JP5199217B2 - Pellicle - Google Patents
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Description
本発明は、半導体デバイス、プリント基板あるいは液晶ディスプレイなどを製造する際の防塵カバーとして使用されるペリクルに関するものであり、さらに詳細には、貼り替えが容易なペリクルに関するものである。 The present invention relates to a pellicle used as a dust-proof cover when manufacturing a semiconductor device, a printed circuit board, a liquid crystal display, or the like, and more particularly to a pellicle that can be easily attached.
LSI、超LSIなどの半導体デバイスあるいは液晶ディスプレイを製造するにあたっては、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に、フォトマスクやレチクル(以下、これらを総称して、フォトマスクという。)を介して、露光用の光が照射されて、フォトマスクのパターンが転写される。 In manufacturing a semiconductor device such as an LSI or a VLSI or a liquid crystal display, a semiconductor wafer or a liquid crystal master plate is exposed to light via a photomask or a reticle (hereinafter collectively referred to as a photomask). Light is irradiated to transfer the pattern of the photomask.
したがって、この場合に、フォトマスクにゴミなどの異物が付着していると、この異物によって、露光用の光が反射され、あるいは、吸収されるため、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に転写されたパターンが変形したり、パターンのエッジ部分が不鮮明になり、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に、所望のように、フォトマスクのパターンを転写することができず、半導体デバイスあるいは液晶ディスプレイの性能が低下し、歩留まりが悪化するという問題があった。 Therefore, in this case, if foreign matter such as dust adheres to the photomask, the exposure light is reflected or absorbed by the foreign matter, so the pattern transferred to the semiconductor wafer or the liquid crystal master plate Or the edge of the pattern becomes unclear, the photomask pattern cannot be transferred to the semiconductor wafer or the liquid crystal master as desired, and the performance of the semiconductor device or the liquid crystal display is reduced. There was a problem that the yield deteriorated.
かかる問題を防止するために、半導体ウエハーあるいは液晶用原板の露光は、クリーンルーム内で行われるが、それでも、フォトマスクの表面に異物が付着することを完全に防止することは困難であるため、通常は、フォトマスクの表面に、露光用の光に対し高い透過率を有するペリクルと呼ばれる防塵カバーを取り付けて、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光するように構成されている。 In order to prevent such a problem, the exposure of the semiconductor wafer or the liquid crystal master plate is performed in a clean room, but it is still difficult to completely prevent foreign matter from adhering to the surface of the photomask. Is configured such that a dust-proof cover called a pellicle having a high transmittance with respect to light for exposure is attached to the surface of a photomask to expose a semiconductor wafer or a liquid crystal master.
ペリクルは、一般に、ニトロセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂やフッ化樹脂などによって、露光用の光に対し高い透過率を有するペリクル膜を作製し、アルミニウム、ステンレススチール、ポリエチレンなどによって形成されたペリクルフレームの一方の面に、ペリクル膜を接着し、ペリクルフレームの他方の端面に、フォトマスクを接着するためのポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などからなる粘着剤層を形成し、さらに、粘着剤層の表面に、粘着剤層を保護する保護シート(セパレータ)を付着させることによって作製されている。 The pellicle is generally formed of aluminum, stainless steel, polyethylene, etc. by producing a pellicle film having a high transmittance with respect to light for exposure using a cellulose-based resin such as nitrocellulose or cellulose acetate or a fluorinated resin. A pellicle film is adhered to one surface of the pellicle frame, and an adhesive layer made of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin, etc. is formed on the other end surface of the pellicle frame. Further, the protective sheet (separator) for protecting the pressure-sensitive adhesive layer is attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
このように構成されたペリクルをフォトマスクの表面に取り付けて、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光する場合には、ゴミなどの異物は、ペリクルの表面に付着し、フォトマスクの表面には直接付着しないため、フォトマスクに形成されたパターン上に、焦点が位置するように、露光用の光を照射すれば、ゴミなどの異物の影響を除去することが可能になる。 When a pellicle configured in this way is attached to the surface of a photomask and a semiconductor wafer or liquid crystal master is exposed, foreign substances such as dust adhere to the surface of the pellicle and directly adhere to the surface of the photomask. Therefore, if the exposure light is irradiated so that the focal point is positioned on the pattern formed on the photomask, the influence of foreign matters such as dust can be removed.
このようにして作製されたペリクルをフォトマスクに貼り付けるにあたっては、まず、ペリクルとフォトマスク相互の位置関係を調整した後、ペリクルフレームをフォトマスクと平行に一定時間加圧することによって、フォトマスクにペリクルが貼り付けられる。 When a pellicle manufactured in this way is attached to a photomask, first, after adjusting the positional relationship between the pellicle and the photomask, the pellicle frame is pressed in parallel with the photomask for a certain period of time, whereby the photomask is applied. The pellicle is pasted.
