリールからなる群から選択され;
R30は、それぞれ同じかまたは異なり、アルキルまたはアリールであり;
R31は、Hまたはアルキルである。
本発明のデバイスの他の層は、そのような層において有用となることが知られているあらゆる材料でできていてよい。本発明のデバイスは、アノード層110またはカソード層160に隣接することができる支持体または基体(図示せず)を含むことができる。最も頻繁には、支持体はアノード層110に隣接している。支持体は、可撓性でも剛性でもよいし、有機でも無機でもよい。一般に、ガラスまたは可撓性有機フィルムが支持体として使用される。アノード層110は、カソード層160よりも正孔の注入が効率的である電極である。アノードは、金属、混合金属、合金、金属酸化物、または混合酸化物を含有する材料を含むことができる。好適な材料としては、2族元素(すなわち、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ra)の混合酸化物、11族元素、4族、5族、および6族の元素、ならびに8〜10族の遷移元素が挙げられる。アノード層110を光透過性にするためには、インジウム・スズ酸化物などの12族、13族、および14族の元素の混合酸化物を使用することができる。本明細書において使用される場合、語句「混合酸化物」は、2族元素、あるいは12族、13族、または14族の元素から選択される2つ以上の異なる陽イオンを有する酸化物を意味する。アノード層110の材料の一部の非限定的な具体例としては、インジウム・スズ酸化物(「ITO」)、アルミニウム・スズ酸化物、金、銀、銅、およびニッケルが挙げられるが、これらに限定されるものではない。アノードは、ポリアニリン、ポリチオフェン、またはポリピロールなどの有機材料を含むこともできる。
本明細書に記載の新規方法は、少なくとも第1および第2のサブピクセル領域を有するマルチカラー有機発光ダイオードを形成するための方法である。この方法は:
パターン化されたアノードを基体上に形成するステップと、
導電性ポリマーとフッ素化酸ポリマーとを含むパターン化されていない連続正孔注入層をアノード上に形成するステップとを有し;
第1のサブピクセルと第2のサブピクセルとの間にはクロストークが実質的に観察されない。
正孔注入層上にパターン化されていない連続プライマー層を形成するステップと;
第1の液体組成物から第1のエレクトロルミネッセンス材料を前記第1のサブピクセル領域内に堆積するステップと;
第2の液体組成物から第2のエレクトロルミネッセンス材料を前記第2のサブピクセル領域内に堆積するステップと;
第3の液体組成物から第3のエレクトロルミネッセンス材料を前記第3のサブピクセル領域内に堆積するステップと;
カソードを堆積するステップとをさらに含み;
第1のエレクトロルミネッセンス材料が第1の色の光を発し、第2のエレクトロルミネッセンス材料が第2の色の光を発し、第3のエレクトロルミネッセンス材料が第3の色の光を発し、第1、第2、および第3の色が互いに異なる。
Claims (14)
- マルチカラー有機発光ダイオードの製造方法であって、前記ダイオードが複数の第1のサブピクセル領域および複数の第2のサブピクセル領域を含み、前記方法が:
パターン化されたアノードを基体上に形成するステップと、
導電性ポリマーとフッ素化酸ポリマーとを含むパターン化されていない連続正孔注入層を前記アノード上に形成するステップと、
パターン化されていない絶縁性の連続プライマー層を前記正孔注入層上に形成するステップであって、前記連続プライマー層は、ビニルポリマー、ビニルオリゴマー、(メタ)アクリレートポリマーおよび(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される材料で形成され、前記連続プライマー層は50Å以下の厚さを有するステップと、
を含み;
前記第1のサブピクセルと前記第2のサブピクセルとの間にはクロストークが実質的に観察されないことを特徴とする方法。 - 第1の液体組成物から第1のエレクトロルミネッセンス材料を前記第1のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと;
第2の液体組成物から第2のエレクトロルミネッセンス材料を前記第2のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと;
カソードを堆積するステップと
をさらに含み;
前記第1のエレクトロルミネッセンス材料が第1の色の光を発し、前記第2のエレクトロルミネッセンス材料が第2の色の光を発し、前記第1の色が前記第2の色とは異なることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記ダイオードが複数の第3のサブピクセル領域をさらに含み、前記方法が:
第1の液体組成物から第1のエレクトロルミネッセンス材料を前記第1のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと;
第2の液体組成物から第2のエレクトロルミネッセンス材料を前記第2のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと;
第3の液体組成物から第3のエレクトロルミネッセンス材料を前記第3のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと;
カソードを堆積するステップと
をさらに含み;
前記第1のエレクトロルミネッセンス材料が第1の色の光を発し、前記第2のエレクトロルミネッセンス材料が第2の色の光を発し、前記第3のエレクトロルミネッセンス材料が第3の色の光を発し、前記第1、第2、および第3の色が互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記導電性ポリマーが、少なくとも10-7S/cmの導電率を有するフィルムを含むことを特徴とする請求項1、2または3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記導電性ポリマーがコポリマーであることを特徴とする請求項1、2または3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記導電性ポリマーが、ポリチオフェン、ポリセレノフェン、ポリ(テルロフェン)、ポリピロール、ポリアニリン、および多環式芳香族、ならびにそれらのコポリマーからなる群から選択されることを特徴とする請求項1、2または3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記フッ素化酸ポリマーが、酸性基と、ポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される1つまたは複数のポリマー主鎖とを有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ポリマー主鎖がフッ素化されていることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記ポリマー主鎖中の炭素に結合した水素の少なくとも50%がフッ素で置換されていることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記ポリマー主鎖が完全フッ素化されていることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記酸性基が、スルホン酸基およびスルホンイミド基から選択されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記酸性基がフッ素化側鎖上に存在することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記フッ素化酸ポリマーが、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびエーテルスルホンイミドから選択される基であるフッ素化ペンダント基を有するフッ素化オレフィン主鎖を有することを特徴とする請求項1または7に記載の方法。