このように、フォトマスクに貼り付けられたペリクルを介して、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光する場合に、使用するにつれて、ペリクル膜に無視できない大きさの領域に汚れが付着したり、傷がつくなど、ペリクル膜が破損したときには、ペリクルをフォトマスクから剥離することが要求される。 In this way, when a semiconductor wafer or a liquid crystal master is exposed through a pellicle affixed to a photomask, the pellicle film becomes contaminated with a region that cannot be ignored or scratched as it is used. When the pellicle film is damaged, such as sticking, it is required to peel the pellicle from the photomask.
図10は、ペリクルをフォトマスクから剥離する場合の従来の剥離方法を示す略正面図である。 FIG. 10 is a schematic front view showing a conventional peeling method when peeling a pellicle from a photomask.
図10に示されるように、従来は、フォトマスク25とペリクルフレーム11との間に、先端に薄い突起が形成された剥離治具40を差し込んで、梃子の原理で、ペリクルフレーム11を持ち上げて、粘着剤層16をフォトマスク25から剥離したり、あるいは、フレーム外側面に形成された丸孔にピン状の治具を差し込んで、梃子の原理で、ペリクルフレーム11を持ち上げて、粘着剤層16をフォトマスク25から剥離したりする方法が一般的であった。
As shown in FIG. 10, conventionally, a
これら従来の方法は、簡便で、容易に、ペリクルをフォトマスク25から剥離することができるが、粘着剤層16とフォトマスク25との間の接着力以上の力を加えて、強制的に、フォトマスク25の面から、ペリクルフレーム11を引き剥がすものであるため、剥離後に、フォトマスク25の表面に残る粘着剤の量が多くなり、フォトマスク25を洗浄するのに多くの時間と労力を要するという問題があった。のみならず、従来の剥離方法にあっては、フォトマスク25からペリクルフレーム11を引き剥がす際に、粘着剤層16がフォトマスク25のパターンに付着して、パターンを傷つけたり、汚染したりするという問題があった。加えて、大型のペリクルの場合には、その辺長が長いため、一部分ずつ、ペリクルフレーム11をフォトマスク25から剥離していかなくてはならないが、フォトマスク25から剥離したペリクルフレーム11の部分が再び、フォトマスク25に接着しないように、ペリクルフレーム11を剥離する必要があり、作業性が悪いという問題もあった。
These conventional methods are simple and easy to peel the pellicle from the
このため、特開2006−146085号公報(特許文献1)は、フォトマスクとペリクルフレームの間から、粘着剤層をそのまま引きずり出して、除去することによって、フォトマスクからペリクルフレームを剥離する方法を提案している。 For this reason, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-146085 (Patent Document 1) proposes a method of peeling the pellicle frame from the photomask by dragging and removing the adhesive layer as it is between the photomask and the pellicle frame. doing.
この方法は、ペリクルフレーム剥離後のフォトマスク面に残る粘着剤の量が少なくなるという利点があるが、フォトマスクとペリクルフレームの間から、最初に粘着剤層を引きずり出すのが難しいという問題があった。すなわち、フォトマスクとペリクルフレームの間から、粘着剤層をそのまま引きずり出す方法としては、図11(a)に示されるように、ピンセット50を用いて、フォトマスク25とペリクルフレーム11の間から、粘着剤層16を掴み出す方法や、図11(b)に示されるように、粘着性物質32を付着させた金属薄板31よりなる粘着剤層引き出し具33を用いて、粘着剤層16を粘着性物質32に付着させて、フォトマスク25とペリクルフレーム11との間から引きずり出す方法が知られているが、粘着剤層16がフォトマスク25とペリクルフレーム11の間から露出していない場合には、図11(a)に示される方法にあっては、ピンセット50により、粘着剤層16を掴むことが困難で、一方、図11(b)に示される方法にあっては、粘着剤層引き出し具33をフォトマスク25とペリクルフレーム11との間に挿入して、確実に、粘着剤層16を粘着性物質32に付着させることが困難であり、作業性が悪い上、フォトマスク25のパターン面を傷つけてしまうおそれがある。特に、ペリクルフレーム11の幅が広い大型のペリクルの場合には、粘着剤層16は全幅にわたっては設けられず、内側のみに設けられることが多く、したがって、ペリクルの外側面には粘着剤層16が露出していないため、所望のように、フォトマスク25とペリクルフレーム11の間から粘着剤層16を引きずり出すことはきわめて困難であった。
This method has an advantage that the amount of the adhesive remaining on the photomask surface after peeling the pellicle frame is reduced, but there is a problem that it is difficult to first drag out the adhesive layer from between the photomask and the pellicle frame. It was. That is, as a method of dragging the adhesive layer as it is from between the photomask and the pellicle frame, as shown in FIG. 11A, the
このため、特許文献1によって提案された方法は、ペリクルフレーム剥離後のフォトマスク面に残る粘着剤の量が少なくなるという利点があるにもかかわらず、実用化されてはいない。 For this reason, the method proposed by Patent Document 1 has not been put into practical use in spite of the advantage that the amount of the adhesive remaining on the photomask surface after peeling the pellicle frame is reduced.
したがって、本発明は、フォトマスクとペリクルフレームの間から、粘着剤層を容易に除去し、フォトマスクから剥離することができるペリクルを提供することを目的とするものである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a pellicle capable of easily removing an adhesive layer from between a photomask and a pellicle frame and peeling it from the photomask.
本発明のかかる目的は、ペリクルフレームのフォトマスクに対向する一方の表面に、前記ペリクルフレームの内側から、前記ペリクルフレームの幅の80%以下の領域にのみ、粘着剤層が形成され、前記粘着剤層が形成された前記ペリクルフレームの一方の表面と前記ペリクルフレームの外表面との間に、前記ペリクルフレームの他方の表面に向けて、10度ないし30度の角度で傾斜する傾斜面を備えたことを特徴とするペリクルによって達成される。 An object of the present invention is to form an adhesive layer on one surface of the pellicle frame facing the photomask only from the inside of the pellicle frame only in an area of 80% or less of the width of the pellicle frame. An inclined surface that is inclined at an angle of 10 degrees to 30 degrees toward the other surface of the pellicle frame is provided between one surface of the pellicle frame on which the agent layer is formed and the outer surface of the pellicle frame. This is achieved by a pellicle characterized by that.
本発明によれば、ペリクルフレームの一方の表面の少なくとも四隅に、ペリクルフレームの内側から、ペリクルフレームの幅の80%以下の領域にのみ、粘着剤層が形成されている場合においても、ペリクルフレームの他方の表面に向けて、傾斜する傾斜面が形成されているから、外部から、粘着剤層を容易に視認することができ、視認性が大幅に向上するだけでなく、粘着剤層を引きずり出すための道具を挿入する部分では、ペリクルフレームとフォトマスクとの間隙が広く、容易に、粘着剤層を掴み、引きずり出すことができるから、作業性が大幅に向上し、したがって、ペリクルフレーム剥離後のフォトマスク面に残る粘着剤の量が少なくなるという利点を生かしつつ、容易に、粘着剤層を引きずり出して、所望のように、ペリクルフレームをフォトマスク面から剥離することが可能になる。
本発明によれば、さらに、ペリクルフレームの一方の表面とペリクルフレームの外表面との間に、ペリクルフレームの他方の表面に向けて、10度ないし30度の角度で傾斜する傾斜面が形成されているから、ペリクルフレームの剛性低下を最小限にとどめ、ペリクル膜の張力によって、ペリクルフレームが変形するのを防止しつつ、粘着剤層の視認性および粘着剤層を引きずり出す際の作業性を大幅に向上させることが可能になる。
According to the present invention, even when an adhesive layer is formed at least at the four corners of one surface of the pellicle frame only in an area of 80% or less of the width of the pellicle frame from the inside of the pellicle frame, Since the inclined surface which inclines toward the other surface is formed, the adhesive layer can be easily visually recognized from the outside, and not only the visibility is greatly improved, but also the adhesive layer is dragged out. Since the gap between the pellicle frame and the photomask is wide at the part where the tool for inserting the tool is inserted, the adhesive layer can be easily grasped and dragged, so the workability is greatly improved. While taking advantage of the reduced amount of adhesive remaining on the photomask surface, the adhesive layer can be easily dragged out to make the pellicle film as desired. It is possible to peel the over arm from the photomask surface.
According to the present invention, furthermore, between one surface and the outer surface of the pellicle frame of the pellicle frame, toward the other surface of the pellicle frame, the inclined surfaces inclined is formed at an angle of from 10 degrees to 30 degrees Therefore, the rigidity of the pellicle frame is minimized and the tension of the pellicle membrane prevents the pellicle frame from being deformed, while greatly improving the visibility of the adhesive layer and the workability when dragging the adhesive layer. It becomes possible to improve.
本発明の好ましい実施態様においては、前記ペリクルフレームが4つ以上の辺を有し、前記ペリクルフレームの少なくとも1つの角部に、前記傾斜面が形成されている。 In a preferred embodiment of the present invention, the pellicle frame has four or more sides, and the inclined surface is formed at at least one corner of the pellicle frame.