- 前記フッ素化酸ポリマーが、フッ素化および部分スルホン化ポリ(アリーレンエーテルスルホン)のホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする請求項1または7に記載の方法。
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US20080213624A1 (en) * | 2007-02-28 | 2008-09-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Organic electronic device |
JP2010114070A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Canon Inc | 白色有機el素子 |
CN104022232B (zh) * | 2010-01-20 | 2017-01-18 | 株式会社日立制作所 | 有机发光层材料及其涂布液、有机发光元件以及光源装置 |
DE102010009193B4 (de) | 2010-02-24 | 2022-05-19 | MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Zusammensetzung enthaltend Fluor-Fluor Assoziate, Verfahren zu deren Herstellung, deren Verwendung sowie organische elektronische Vorrichtung diese enthaltend |
FR2958455B1 (fr) * | 2010-04-06 | 2015-06-26 | Commissariat Energie Atomique | Diode electroluminescente organique comportant au moins deux couches electroluminescentes. |
US20140346468A1 (en) * | 2013-05-27 | 2014-11-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device having a channel in pixel defining layer |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6579630B2 (en) * | 2000-12-07 | 2003-06-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Deuterated semiconducting organic compounds used for opto-electronic devices |
JP4003824B2 (ja) * | 2001-07-11 | 2007-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 発光素子 |
EP1285957A3 (en) * | 2001-08-20 | 2005-12-21 | TDK Corporation | Organic electroluminescent device and method of its preparation |
JP2004145244A (ja) * | 2002-01-25 | 2004-05-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
KR100490539B1 (ko) * | 2002-09-19 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계 발광소자 및 그 제조방법 |
ATE404609T1 (de) * | 2002-09-24 | 2008-08-15 | Du Pont | Wasserdispergierbare polythiophene hergestellt unter verwendung von kolloiden auf basis von polymersäuren |
JP3867659B2 (ja) * | 2002-11-26 | 2007-01-10 | ソニー株式会社 | 有機電界発光素子の製造方法 |
JP4274374B2 (ja) * | 2003-01-30 | 2009-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 正孔注入層用材料、有機el素子及び有機elディスプレイ |
JP4001118B2 (ja) * | 2003-03-24 | 2007-10-31 | ソニー株式会社 | 有機電界発光素子及びアミノモノスチリルナフタレン化合物 |
US7686978B2 (en) * | 2003-09-24 | 2010-03-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for the application of active materials onto active surfaces and devices made with such methods |
KR20060115886A (ko) * | 2003-11-20 | 2006-11-10 | 버지니아 테크 인터렉추얼 프라퍼티스, 인크. | 양자 교환 멤브레인용의 친수성-소수성 부분을 함유하는다중블록 공중합체 |
US20050175861A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-08-11 | H.C. Starck Gmbh | Polythiophene compositions for improving organic light-emitting diodes |
US7351358B2 (en) * | 2004-03-17 | 2008-04-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications |
KR100736521B1 (ko) * | 2004-06-09 | 2007-07-06 | 삼성전자주식회사 | 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법 |
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