本発明の好ましい実施態様によれば、ペリクルフレームの少なくとも1つの角部に、傾斜面が形成されているにとどまるから、ペリクルフレームの剛性低下を最小限にとどめ、ペリクル膜の張力によって、ペリクルフレームが変形することを防止することができ、その一方で、ペリクルフレームの少なくとも1つの角部に、傾斜面が形成されているから、傾斜面が形成された角部から、粘着剤層を引きずり出すための道具を挿入して、容易に、粘着剤層を引きずり出すことができ、所望のように、ペリクルをフォトマスク面から剥離することが可能になる。 According to a preferred embodiment of the present invention, since the inclined surface is only formed at at least one corner of the pellicle frame, the decrease in rigidity of the pellicle frame is minimized, and the tension of the pellicle film causes the pellicle frame to On the other hand, since the inclined surface is formed in at least one corner of the pellicle frame, the adhesive layer is pulled out from the corner where the inclined surface is formed. The pressure-sensitive adhesive layer can be easily pulled out by inserting the tool, and the pellicle can be peeled off from the photomask surface as desired.
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記ペリクルフレームの他方の表面に、接着剤層を介して、ペリクル膜が接着されている。 In a further preferred embodiment of the present invention, a pellicle film is bonded to the other surface of the pellicle frame via an adhesive layer.
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記粘着層がシリコーン樹脂を含んでいる。 In a more preferred embodiment of the present invention, the adhesive layer contains a silicone resin.
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記粘着剤層がシリコーン樹脂によって形成されている。 In a further preferred embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer is formed of a silicone resin.
本発明によれば、フォトマスクとペリクルフレームの間から、粘着剤層を容易に除去し、フォトマスクから剥離することができるペリクルを提供することが可能になる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the pellicle which can remove an adhesive layer easily from between a photomask and a pellicle frame, and can peel from a photomask.
図1は、本発明の好ましい実施態様にかかるペリクルフレームの略平面図である。 FIG. 1 is a schematic plan view of a pellicle frame according to a preferred embodiment of the present invention.
図1に示されるように、ペリクルフレーム11は四つの互いに約90度の角度をなす辺を有する四辺形形状をなし、その平坦な上表面に、フォトマスク(図示せず)を付着する粘着剤層(図示せず)が形成され、その平坦な下表面に、ペリクル膜(図示せず)を接着する接着剤層(図示せず)が形成されるように構成されている。
As shown in FIG. 1, the
図2は、図1に示されたペリクルフレーム11の各辺の略縦断面図であり、図3は、図1に示されたペリクルフレーム11の各角部の略縦断面図である。
2 is a schematic longitudinal sectional view of each side of the
図2および図3に示されるように、ペリクルフレーム11は、各角部を除き、互いに平行な上表面12と下表面13、すなわち、粘着層を形成すべき側の表面12(以下、「粘着層形成側表面」という。)と、ペリクル膜が接着されるべき側の表面13(以下、「ペリクル膜接着側表面」という。)を有する矩形断面をなし、各角部には、ペリクルフレーム11の粘着層形成側表面12からペリクル膜接着側表面13に向かって、傾斜面15が形成され、傾斜面15は、ペリクルフレーム11の粘着層形成側表面12と、角度αをなしている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
図4は、ペリクルフレーム11上に、粘着剤層が形成されたペリクルの略斜視図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view of a pellicle in which an adhesive layer is formed on the
図3および図4に示されるように、ペリクルフレーム11の各角部には、段差14が形成され、段差14の上に、シリコーン樹脂を含む粘着剤が塗布されて、粘着剤層16が形成されている。また、ペリクルフレーム11の各角部には、ペリクルフレーム11の粘着層形成側表面12からペリクル膜接着側表面13に向かって傾斜面15が形成されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, a
本実施態様においては、粘着剤層16は、ペリクルフレーム11の内側から外側に向かって、ペリクルフレーム11の幅の80%以下の領域上に形成され、粘着剤層16の表面がフォトマスク(図示せず)に付着されるように構成されている。
In the present embodiment, the pressure-
図3に示されるように、傾斜面15は、ペリクルフレーム11の粘着層形成側表面12とαの角度をなしている。
As shown in FIG. 3, the
本実施態様において、傾斜面15がペリクルフレーム11の粘着層形成側表面12となす角度αは、10度ないし30度であることが好ましい。角度αが30度を越えている場合には、傾斜面15の外側端部におけるペリクルフレーム11の厚さが薄くなりすぎて、ペリクルフレーム11のハンドリングが困難になり、一方、角度αが10度未満の場合には、粘着剤層16上にフォトマスク(図示せず)が形成されている場合に、ペリクルフレーム11とフォトマスクとの間隙が狭すぎて、粘着剤層16を視認することが困難になるだけでなく、ペリクルフレーム11とフォトマスクとの間隙に、粘着剤層引き出し具(図示せず)を挿入して、粘着剤層16を引きずり出しにくく、作業性を十分に向上させることができない。
In this embodiment, the angle α formed by the
図5および図6は、ペリクルから、粘着剤層を除去する方法を示す略斜視図であり、ペリクルを、図4とは反対側から見た図である。 5 and 6 are schematic perspective views showing a method of removing the pressure-sensitive adhesive layer from the pellicle, and the pellicle is viewed from the side opposite to FIG.
図5および図6に示されるように、ペリクル10は、ペリクル膜20をペリクルフレーム11に接着する接着剤層21と、フォトマスク25に付着した粘着剤層16(図5には図示されていない)を備えている。ここに、傾斜面15は、ペリクルフレーム11の下側に設けられているため、図5および図6には図示されていない。
As shown in FIGS. 5 and 6, the
フォトマスク25から、粘着剤層16を除去するにあたっては、図5に示されるように、ステンレスなどの金属薄板31の先端部表面に粘着性物質32を付着させた粘着剤層引き出し具33が、ペリクルフレーム11の角部に形成された傾斜面15(図5および図6には図示していない)とフォトマスク25の間に挿入される。
In removing the pressure-
その結果、粘着剤層引き出し具33の金属薄板31の先端部表面に付着された粘着性物質32と、フォトマスク25を付着している粘着剤層16とが付着する。
As a result, the
このとき、ペリクルフレーム11には傾斜面15が形成されているため、ペリクルフレーム11とフォトマスク25との間の間隙は広く、したがって、粘着剤層16を外部から容易に視認することができるだけでなく、粘着剤層引き出し具33をペリクルフレーム11とフォトマスク25との間に挿入して、容易に、かつ、確実に、粘着剤層引き出し具33の先端部に付着された粘着性物質32に粘着剤層16を付着させることができる。
At this time, since the
したがって、傾斜面15とフォトマスク25の間から、粘着剤層引き出し具33をゆっくりと引き出すと、図6に示されるように、粘着剤層引き出し具33の金属薄板31の先端部表面に付着された粘着性物質32に付着した粘着剤層16がフォトマスク25から引き剥がされて、粘着剤層16があたかも紐のように、引きずり出される。
Therefore, when the pressure-sensitive adhesive layer lead-out
このように、傾斜面15とフォトマスク25との間から、粘着剤層引き出し具33によって、粘着剤層16が紐のように引きずり出されるので、粘着剤層引き出し具33を、ペリクルフレーム11の周に沿って、移動させることによって、粘着剤層16を引きずり出すことができる。
Thus, since the
図7(a)、(b)、(c)、(d)、(e)および(f)は、ペリクルフレーム11の傾斜面(図7には図示されていない)とフォトマスク25の間から、粘着剤層16を引きずり出すプロセスを示す工程図である。
7 (a), (b), (c), (d), (e) and (f) are from between the inclined surface (not shown in FIG. 7) of the
図7(a)に示されるように、ペリクルフレーム11の角部に形成された傾斜面15とフォトマスク25との間の間隙に付着している粘着剤層16(図7(a)には図示されていない)に、粘着剤層引き出し具33を挿入し、粘着剤層引き出し具33の先端部に付着した粘着性物質32と粘着剤層16とを付着させる。
As shown in FIG. 7A, the
次いで、図7(b)に示されるように、傾斜面15とフォトマスク25との間から、粘着剤層引き出し具33をゆっくりと引き出すと、粘着剤層引き出し具33の先端部の粘着性物質32に付着した粘着剤層16があたかも紐のように、粘着剤層引き出し具33とともに引きずり出される。
Next, as shown in FIG. 7B, when the
このとき、二本の紐のような形で、粘着剤層16が引きずり出されると、作業がしにくいため、図7(c)に示されるように、紐状の粘着剤層16のうち、一方を鋏みなどの切断用具によって切断し、粘着剤層引き出し具33から切り離された紐状の粘着剤層16をピンセットなどの把持用具によって把持して、図7(d)、(e)および(f)に示されるように、紐状の粘着剤層16を把持した把持用具を、ペリクルフレーム11の周に沿って、移動させ、順次、紐状の粘着剤層16を引きずり出す。
At this time, when the pressure-
以上のとおり、本実施態様によれば、ペリクルフレーム11の角部に、ペリクルフレーム11の粘着層形成側表面12に対し、10度ないし30度の角度αをなす傾斜面15が形成されているから、ペリクルフレーム11とフォトマスク25との間隙が広く、外部から、容易に粘着剤層16を視認することができるだけでなく、粘着剤層引き出し具33をペリクルフレーム11とフォトマスク25との間に挿入して、容易に、かつ、確実に、粘着剤層引き出し具33の先端部に付着された粘着性物質32に粘着剤層16を付着させて、引きずり出し、フォトマスク25から剥離させることが可能になる。
As described above, according to this embodiment, the
図8は、本発明の別の好ましい実施態様にかかるペリクルを示し、傾斜面15が、ペリクルフレーム11の直線部分に形成され、ペリクルフレーム11の傾斜面15とフォトマスクとの間の空隙に、粘着剤層引き出し具33を挿入して、粘着剤層引き出し具33の先端部に付着した粘着性物質32と粘着剤層16とを付着させ、粘着剤層16を引きずり出す場合のペリクルのフォトマスクとの接触面を示している。
Figure 8 shows a pellicle according to another preferred embodiment of the present invention, the
図8に示されるように、本実施態様においては、傾斜面15が、ペリクルフレーム11の直線状部分に形成され、ペリクルフレーム11の傾斜面15とフォトマスク(図8には図示していない)との間の間隙に、粘着剤層引き出し具33を挿入して、粘着剤層引き出し具33の先端部に付着した粘着性物質32と粘着剤層16とを付着させ、粘着剤層16を引きずり出すように構成されている。
一方、図9は、本発明の他の好ましい実施態様にかかるペリクルとフォトマスクの接触面を示し、図1ないし図7に示された実施態様と同様に、傾斜面15が、ペリクルフレーム11の角部に形成されている。
図9に示されるように、本実施態様においては、傾斜面15が、ペリクルフレーム11の角部に形成され、ペリクルフレーム11の傾斜面15とフォトマスク(図9には図示していない)との間の間隙に、粘着剤層引き出し具33を挿入して、粘着剤層引き出し具33の先端部に付着した粘着性物質32と粘着剤層16とを付着させ、粘着剤層16を引きずり出すように構成されている。
As shown in FIG. 8, in this embodiment, the
On the other hand, FIG. 9 shows the contact surface of the pellicle and the photomask according to another preferred embodiment of the present invention, similarly to the embodiment shown in FIGS. 1 to 7, the
As shown in FIG. 9, in this embodiment, the
図8と図9を比較すると、粘着剤層16に加えられる引張り力に垂直な平面に、引張り力の作用点から所定の距離にある部分を投影したときの長さは、図8の場合の方が長く、したがって、抵抗が大きいため、図9のように、傾斜面15を、ペリクルフレーム11の角部に形成する方がより好ましい。
Comparing FIG. 8 and FIG. 9, the length when a portion at a predetermined distance from the point of application of the tensile force is projected on a plane perpendicular to the tensile force applied to the
以下、本発明の作用効果を明らかにするため、実施例を掲げる。 Examples are given below to clarify the operational effects of the present invention.
実施例
A5052アルミニウム合金の圧延板から、外寸1526×1748mm、内寸1493×1711mm、全体の厚さ6.2mm、粘着層を形成する側の一方の表面の内側に沿って、幅6mmで、高さ0.2mmの段差を設けた四辺形状のペリクルフレームを機械加工により製作した。
From a rolled plate of Example A5052 aluminum alloy, outer dimensions 1526 x 1748 mm, inner dimensions 1493 x 1711 mm, overall thickness 6.2 mm, along the inside of one surface on the side where the adhesive layer is formed, with a width of 6 mm, A quadrilateral pellicle frame provided with a step of 0.2 mm in height was manufactured by machining.
さらに、このペリクルフレームの4箇所の角部には、段差の外側にペリクル膜を接着する側の他方の表面に向かって、ペリクルフレームの一方の面と15度の角度をなす傾斜面を設けた。 Further, the four corners of the pellicle frame are provided with inclined surfaces that form an angle of 15 degrees with one surface of the pellicle frame toward the other surface on the side where the pellicle film is bonded to the outside of the step. .
機械加工終了後、ペリクルフレームの両表面をサンドブラスト処理し、さらに黒色アルマイト処理を施した。 After finishing the machining, both surfaces of the pellicle frame were sandblasted and further black anodized.
このペリクルフレームの他方の表面に、シリコーン粘着剤(信越化学工業株式会社製;商品名「KR3700」)をトルエンで希釈して、乾燥膜厚が約100μmとなるように塗布し、接着層を形成した。 A silicone adhesive (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; trade name “KR3700”) is diluted with toluene on the other surface of the pellicle frame and applied to a dry film thickness of about 100 μm to form an adhesive layer. did.
これに対して、ペリクルフレームの一方の表面には、シリコーン粘着剤(信越化学工業株式会社製;商品名「KR3700」)をトルエンで希釈して、ペリクルフレームの段差上に、ペリクルフレームの内側からの幅6mmとなるように、塗布して、粘着剤層を形成し、その厚さが約2mmとなるように仕上げた。 On the other hand, on one surface of the pellicle frame, a silicone adhesive (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; trade name “KR3700”) is diluted with toluene, and on the step of the pellicle frame, from the inside of the pellicle frame The pressure-sensitive adhesive layer was applied so as to have a width of 6 mm, and finished to a thickness of about 2 mm.
その後、ペリクルフレームを130℃の温度で加熱し、粘着剤層および接着剤層中の溶媒を除去するとともに、シリコーン粘着剤を完全に架橋させた。 Thereafter, the pellicle frame was heated at a temperature of 130 ° C. to remove the solvent in the pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer and to completely cross-link the silicone pressure-sensitive adhesive.
こうして、各角部に、図4に示されるように、段差14、粘着剤層16、傾斜面15が形成されたペリクルフレーム11が得られた。
In this way, a
次いで、表面を平滑に研磨した1620×1780mmの石英基板を洗浄し、乾燥した後に、その一方の面に、ダイコート法を用いて、フッ素樹脂(旭硝子株式会社製;商品名「サイトップ」)を、乾燥後膜厚が6μmとなるように塗布した。 Next, a 1620 × 1780 mm quartz substrate whose surface was polished smoothly was washed and dried, and then a fluororesin (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .; trade name “Cytop”) was applied to one surface thereof using a die coating method. The film was applied so that the film thickness after drying was 6 μm.
その後、フッ素樹脂の層が塗布された石英基板を、オーブンで200℃に加熱し、溶媒を除去した。 Thereafter, the quartz substrate coated with the fluororesin layer was heated to 200 ° C. in an oven to remove the solvent.
冷却後、フッ素樹脂層に枠状の膜剥離治具を接着し、石英基板からゆっくりと引き剥がして、ペリクル膜を得た。 After cooling, a frame-shaped film peeling jig was bonded to the fluororesin layer and slowly peeled off from the quartz substrate to obtain a pellicle film.
最後に、こうして得られたペリクル膜を、ペリクルフレーム11の接着層に貼り合わせ、外側の余剰部分をカッターにより切除した。
Finally, the pellicle film thus obtained was bonded to the adhesive layer of the
こうして、ペリクル10を作製した。
In this way, the
次いで、ペリクル10の粘着剤層16を、1620mm×1780mmのサイズで、厚さ17mmのCr膜付き石英基板フォトマスク25に、荷重400kgfで貼り付けた。
Next, the pressure-
その後、図5および図6に示されるように、ペリクル10の角部の傾斜面15とフォトマスク25との間の間隙に、粘着剤層引き出し具33を挿入して、ペリクル10の角部の傾斜面15とフォトマスク25との間から、粘着剤層16を引きずり出した。
Thereafter, as shown in FIG. 5 and FIG. 6, an adhesive
すなわち、ステンレス製の厚さ0.8mmの薄板31の先端部に、信越化学工業株式会社製のシリコーン粘着剤テープ32を付着させて、粘着剤層引き出し具33を作製し、得られた粘着剤層引き出し具33を、ペリクル10の角部の傾斜面15とフォトマスク25との間の間隙に挿入し、薄板31の先端部に付着されたシリコーン粘着剤テープ32と粘着剤層16とを付着させ、図6に示されるように、粘着剤層引き出し具33を引き出し、シリコーン粘着剤テープ32に付着している粘着剤層16を、ペリクル10の角部の傾斜面15とフォトマスク25との間から引きずり出し、図7(a)、(b)、(c)、(d)および(e)に示されるようにして、粘着剤層16を引きずり出し、図7(f)に示されるように、粘着剤層をすべて除去した。
That is, a silicone
これらの作業に要した時間は5分で、熟練した作業者でなくとも、容易に、粘着剤層をペリクル10の角部の傾斜面15とフォトマスク25との間から引きずり出すことができた。
The time required for these operations was 5 minutes, and even an unskilled worker could easily drag the adhesive layer from between the
こうして、粘着層剤層16を除去した後に、フォトマスク25の表面を目視で観察したところ、フォトマスク25の表面に残る粘着剤層16はほとんど観察されず、フォトマスク25の表面に残る粘着剤層16も、トルエンを浸潤したワイパーで軽く擦るだけで完全に除去することができた。
Thus, after removing the
比較例
傾斜面15を形成していない点を除き、上記実施例と全く同様にして、ペリクル10を作製した。
Comparative
次いで、上記実施例と全く同様にして、ペリクル10の粘着剤層16を、1620mm×1780mmのサイズで、厚さ17mmのCr膜付き石英基板フォトマスク25に、荷重400kgfで貼り付けた。
Next, the
その後、上記実施例と全く同様にして、作製された粘着剤層引き出し具33を、ペリクルフレーム11とフォトマスク25との間の間隙に挿入して、粘着剤層16を引きずり出そうとしたが、粘着剤層16を、粘着剤層引き出し具33の薄板31の先端部に付着した粘着性物質に、所望のように付着させることができず、粘着剤層16をペリクルフレーム11とフォトマスク25との間から引きずり出すことができなかった。
Thereafter, in the same manner as in the above embodiment, the prepared
同じ作業を繰り返しおこなったが、粘着剤層16をペリクルフレーム11とフォトマスク25との間から引きずり出すことができなかった。
The same operation was repeated, but the
以上の実施例および比較例から、ペリクルフレーム11に傾斜面15が形成されていない比較例の場合には、ペリクルフレーム11とフォトマスク25の間の粘着剤層16を、外部から視認することが困難であり、粘着剤層引き出し具33を、ペリクルフレーム11とフォトマスク25との間の間隙に挿入しても、粘着剤層16を、粘着剤層引き出し具33の薄板31の先端部に付着した粘着性物質に、所望のように付着させることができなかったのに対し、ペリクルフレーム11の角部に、粘着剤層16が形成されるべき面から接着剤層21が形成されるべき面に向かって、傾斜面15が形成されている本発明の実施例の場合には、ペリクルフレーム11とフォトマスク25の間の粘着剤層16を、外部から、容易に視認することができ、したがって、ペリクルフレーム11とフォトマスク25との間の間隙に挿入して、粘着剤層16を、粘着剤層引き出し具33の薄板31の先端部に付着した粘着性物質に、容易に、かつ、確実に付着させることができるから、粘着剤層16をペリクルフレーム11およびフォトマスク25の間から、容易に引きずり出して、フォトマスク25から剥離可能であることが判明した。
From the above examples and comparative examples, in the comparative example in which the
本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。 The present invention is not limited to the above embodiments and examples, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims, and these are also included in the scope of the present invention. It goes without saying that it is a thing.
たとえば、前記実施態様においては、ペリクルフレーム11はいずれも矩形形状を有しているが、ペリクルフレーム11が矩形形状を有していることは必ずしも必要ではなく、ペリクルフレーム11は、五角形や六角形など、矩形よりも角部が多い多角形形状を有していてもよく、さらには、円形など、角部がない形状を有していてもよい。
For example, in the above embodiment, the
さらに、図1ないし図7および図9に示された実施態様においては、傾斜面15がペリクルフレーム11の角部にのみ形成されているが、傾斜面15をペリクルフレーム11の角部にのみ形成することは必ずしも必要ではなく、ペリクルフレーム11の角部に加えて、ペリクルフレーム11の他の部分に傾斜面15を形成してもよく、さらには、ペリクルフレーム11の全周にわたって、傾斜面15を形成することもできる。ただし、ペリクルフレーム11の全周にわたり、傾斜面15を形成すると、ペリクルフレーム11の剛性が低下して、ペリクル膜の張力によって、ペリクルフレームが変形するおそれがあるので、ペリクルフレーム11の角部以外に、傾斜面15を設ける場合には、ペリクルフレーム11の全周ではなく、角部以外のペリクルフレーム11に数箇所の傾斜面15を形成するにとどめることが好ましい。
Further, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 7 and 9, the
また、前記実施例においては、ダイコート法を用いて、石英基板上に、フッ素樹脂を塗布して、ペリクル膜を形成しているが、ダイコート法を用いて、フッ素樹脂を石英基板上に塗布することは必ずしも必要でなく、スピンコート法、スリットアンドスピンコート法などによって、フッ素樹脂を石英基板上に塗布するようにしてもよい。 Moreover, in the said Example, although a fluororesin is apply | coated on a quartz substrate using the die coat method and the pellicle film is formed, a fluororesin is apply | coated on a quartz substrate using the die coat method. This is not always necessary, and the fluororesin may be applied onto the quartz substrate by a spin coating method, a slit and spin coating method, or the like.
さらに、本発明において、ペリクルフレームおよびペリクルのサイズは特に限定されるものではなく、一辺の長さが500mmを越え、ペリクルフレーム幅の広い液晶製造用途で使用されるペリクルにも、一辺の長さが150mm程度の半導体用途で使用される小型のペリクルにも適用することができ、そのサイズやその用途は特に限定されるものではない。 Further, in the present invention, the size of the pellicle frame and the pellicle is not particularly limited, and the length of one side of the pellicle used for liquid crystal manufacturing with a wide pellicle frame width is longer than 500 mm. Can be applied to a small pellicle used in a semiconductor application of about 150 mm , and the size and use thereof are not particularly limited.
また、前記実施例においては、フッ素樹脂を用いて、ペリクル膜を形成しているが、ニトロセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂によってペリクル膜を形成することもできる。 Moreover, in the said Example, the pellicle film | membrane is formed using a fluororesin, However, A pellicle film | membrane can also be formed with cellulose resin, such as a nitrocellulose and a cellulose acetate.
10 ペリクル
11 ペリクルフレーム
12 ペリクルフレームの粘着剤層が形成されるべき表面
13 ペリクルフレームのペリクル膜が接着されるべき表面
14 段差
15 傾斜面
16 粘着剤層
20 ペリクル膜
21 接着剤層
25 フォトマスク
31 金属薄板
32 粘着性物質
33 粘着剤層引き出し具
40 剥離治具
50 ピンセット
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